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多层红外光学窗口保护膜的光学性能、显微硬度及适应性分析一、红外光学保护膜的系统设计多层红外线光学窗口的保护膜是一种特殊的光学膜，其本身是减反射膜，一方面要透光性较强同时要求其具备一定的耐久性。
红外窗口保护膜在设计的时候必须考虑到期理化性能，尤其是在机械性能、化学性能、光学性上的适应性。
同时必须考虑镀膜时工艺的可行性与可靠性。
因为不同的工艺性能采用的元素不同，其工艺模式也就不同，为了提升红外线膜的整体性能和镀膜过程中的可行性，应采用更为简单的工艺方式完成，多层红外窗口保护膜的设计应遵循此原则。
所以多层红外线窗口的镀膜多数都控制在四层以下，具体的设计选择可以按照不同的使用环境进行考虑。
二、红外光学窗口的镀膜与检测多层镀膜的工艺特征就是利用化学方式将膜材料结合在窗口材料商，其中DLC和BP膜材料利用射频增强化学气象沉积的方式完成镀膜，其中BP膜采用的是磷烷和硼烷两种气体作为加工的气体原料。
DLC则是利用碳氢气体作为镀膜的气源，因为BP 和DLC镀膜的生长机理存在差异，所以这两层膜需要在不同的化学环境下完成镀膜。
因此在设计工艺的时候应进行控制，设施不同的气相平台完成加工。
多层红外保护膜中的GexC1-x和α-Si膜测试利用溅射工艺完成镀制。
在工艺实施中GexC1-x所利用的是Ar/碳氢混合物溅射到锗靶上从而完成镀膜，α-Si则是直接进行溅射到硅靶上完成镀制。
多层的户外保护膜的检测需要利用相关的仪器，借助傅里叶变换红外光谱完成测试，检测的时候设备的分辨率应控制在4cm﹣1，扫描次数设置在10。
镀膜表现形成的样貌则利用对应的原子力显微镜进行直接观察与分析。
利用显微硬度测量仪器测量样本的显微硬度。
样本的适应性测试在海洋环境下进行测试，测试的时间设计为6个月。
三、试验的结果与测试分析光学性能测定。
在测试中利用一面多镀层的保护膜和一个镀减反射膜的样本进行光学比对，从检测的结果可以看出，试验中采用的红外光学窗口的多层保护膜在8-12μm波段显示出现的平均透过率在87-92%之间，和传统的工艺相比，Ge和DLC膜的窗口透过率值相似，测试中BP01样本和传统的Ge窗口（一面镀层为DLC，一面为减反膜，其透过率曲线在大部分范围内其透过率是相当的。
红外光学薄膜的研究与应用近年来，随着红外光学技术的不断发展，红外光学薄膜的研究和应用也呈现出越来越广泛的发展前景。
红外光学薄膜是指能够对红外辐射进行选择性反射、透射或吸收的一种薄膜材料，它具有高透过率、高反射率、高吸收率和良好的稳定性等优点，被广泛应用于光学仪器、光学显示、太阳能设备、红外传感器等领域，下面我们将详细探讨红外光学薄膜的研究与应用。
一、红外光学薄膜的制备方法红外光学薄膜的制备主要包括物理气相沉积法、化学气相沉积法和溅射法等。
物理气相沉积法是利用真空设备将材料加热到高温蒸发，使其沉积到衬底上形成薄膜；化学气相沉积法是将反应气体引入反应室，在高温下进行化学反应，使产生的沉积物形成薄膜；溅射法是利用高能量粒子或离子轰击目标材料表面，使其溅射到衬底上形成薄膜。
这三种方法都有其独特的优点和缺点，根据不同的应用需求可以采用不同的制备方法。
二、红外光学薄膜的性质和应用红外光学薄膜具有很好的选择性，它可以对不同波长的红外辐射进行选择性反射、透射或吸收。
同时，红外光学薄膜的光学性能稳定，耐腐蚀、耐高温、金属化等优点被广泛应用于以下领域：1.光学仪器：红外光学薄膜被应用于红外光谱仪、红外显微镜、光学测温仪等光学仪器中，其高透过率和高反射率可提高仪器的检测灵敏度和分辨率。
2.光学显示：红外光学薄膜被用于制备光学液晶显示器等器件，利用其高反射率和选择性透射性质可以实现高亮度和高对比度的显示效果。
3.太阳能设备：红外光学薄膜被用于制备太阳能电池等设备，其选择性吸收红外辐射的性质可以提高太阳能电池的转换效率。
4.红外传感器：红外光学薄膜被用于制备红外传感器等设备，可以实现对红外辐射的高灵敏检测，具有广泛的应用前景。
