材料表面技术 第四讲 电镀及化学镀新技术
- 格式:ppt
- 大小:6.44 MB
- 文档页数:82
沉铜覆盖能力(%)图1:沉铜的覆盖能力及气孔发生率活化处理时间(分)图2:处理条件及金属钯的吸附量⊙清净处理:基板的表面脱脂与孔内壁表面调整同时进行,使铜的表面氧化物、油污除去,促进表面对金属钯的吸附量(见图3)。
增加孔内壁润湿性的处理溶液采用碱性表面活性剂。
⊙酸洗:经过彻底清洗干净后,再进行中和处理保持界面活性状态。
通常酸洗采用硫酸、盐酸。
⊙表面腐蚀处理:主要目的是除去铜焊盘与内层铜表面上的氧化物,确保沉积铜层的密着性和均匀性,增加其可靠性。
采用腐蚀剂有过硫酸铵、过硫酸钠、硫酸-双氧水系。
⊙硫酸:经腐蚀后,表面存有残留的硫酸盐被处理掉,获得洁净的铜表面。
一般采用5%(体积比)的硫酸。
⊙预处理:活化处理前,先在低浓度的预浸催化液中进行处理,以防止对活化液的污染。
曾采用过以盐酸系列工艺方法进行处理,但由于对内层铜表面影响而产生晕圈现象。
现采用盐基系处理溶液进行处理。
⊙活化处理:沉积速度(μm) 0.35-0.5 0.35-0.5 1.5-2.5 2.0-2.5 1.0-3.0时间 (分钟) 20-30 20-30 30 30 60三、电镀多层印制电路板制造工艺规程中,采用的电镀液的种类很多,其中有:□焦磷酸盐镀铜电解液:⊙全板镀铜工艺方法;⊙图形电镀工艺方法。
□硫酸镀铜电解液:⊙全板镀铜工艺;⊙图形镀铜工艺。
□锡焊料电镀液:⊙图形电镀工艺方法□镀镍电解液:⊙插头镀镍;□镀金电解液:⊙插头镀金。
(1)镀铜电解液:在多层印制电路板制造过程对电镀铜层的物理性要求是很高的。
特别对小孔径和高孔径与板厚比,要求铜层厚度均匀性、铜层的物理性能要优越,以确保在热冲击时不发生质量缺陷。
基板表面与孔内壁经过预处理后,要特别注意的清洁处理时,小孔径(高纵横尺寸比)与孔壁内部状态,确保通孔内被溶液浸润性(孔内气泡全部除去)和催化处理后内孔壁吸附金属钯量,并依次进行处理,特别要保持清洁调节器内的表面活性剂的含量,这是解决铜层致密性不良的十分重要的对策。