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辉光放电光谱仪简介辉光放电光谱仪是一种用于测量物质辉光放电光谱的仪器。
它通过将物质置于辉光放电的条件下，利用光学原理和光谱技术，测量并分析物质在放电过程中所发射的光的波长和强度，从而获得物质的光谱信息。
辉光放电光谱仪主要由以下几个部分组成： - 光源系统 - 光学系统 - 探测系统 -控制与数据处理系统光源系统光源系统用于提供辉光放电的激发光源。
常用的光源包括：- 线性电子加速器：通过电子束轰击物质产生辐射 - 平行板电容放电器：通过高压电场激发气体放电 -悍气灯：通过高频射频电流激发气体放电光源系统的选择主要取决于待测物质的特性和实验需求。
光学系统光学系统由透镜、棱镜、光栅、滤光片等光学元件组成，用于收集和分析放电光谱。
在光谱的收集过程中，光学系统的主要功能包括： - 焦点调节：调整光源到焦点的距离，以获得清晰的光谱图像 - 光谱的谱线分离：通过使用衍射原理，将不同波长的光线分离出来 - 光谱的聚焦：将光线聚焦到探测器上通过优化光学系统的设计，可以提高光谱解析度和信噪比，从而提高测量的准确性和可靠性。
探测系统探测系统主要由光电探测器和放大器组成，用于接收和放大光信号。
常用的光电探测器有： - 光电二极管（PD）：用于检测较低强度的光信号 - 光电倍增管（PMT）：用于检测较高强度的光信号 - CCD（电荷耦合器件）：用于高灵敏度和高分辨率的光谱测量在探测系统中，放大器可用于放大探测器接收到的光信号，以增强信号的强度。
控制与数据处理系统控制与数据处理系统是辉光放电光谱仪的核心部分，它用于控制仪器的工作和处理测量得到的数据。
控制系统主要包括：- 电源控制：用于控制光源的工作状态和电流- 偏置控制：用于控制探测系统的偏置电压，以提高信噪比 - 仪器温度控制：保持仪器在一定的温度范围内，以提高测量的稳定性和准确性数据处理系统主要包括： - 数据采集和存储：采集并存储测量得到的光谱数据 - 数据分析和处理：对测量数据进行分析和处理，提取出所需的信息应用领域辉光放电光谱仪广泛应用于材料科学、化学、科研等领域。
法国JY射频辉光放电光谱仪（表面涂镀分析仪）简介技术参数GD-Profiler系列包括2种型号，全部装备RF射频光源，每种型号均有多种选配件，用于满足不同用户的测试要求和预算。
GD-Profiler2可测试多种样品，有着极高的性价比，GD-Profiler HR是目前商品化的辉光光谱仪中性能最高的，二者均可分析导体和非导体的固体样品。
广泛应用于传统的镀锌/锡板（彩涂板）、汽车工业、航空航天、热处理（渗碳/渗氮）、陶瓷工业、玻璃工业、表面污染以及当前在欧美和日本科研与工业对半导体电子（液晶面板/硬盘/芯片）、新能源（锂电池/LED/光伏）研究与分析应用可以替代原来只能依赖的SIMS(二次离子质谱)或XPS（光电子能谱仪）。
与其相比之下GDS做到更高效、更快速、更经济等多方面优势，受到越来越多的科研工作者的认可与青睐，刮起一股从西方到东方席卷全球的辉光新风尚。
*RF射频发生器- 标准配置，符合E级标准，稳定性高，溅射束斑极为平坦，等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。
*脉冲工作模式既可分析常见的涂、镀层和薄膜，也可以很好的分析热传导性能差和热易碎的涂、镀层和薄膜。
*多道(同时)型光学系统可全谱覆盖，光谱范围：110nm至800nm，包含远紫外，可分析C, H, O, N, Cl*Jobin Yvon 的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器有最大光通量，因而有最高的光效率和灵敏度*专利HDD® 检测器可进行快速而高灵敏的检测，动态范围达到10个量级*宽大的样品室方便各类样品的加载*功能强大的QUANTUMT XP软件可以多种格式灵活方便的输出检测报告*激光指点器(CenterLite laser pointer，专利申请中)可用于精确Jobin Yvon独有的单色仪(选配件)可极大的提高仪器的灵活性，可同时测定N+1个元素主要特点Jobin Yvon 所生产的辉光放电发射光谱仪(RF-GD-OES)采用射频(RF)光源，可以进行导体和非导体材料的基体、表面、逐层分析，是一种快速的、操作简单的分析手段。