三、红外光学薄膜的未来发展趋势随着物联网、智能城市、智能制造等领域的发展，对红外光学薄膜的需求也在不断增加。
未来，红外光学薄膜的发展趋势将集中在以下几个方面：1.高精度：随着科技的发展，设备对光学器件的精度要求越来越高，因此，红外光学薄膜需要提高其制备精度和光学性能。
光学薄膜，就是利用薄膜对光的作用而进行工作的一种功能性薄膜。
作为一种重要的光学元件，它广泛地应用于现代光学、光电子学、光学工程以及其他相关的科学技术领域。
下面我们一起了解一下光学薄膜的应用领域及分类。
光学薄膜的应用前景由于光学薄膜具有良好的性能，使其不仅可以应用在光学领域中，我们生活中的各个领域都有应用，我们的手机电脑屏幕，眼镜外层的薄膜，光学器件和光通信中的应用更是不胜枚举。
现在光学薄膜在国防中的应用范围也在逐渐扩宽，如导弹卫星中的激光器，滤光片;军用的传感器，警戒系统，上面都镀有光学薄膜。
1、光学薄膜应用于光学仪器很多光学仪器的透镜上都镀有光学薄膜。
望远镜的透镜上不镀光学薄膜，则当光线照射到镜片上时，某些波长的光反射时会发生干涉相长，使反射光的强度增强，透射光减弱，而且其他的光会产生互补色，会影响望远镜的成像。
光学薄膜可以改变光线的透光率，使反射过大的光透射增强，提高透光率，这时候用的就是增透膜。
可以用控制薄膜的厚度来控制使哪些波长的光透射增强还是反射增强。
在镜片上镀膜不仅可以提高望远镜的成像质量，还使望远镜对各种环境的适用性增强，如雪地，反射光太强会使望远镜成像色彩暗淡失真，色差严重，在望远镜上镀上红膜就会很好的解决这些问题。
2、光学薄膜应用于照明设备光学薄膜在照明设备中有广泛的应用，如白炽灯，低压钠灯等，可以使照明设备更加的节能。
大多都是在灯的表面镀上一层对红外光反射很强的增反膜，当光照射在其上时发生干涉相长，增强了反射光以使透射光减弱，从而使得可见光的透射增强。
这样不仅可以节约能源又可以改变光谱的能量分布，使能量主要分布在可见光上，极少分布在红外光上，甚至可以使红外光上的能量为零，所以镀膜的灯要比不镀膜的亮。
其中白炽灯大多用的二氧化锡薄膜或银膜，钠灯用的是二氧化硅膜。
3、光学薄膜应用于农业生产设施光学薄膜不仅可以应用在光学系统中，在其他领域也有诸多应用，如农业领域。
我们都知道光照对于农业生产的重要作用，随着科学技术的发展，很多农业种植不再像过去对天气和季节的依赖性那么强，很多水果和蔬菜都是在大棚中种植。
光学薄膜技术及其应用张三1409074201摘要：介绍了传统光学薄膜的原理，根据薄膜干涉的基本原理及其特点，介绍了光学薄膜的性能、制备技术，研究了光学薄膜在的应用和今后的发展趋势。
关键词：光学薄膜、薄膜干涉、应用、薄膜制备引言：光学薄膜是指在光学玻璃、光学塑料、光纤、晶体等各种材料的表面上镀制一层或多层薄膜，基于薄膜内光的干涉效应来改变透射光或反射光的强度、偏振状态和相位变化的光学元件，是现代光学仪器和光学器件的重要组成部分。
光学薄膜技术的发展对促进和推动科学技术现代化和仪器微型化起着十分重要的作用，光学薄膜在各个新兴科学技术中都得到了广泛的应用。
本文在简单叙述薄膜干涉的一些相关原理的基础上，介绍了光学薄膜常见的几种制备方法，研究了光学薄膜技术的相关应用，并且展望了光学薄膜研究的广阔前景。
正文：1.光学薄膜的原理光学薄膜的直接理论基础是薄膜光学, 它是建立在光的干涉效应基础上的、论述光在分层介质中传播行为。
一列光波照射到透明薄膜上，从膜的前、后表面或上、下表面分别反射出两列光波，这两列相干光波相遇后叠加产生干涉。
该理论可以比较准确地描述光在数十微米层、纳米层甚至原子层厚的薄膜中的传播行为,由此设计出不同波长、不同性能、适应不同要求的光学薄膜元件。
2.光学薄膜的性质及功能光学薄膜最基本的功能是反射、减反射和光谱调控。
依靠反射功能, 它可以把光束按不同的要求折转到空间各个方位；依靠减反射功能，它可以将光束在元件表面或界面的损耗减少到极致, 完美地实现现代光学仪器和光学系统的设计功能；依靠它的光谱调控功能, 实现光学系统中的色度变换, 获得五彩缤纷的颜色世界。
