4结构陶瓷
- 格式:ppt
- 大小:15.41 MB
- 文档页数:62
氮化硅简介氮化硅,分子式为Si3N4,是一种重要的结构陶瓷材料。
它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损,为原子晶体;氮化硅除氢氟酸外,它不与其他无机酸反应(反应方程式:Si3N4+16HF═3SiF4↑+4NH4F),抗腐蚀能力强,高温时抗氧化。
而且它还能抵抗冷热冲击,在空气中加热到1 000 ℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂。
正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性,人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。
如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面,不仅可以提高柴油机质量,节省燃料,而且能够提高热效率。
我国及美国、日本等国家都已研制出了这种柴油机。
应用【氮化硅的应用】氮化硅用做高级耐火材料,如与sic结合作SI3N4-SIC耐火材料用于高炉炉身等部位;如与BN结合作SI3N4-BN材料,用于水平连铸分离环。
SI3N4-BN系水平连铸分离环是一种细结构陶瓷材料,结构均匀,具有高的机械强度。
耐热冲击性好,又不会被钢液湿润,符合连珠的工艺要求。
见下表更多信息物理性质相对分子质量140.28。
灰色、白色或灰白色。
六方晶系。
晶体呈六面体。
密度3.44。
硬度9~9.5,努氏硬度约为2200,显微硬度为32630MPa。
熔点1900℃(加压下)。
通常在常压下1900℃分解。
比热容为0.71J/(g·K)。
生成热为-751.57kJ/mol。
热导率为16.7W/(m·K)。
线膨胀系数为2.75×10-6/℃(20~1000℃)。
不溶于水。
溶于氢氟酸。
在空气中开始氧化的温度1300~1400℃。
比体积电阻,20℃时为1.4×105 ·m,500℃时为4×108 ·m。
弹性模量为28420~46060MPa。
耐压强度为490MPa(反应烧结的)。
1285摄式度时与二氮化二钙反应生成二氮硅化钙,600度时使过渡金属还原,放出氮氧化物。
1陶瓷烧结过程中影响气孔形成的因素有哪些?(1)煅烧温度过低、时间过低 (2)煅烧是时原料中的水碳酸盐、硫酸盐的分解或有机物的氧化 (3) 煅烧时炉内气氛的扩散 (4) 煅烧时温度过高,升温过快或窑内气氛不合适等。
夏炎2.影响陶瓷显微结构的因素有哪些?参考答案:(1) 原料组成、粒度、配比、混料工艺等(2) 成型方式、成型条件、制品形状等(3)干燥制度(干燥方式、温度制度、气氛条件、压力条件等)(4) 烧成制度(烧成方式、窑炉结构、温度制度、气氛条件、压力条件等)3. 提高陶瓷材料强度及减轻其脆性有哪些途径?参考答案:a.制造微晶、高密度、高纯度的陶瓷。
例如,采用热等静压烧结制成的Si3N4气孔率极低,其强度接近理论值。
b.在陶瓷表面引入压应力可提高材料的强度。
钢化玻璃是成功应用这一方法的典型例子。
c.消除表面缺陷,可有效地提高材料的实际强度。
d.复合强化。
采用碳纤维、SiC纤维制成陶瓷/陶瓷复合材料,可有效地改善材料的强韧性。
e.ZrO2与增韧。
ZrO2对陶瓷的强韧化的贡献有四种机理(相变增韧、微裂纹增韧、裂纹偏转增韧、表面残余应力增韧)罗念4.影响氧化锆相变增韧的因素是什么?简单叙述氮化硅陶瓷具有的性能及常用的烧结方法。
①晶粒大小。
当晶粒尺寸大于临界尺寸易于相变。
若晶粒尺寸太小,相变也就难以进行。
②添加剂及其含量使用不同的添加剂, t-ZrO2的可转变最佳晶粒大小、范围也不同。
③晶粒取向。
晶粒取向的不同而影响相变导致增韧的机制。
氮化硅陶瓷具有高强度、高硬度、耐磨、耐化学溶液和熔体的腐蚀、高电绝缘体、低热膨胀和优良抗热冲击、抗机械冲击等性能。
烧结方法:反应烧结氮化硅、无压烧结氮化硅、重烧结氮化硅、气氛加压氮化硅和热压烧结氮化硅。
——李成5.气孔对功能陶瓷性能的影响及降低功能陶瓷中的气孔量的措施?气孔均可使磁感应强度、弹性模量、抗折强度、磁导率、电击穿强度下降,对畴运动造成钉扎作用,影响了铁电铁磁性。
si3n4结构-回复什么是Si3N4结构,它有什么特点和应用领域?Si3N4结构是指由硅(Si)和氮(N)元素构成的化合物,其化学式为Si3N4。
Si3N4结构是一种典型的陶瓷材料,具有很高的硬度和耐热性,因此在许多领域得到了广泛的应用。
首先,了解Si3N4结构的特点。
Si3N4的晶体结构是由氮原子和硅原子构成的立方晶体结构,氮原子位于晶格的顶点,硅原子则位于晶格的中心位置。