辉光放电发射光谱法测定硅钢薄板中微量硼元素邓军华;曹新全;李化【摘要】通过对辉光放电发射光谱参数的优化,以铁元素为内标来消除基体效应,建立了测定硅钢薄板中微量硼元素的方法.优化的实验参数为:放电电压1200V,放电电流50 mA,预溅射时间40 s,积分时间1o s.校准曲线硼元素含量范围0.0001％～0.022％,相关系数大于0.999,测量结果与认定值一致,相对标准偏差小于10％.完全能够满足日常分析测试的要求.【期刊名称】《中国无机分析化学》【年(卷),期】2011(001)003【总页数】4页(P39-42)【关键词】辉光放电光谱法;硼;硅钢薄板【作者】邓军华;曹新全;李化【作者单位】鞍钢股份有限公司技术中心,辽宁鞍山114001;鞍钢股份有限公司质检中心,辽宁鞍山114009;鞍钢股份有限公司质检中心,辽宁鞍山114009【正文语种】中文【中图分类】O657.31;TH744.11+2硅钢薄板是电力、电讯和仪表工业中不可缺少的重要磁性材料,具有广阔的应用前景[1]。
而硼和氮、氧等元素有很强的亲和力,在γ相中与氮优先形成BN,防止热轧时A lN的析出。
硅钢中加入硼,可提高硅钢片的磁性能,减轻磁时效、降低铁损以及提高表面质量等[2]。
微量硼的测定方法有分光光度法、电化学分析法、分子荧光光谱法、电感耦合等离子体原子发射光谱法、石墨炉原子吸收光谱法等[3-6]。
在科研生产过程进行硼元素含量检测来监控B/N的比例是否满足要求。
而薄板试样钻屑加工困难,湿法分析操作繁琐,快速准确测定微量硼含量已成为难题。
辉光放电光谱技术目前在冶金分析领域正得到快速的发展[7-12],具有基体效应小,光谱干扰少,分析速度快,精密度好等特点。
通过优化光源参数对硅钢薄板中微量硼元素进行测定,试样加工简单,准确度高。
GDS-850A(dc光源,美国Leco):铜阳极直径4 mm,波长范围为119～600 nm。
高纯氩气,乙醇(AR级)。
辉光放电光谱分析技术的应用进展余兴【摘要】简单介绍了辉光放电光谱(GD-OES)的基本原理.对2000-2015年间辉光放电光谱在冶金行业、环境与有机物领域以及材料表面分析方面的应用进行了综述.钢铁材料与有色金属样品的成分分析为GD-OES的主要应用,有众多的研究报道;对于环境与有机物领域中的粉末与颗粒样品、液体样品以及气体与挥发性样品,GD-OES分别有相关分析应用尝试;同时,GD-OES作为一种重要的深度分析方法,在金属合金镀层、工艺处理层、纳米级薄层、有机涂层等材料表面分析方面都有具体的应用.对GD-OES的国内外标准进行了介绍.最后展望了辉光放电光谱的发展趋势.【期刊名称】《冶金分析》【年(卷),期】2016(036)002【总页数】15页(P7-21)【关键词】辉光放电光谱;应用;进展【作者】余兴【作者单位】钢铁研究总院,国家钢铁材料测试中心,北京100081【正文语种】中文辉光放电光谱(Glow discharge optical emission spectrometry，GD-OES)是一种基于惰性气体在低气压下的放电原理而发展起来的分析技术。
自1978年出现第一台商品化仪器以来[1]，在德国、法国和日本的金属生产和研究中心迅速普及开来。
因辉光放电光谱具有稳定性高、谱线锐、背景小、干扰少、能分层取样等优点[2-4]，已成为了一种用于各种材料成分分析(Bulk analysis)和深度分析(Depth profile analysis)的有效手段。