不仅如此, 光学薄膜又是光学系统中的偏振调控、相位调控以及光电、光热和光声等功能调控元件, 光学薄膜的这些功能, 在激光技术、光电子技术、光通信技术、光显示技术和光存储技术等现代光学技术中得到充分的应用, 促进了相关技术和学科的发展。
3.传统光学薄膜和新型光学薄膜3.1传统光学薄膜传统的光学薄膜是以光的干涉为基础。
光学薄膜应用及实例光学薄膜是利用薄膜对光的作用而工作的一种功能薄膜，光学薄膜在改变光强方面可以实现分光透射、分光反射、分光吸收以及光的减反、增反、分束、高通、低通、窄带滤波等功能。
光学薄膜的种类有很多，这些薄膜赋予光学元件各种使用性能，在实现光学仪器的功能和影响光学仪器的质量方面起着重要的或者决定性的作用。
传统的光学薄膜是现代光学仪器和各种光学器件的重要组成部分，通过在各种光学材料的表面镀制一层或多层薄膜，利用光的干涉效应来改变透射光或反射光的光强、偏振状态和相位变化。
薄膜可以被镀制在光学玻璃、塑料、光纤、晶体等各种材料表面上。
它的厚度可从几个nm 到几十、上百个μm。
光学薄膜可以得到很好的牢固性、光学稳定性，成本又比较低，几乎不增加材料的体积和重量，因此是改变系统光学参数的首选方法，甚至可以说没有光学薄膜就没有现代的光学仪器和各种光学器件。
在两百多年的发展过程中，光学薄膜形成了一套完整的光学理论—薄膜光学。
光学薄膜已广泛应用于各种光学器件(如激光谐振腔、干涉滤波片、光学镜头等)，不仅如此它在光电领域中的重要作用亦逐渐为人们所认识。
光学薄膜是TFT-LCD 面板制造的关键材料，它们为液晶显示提供一个均匀，明亮且饱满的面光源系统。
（光行天下配图）减反射膜假定光线垂直入射在表面上，这时表面的反射光强度与入射光的强度比值(反射率)只决定于相邻介质的折射率的比值：折射率为1.52 的冕牌玻璃每个表面的反射约为4.2%左右．折射率较高的火石玻璃则表面反射更为显著。
这种表面反射造成了两个严重的后果：光能量损失使象的亮度降低；表面反射光经过多次反射或漫射，有一部分成为杂散光，最后也到达象平面使象的衬度降低图象质量，特别是电视、电影摄影镜头等复杂系统都包含了很多个与空气相邻的表面，如不镀上增透膜其性能就会大大降低。
应用于可见光谱区的光学仪器非常多，就其产量来说占据了减反射膜的绝大部分，几乎在所有的光学器件上都要进行减反处理。
中红外介质反射膜镀膜1.引言1.1 概述概述中红外介质反射膜镀膜是一种重要的光学材料，广泛应用于红外光学、热成像、光学仪器等领域。
它具有优异的反射性能和透过率，能够高效地反射或透过中红外光线。
这种膜层的制备方法和技术也在不断地进步和改进，以满足不同领域和应用的需求。
中红外介质反射膜是一种能够在中红外波段范围内具有高反射率的薄膜材料。
它的制备方法主要包括物理气相沉积、化学气相沉积、离子束溅射、电子束蒸发等技术。
通过选择合适的材料和工艺参数，可以实现中红外介质反射膜的高反射率和良好的光学性能。
中红外介质反射膜的制备技术不仅要求材料具有良好的光学性能，还要具备高温稳定性、耐腐蚀性、机械强度等特点。
目前，常用的中红外介质反射膜材料包括金属氟化物、多层堆积膜、金属光子晶体等。
这些材料的选择取决于实际应用的要求和性能需求。
中红外介质反射膜的应用前景非常广阔。
在红外光学领域，中红外介质反射膜可以用于红外目标探测、红外成像、红外光学传输等方面。
在热成像领域，中红外介质反射膜可以用于热成像仪器的镜片、滤波器等部件。
在光学仪器领域，中红外介质反射膜可以用于光学透镜、光学滤波器等器件。
这些应用领域对中红外介质反射膜的性能和稳定性提出了更高的要求。
中红外介质反射膜的发展趋势主要包括材料性能的改进和制备工艺的创新。
未来，人们将继续研究和开发新型的中红外介质反射膜材料，以提高其光学性能和机械性能。
同时，制备工艺方面也将进行改进，以提高制备效率和降低制备成本。
这些努力将促进中红外介质反射膜在各个应用领域的广泛应用和发展。
1.2 文章结构文章结构部分的内容可以包括以下方面：文章结构的安排和逻辑性：该部分可以简要介绍整篇文章的结构安排和各个章节之间的逻辑关系。
可以提及文章为了全面介绍中红外介质反射膜镀膜，分为引言、正文和结论三个部分。