Si3N4的晶体结构使其具有很高的硬度和抗压性能。
此外,Si3N4还具有优良的化学稳定性,能够抵抗酸、碱等多种溶液的侵蚀。
同时,由于Si3N4是一种非金属材料,它具有良好的绝缘性能和能量带隙,使其成为一种优质的绝缘材料。
基于以上特点,Si3N4在多个领域得到了广泛的应用。
首先,在制造业中,Si3N4被用作陶瓷刀具的重要材料。
由于其高硬度和优良的耐磨性,Si3N4刀具在切割、加工和磨削等工艺中表现出色,极大地提高了工件的加工质量和效率。
其次,Si3N4还被广泛应用于电子、光学和光电子领域。
由于其优良的绝缘性能,Si3N4可以作为电子元件的封装材料,用于高温、高压等苛刻环境下的电子设备。
同时,Si3N4也具有较高的折射率和较低的色散特性,使其适用于光学器件和光电子技术中的光学元件制造。
此外,由于Si3N4本身的阻隔性能,它还可以用作气体分离膜,具有应用于能源和环境领域的潜力。
除此之外,Si3N4还被广泛应用于热障涂层和高温结构材料领域。
由于其热膨胀系数与金属材料相似,Si3N4可以作为一种非金属热障材料,用于航空航天发动机等高温环境下的热绝缘保护。
此外,Si3N4还可以制备成为陶瓷基复合材料,具有较高的热稳定性和耐腐蚀性能,适用于高温装备中的结构材料。
总结起来,Si3N4结构是由硅和氮元素构成的陶瓷材料,具有高硬度、耐热性以及优良的化学稳定性。
它在制造业、电子、光学、光电子、能源和环境等领域都有广泛的应用。
随着先进制造技术的不断发展,Si3N4结构将会在未来的科技领域中扮演更加重要的角色。
陶瓷的分类及应用
陶瓷是一种种类繁多的材料,广泛应用于建筑、家居装饰、电子、医疗、环保等领域。
根据其用途和特性,可以将陶瓷分为以下几类: 1. 结构陶瓷:用于制造机械零件、电子零件、汽车零部件等。
这类陶瓷具有高硬度、高强度、高温耐性、耐磨性等特点。
2. 电子陶瓷:用于制造电容器、电感器、压电器件等。
这类陶瓷具有高介电常数、低介电损耗、稳定性好等特点。
3. 生物陶瓷:用于制造人工关节、人工牙等医疗器械。
这类陶瓷具有生物相容性好、高强度、耐磨性等特点。
4. 瓷砖:用于装饰家居、建筑等。
这类陶瓷具有色彩丰富、硬度高、防水、防霉等特点。
5. 特种陶瓷:例如氧化铝陶瓷、氮化硅陶瓷、碳化硅陶瓷等,适用于高温、高压等恶劣环境中。
这类陶瓷具有高耐磨性、高强度、高温稳定性等特点。
陶瓷因其多种特性,可以广泛应用于不同领域。
在建筑领域中,瓷砖墙面、地砖等是常见的装饰材料;在电子领域中,电容器、电感器等都需要陶瓷材料来作为基底;在医疗领域中,人工关节等器械也需要陶瓷材料作为材料选择。
未来,随着科技的不断发展和人们对陶瓷材料的需求不断增加,陶瓷的应用领域也将会更加广泛。
- 1 -。
sio4结构范文SIO4结构是指四氧化硅的晶体结构,也称为非立方相。
它的结构由四个氧原子环绕着一个硅原子形成,形成了一个四面体结构。
每个氧原子与硅原子之间形成了一个共价键。
四氧化硅是一种重要的无机材料,具有许多独特的性质和应用。
在自然界中,它可以以各种形式存在。
其中最常见的是硅酸盐矿物,如石英和长石。
此外,它还可以通过化学方法合成。
四氧化硅在许多领域中都有广泛的应用,包括电子、光学、陶瓷和材料科学等。
SIO4结构中的硅原子是四面体结构,与四个氧原子形成了四个共价键。
这四个键的长度相等,约为0.161nm。
硅原子的电子配置是1s22s22p63s23p2,其中2s和2p电子参与了共价键的形成。
氧原子的电子配置是1s22s22p4,其中2s和2p电子也参与了共价键的形成。
SIO4结构的稳定性主要取决于硅原子和氧原子之间的共价键强度。
由于硅原子和氧原子的电负性差异较大,形成的键属于极性共价键。
硅原子带正电,氧原子带负电。
这种电荷分离会导致结构中的偶极矩,提高了结构的稳定性。
SIO4结构中的硅原子和氧原子之间的共价键在晶体中形成了三维网络。
这个网络结构非常稳定,同时也具有一定的弹性。
这使得四氧化硅可以在高温和压力下保持结构的稳定性。
此外,四氧化硅还具有良好的耐酸碱和耐腐蚀性能。
SIO4结构在光学领域中有一些重要应用。
四氧化硅具有可见光的透明性,可以作为光学器件材料,例如透明窗口和光学纤维。
它还具有较低的折射率和色散特性,可以用于制造透镜和光学涂层。
此外,四氧化硅还具有光学非线性特性,可以用于制造光纤放大器和光通信设备。
在电子领域中,SIO4结构可以作为绝缘体和半导体材料。
在半导体材料中,它可以通过掺杂来改变其导电性能。
严格控制掺杂剂的浓度可以实现半导体器件的制造。
此外,四氧化硅还是一种非常好的绝缘体材料,可以用于制造电子设备中的绝缘层。
四氧化硅还具有一些其他的应用。
在陶瓷领域中,它可以用于制造高温陶瓷材料。