众多的相关报道表明，GD-OES以其优越的分析性能在冶金行业得到广泛应用，在材料表面分析领域显示出其在深度分析方面的技术优越性，而在环境、有机物领域的应用研究也在积极地开展和完善，发展前景广阔。
辉光放电光谱光源内维持一个低真空氩气环境(一般100～500 Pa)。
给样品施加负电压(一般500～1 500 V)，样品作为阴极。
在电场作用下，电离产生的氩离子(Ar+)在阴极与阳极间被加速。
２０１２年２月Ｆｅｂｒｕａｒｙ２０１２岩 矿 测 试ＲＯＣＫＡＮＤＭＩＮＥＲＡＬＡＮＡＬＹＳＩＳＶｏｌ．３１，Ｎｏ．１４７～５６收稿日期：２０１１－１０－２４；接受日期：２０１１－１０－２９基金项目：中国计量科学研究院基础科研项目（ＡＫＹ１０３１）作者简介：徐常昆，硕士研究生，核燃料循环与材料专业。
Ｅ ｍａｉｌ：ｃｈａｎｇｋｕｎｘｕ＠ｇｍａｉｌ．ｃｏｍ。
通讯作者：周涛，博士，副研究员，从事化学计量与无机质谱研究工作。
Ｅ ｍａｉｌ：ｚｈｏｕｔａｏ＠ｎｉｍ．ａｃ．ｃｎ。
文章编号：０２５４５３５７（２０１２）０１００４７１０辉光放电质谱应用和定量分析徐常昆１，周 涛２ ，赵永刚１（１．中国原子能科学研究院，北京 １０２４１３；２．中国计量科学研究院，北京 １０００１３）摘要：辉光放电质谱（ＧＤＭＳ）是利用辉光放电源作为离子源的一种无机质谱方法。
ＧＤＭＳ采用固体进样，样品准备过程简单、分析速度快、基体效应小、线性范围宽，是痕量分析的一种重要分析手段，在国外已经成为高纯金属和半导体分析的行业标准方法。
ＧＤＭＳ可以进行深度分析，选择合适的放电条件，可以在样品表面获得平底坑，深度分辨率可以满足对微米量级的层状样品进行测量。
目前商业化的ＧＤＭＳ都是直流放电源，这些仪器需要用第二阴极法或混合法才能对非导电材料进行测量，从而限制了ＧＤＭＳ在非导体材料分析方面的应用。
ＧＤＭＳ放电源和单接收方式并不能满足同位素丰度精确测量的要求，在精确度要求不高的情况下，ＧＤＭＳ在固体样品同位素丰度的快速测量方面还是有一定的应用价值。
文章总结了近几年国内外ＧＤＭＳ在各领域的应用进展和定量分析技术发展方向。
ＧＤＭＳ已经成为一种高纯导电材料分析的重要方法；在深度分析、非导电材料分析、固体同位素丰度快速测量中有一定的应用前景。
在定量测量方面，由于受到基体、测量条件等影响因素较多，缺乏合适的基体匹配的标准物质用于校正，ＧＤＭＳ主要停留在定性和半定量分析阶段。
辉光放电光谱仪什么是辉光放电光谱仪辉光放电光谱仪是一种用于分析元素的仪器。
它是利用电场加速带电粒子，在气体放电管内发生电离与激发，从而发射特定的光谱线。
通过测量这些光谱线的波长和强度，可以确定不同元素在样品中的含量和相对比例。
辉光放电光谱仪的原理辉光放电光谱仪的原理是利用放电管内的电场和磁场产生的加速和螺旋磁场效应，使气体原子或分子中的电子跃迁到激发能级上，再通过跃迁到基态时发出的光子能级差，可以用来定位其本身的位置。
辉光放电光谱仪的组成辉光放电光谱仪主要由以下部分组成：放电源放电源是光谱仪的核心部件。
当高压电源加电后，产生的高电场使放电管内部的气体电离，产生激发态的离子和原子，从而发出光谱线。
光学系统光学系统主要包括反射镜、透镜、棱镜等。
它们的作用是将发出的光谱线收集起来，使光聚焦在检测器上。
检测器检测器主要用于测量原子或分子放出的发射光谱强度和波长。
控制系统控制系统包括相关的电路和软件，用于控制光学系统、放电源、检测器等各个部分的协同工作，实现数据的获取和处理。
辉光放电光谱仪的应用辉光放电光谱仪广泛应用于化学、物理、生物学等领域。
它可以用于分析各种材料中的元素含量和结构信息，包括气体、固体和液体等。
例如，在电子元器件制造过程中，通过使用辉光放电光谱仪检测元素的掺杂和含量，可以保证元器件品质的稳定性和可靠性；在食品安全领域，使用辉光放电光谱仪可以检测出含有重金属的食品，促进食品安全和卫生。
结论总之，辉光放电光谱仪是一种非常重要的工具，广泛应用于各种领域。
它无疑是现代科技不可或缺的一部分，为我们提供了各种便利和帮助。
