等离子熔覆WC复合厚涂层特性研究
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在涂层横截面测量显微硬度 , 测量荷载为 10 。 0g
3 结果 和 讨 论
31微 观 结构和 成分 分析 .
1 %, . 佘下为 WC 硬度为 H C 5 5 。 5 , R 4~ 5 金属基体特别 选 择 具 有 优 良 自熔 性 的 N 基 合 金 中的 N6A。 i i 0
N 6 A 的化 学 成分和 硬度如 表 l 示 。 i0 所
图l 显示 的是 等离子熔覆涂层 的横截 面 S M E
照 片 。明显 可 以看 出涂层 界面 呈现 弧状 , 这是 由于对
பைடு நூலகம்
于等离子弧来说 ,中间等离子弧能量密度大而两侧
表 1 i0 化 学 成分 和硬 度 N6 A
T b Ch mia o o io n ad e s o 6 A a .1 e c l mp st na d h rn s fNi0 c i
捅 要
将 N 基合金和 N 包 WC粉末混合均匀后事先涂覆在低碳 钢基体上 ,通过非压缩弧等离子熔覆设备在低碳 钢上制备 N 包 i i i WC复合厚涂层 。涂层分为三种重量百分比 N 包 WC粉末 , i 分别为 5 1%,5 %,0 1%。应用 x衍射 ( R 、 X D)光学显微镜 ( M)扫描 O 、 电镜 ( E 、 S M)能谱仪( DS 和显微硬度分析对涂层 成分 、 E ) 微观结构和显微硬度进行分析 。 结果显示涂层和基体之间形成冶金结合 , X D显示主要的相是 一 i R N 周溶体 , 以及 Fa F 相和 M M 相 。 e B、 e C、 发现等离子熔覆 区的显微硬度随着 N 包 WC粉末含量 i 的增加而提高。 关键词 等离子熔覆 , 显微硬度 , WC
和氧化物 形 成 。在表 面焊 接 ( ed sr c g 过 程 , w l—uf i ) an
等离子设备成本低于激光设备。所以等离子弧经常
在材料研究 中被用作制备新型材料的加热源 1 。
本研究中 , 通过三种不 同含量 N 包 WC粉末制 i
备等离子熔覆 N 包 WCN 基合金 MMC涂层, i /i 分析
涂层成分 , 微观结构和显微硬度。
合金粉末和基体金属表面 同时熔化 ,然后凝固形成
收稿 日 : 0 - 2 2 期 2 6 1— 0 0
基 金项 目: 本研究获得江苏省 自 然科学基金资助( 编号 :K 04 1) B 20 17
通讯联系人: ,- a:hbn @ i . m 胡冰 E m in ui s a o li g n c
使用图象分析软件测定涂层的空隙率( I S2 ) C MA . , 0
熔覆在 4 钢基体上 , 5 使用三种含量 的 N 包 WC 重 i (
量百分比 )为 , l 口5 1%。Ni WC粉末是益阳生 包
产 ,其 化 学 成 分 ( 量 百 分 比 ) 1 %,杂 质 低 于 重 Ni2
等 离子 熔 覆 WC复合厚 涂层 特 性研 究
胡 冰 贺 子 义 陆 益 军 z 张 京 贤 王 萍 吴 玉萍 林 萍华 谢 国治
(, 农业 大学 天美 电镜 技 术合作 示 范 实验 室 ,1052河 海大 学材 料科 学与工程 系, 1 南京 209 ;, 南京 :108 209 )
涂和表面焊接 ( e —uf ig处理的缺点。 w l sr c ) d an 然而 , 激 光能量转换效率低 , 设备昂贵 , 只能处理大尺寸试样
而限制 了其 应用 。
粘结剂中嵌有硬而脆 的碳化物颗粒而受到越来越多 的关注。 众所周知 , 一 碳 金属基复合材料对所有类型
的磨损都具有很高的磨损抗力 ,这是因为硬颗粒嵌 在韧性基体中 , 能够减少塑性变形带来的应力。WC
中图分类号 :Q1 47 文献标识码 : T 7 _5 A
熔覆涂层 ,熔化的基体金属改变了熔覆涂层的化学
1 前 言
控制和减少磨损是涂层研究中非常重要 的一个
方 面 。 t txcmpse( meamai o oi s l r t MMC) 由于在韧 性金 属
成分和性能 。 激光熔覆是一种相对较新的技术 。 近 年来 , 具有高的沉积率 , 的热 量输 出, 低 良好的处理 环境的激光熔覆 已经成为最有前途的工艺之一 。通 过精确控制处理参数 ,激光熔覆处理能够克服热喷
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第2 8卷第 1 期
20 0 7年 3月
《 瓷学报 》 陶
J 0U RNAL 0F CERA M I CS
Vo1 . 1 . NO. 28 M a .00 r2 7
文 章 编 号 :00 2 7 (0 7 0 — 0 4 0 10 — 2 8 2 0 )1 0 3— 5
作为一种压缩弧 ,等离子弧具有高能量密度和 极高的温度 ,等离子喷嘴的温度超过 100 。 等 00 o C
具 有 优 良的磨 损抗 力 ,特 别 是 作 为 硬 面材 料 的 WCW ̄ WC C , o N 通常是用作粘结剂, / C或 - oC 或 i 但 是 WC优良特性依赖于磨损机理和涂层微观结构之
间的 关系 1 之。
离子弧被广泛的应用在传统 的金属加工 ,如等离子
喷涂 , 等离子焊接 , 等离子切割等 。等离子加工和激 光加工一样 , 操作容易 , 方便获得高能等离子弧 , 但
熔覆处理 , 如喷涂、 r c g和激光熔覆 , s fi uan 适合制
备相对较厚 、 能抗磨损和腐蚀的涂层 。在热喷涂过程 中 获得 的涂层, 除了超音速火焰喷涂 ( V F , H O )涂 层和基体的结合力较低且一般 ,并且涂层还有空隙
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《 陶瓷学报) 0 7年第 1期 ) 0 2
2 实 验
涂层 由 N 包 WC颗 粒 分 布在 金属 基体 中组 成 , i
( OM) 扫描 电镜 (E ) 行 微观 结 构分 析 , 谱仪 和 SM 进 能 ( D ) 析 涂层 成 分 , E S分 x衍 射 ( ) 析 涂 层物 相 , Ⅺ 分