引言部分主要从概述、文章结构以及目的等方面进行介绍；正文部分则涵盖红外介质反射膜的定义和原理以及中红外介质反射膜的制备方法和技术；结论部分则讨论中红外介质反射膜的应用前景和发展趋势。
薄膜紫外可见近红外测试
薄膜紫外-可见-近红外测试是一种常用的光学测试方法，用于测量薄膜样品在紫外-可见-近红外光谱范围内的光学性能。
通过测量样品的透射光谱和反射光谱，可以获得样品的吸收系数、折射率、消光系数等光学参数，进而分析样品的成分、结构和性质。
在进行薄膜紫外-可见-近红外测试时，需要注意以下几点：
样品准备：选择合适的样品，可以是固体、液体或气体，根据测试要求进行研磨、筛选等处理。
样品量：根据仪器要求和实验目的，提供适量的样品，一般而言，粉末样品至少需要100mg，块状或薄膜样品应大于2x2cm，液体样品提供5ml左右。
测试条件：在无尘、无震动的实验室内进行测试，保持环境温度和湿度的稳定性，以减小误差。
仪器校准：在测试前需要对仪器进行校准，确保测试结果的准确性和可靠性。
结果分析：对测试结果进行分析和处理，提取样品的吸
收系数、折射率、消光系数等光学参数，并进行相应的分析和解释。
薄膜红外发射率概述说明以及解释1. 引言1.1 概述本文将详细介绍薄膜红外发射率的概念、影响因素、测量方法，以及在不同领域的重要性和应用。
同时，还将探讨薄膜技术在红外发射率调控中的应用，并对单层和多层薄膜设计原理、薄膜材料选择以及制备技术进行深入讨论。
1.2 文章结构本文共分为五个主要部分。
首先是引言部分，主要包括对文章内容的概述，文章结构以及研究目的的介绍。
其次是关于薄膜红外发射率的阐述，包括定义和基本概念、影响因素以及测量方法。
然后，我们将讨论红外发射率在不同领域中的重要性和应用，涉及工业应用中的红外发射率控制、医疗领域的红外发射率应用以及其他领域的相关研究进展。
接下来，我们将专注于薄膜技术在红外发射率调控中的应用，包括单层和多层薄膜设计原理、薄膜材料选择以及制备技术。
最后，我们将总结全文，并展望未来的研究方向。
1.3 目的本文旨在对薄膜红外发射率进行全面的概述和解释，深入探讨其在不同领域中的重要性和应用，并对薄膜技术在红外发射率调控中的应用进行详细阐述。
通过这些内容的介绍和分析，我们希望能够增进对红外发射率相关领域的了解，为相关研究和应用提供有益信息，并为今后的研究工作提供启示。
2. 薄膜红外发射率：2.1 定义和基本概念：薄膜红外发射率指的是物体表面在红外波段下向外辐射热能的能力。
在视觉上，物体的颜色大多数时候是由于其对可见光的不同吸收和反射程度而产生的。
类似地，在红外光谱范围内，物体也对红外辐射有不同程度的吸收和反射作用，这种特性便决定了其红外发射率。
薄膜红外发射率通常用ε表示，取值范围为0到1之间。
2.2 影响因素：薄膜红外发射率受多种因素影响，其中最主要的包括材料特性、厚度、工艺和表面状态等。
首先，材料特性对红外发射率具有直接影响，不同材料具备不同的吸收和反射能力。
此外，薄膜的厚度也会直接影响其红外发射率，一般来说，随着厚度增加，红外辐射被吸收的概率也增加。
同时，在制备过程中，采用的工艺不同也会对红外发射率产生影响。
光学薄膜——红外膜红外膜相关介绍12 3红外膜制备技术常见红外膜及其应用国内外研究现状及发展方向目录41. 红外膜的相关介绍①定义红外膜是指对红外辐射是透明的固体薄膜，它主要的透明区是在中波范围（0.9um~5um）和长波范围8um~12um。
大多数中波范围的材料在可见光范围（0.3um~0.7um）也是透明的。
②红外膜类型1、基片的类型中波红外光学材料包括氧化物陶瓷，如A120,蓝宝石单晶、Zr02,Mg0 ,MgA120(尖晶石)、AION(氮氧化铝)、石英晶体和熔融石英;氟化物晶体如CaF2 , MgFz , Si3N4 , SiC等。
长波材料大多是半导体材料，如W族半导体材料Ge,Si和金刚石;2、膜料类型红外膜系材料中，低折射率材料A1F3,MgF2,SiO2,A1203, ThF4，高折射率材料有ZnS,ZnSe,Zr02,HfO2,TiO2,Ta207, Si,Ge等。
2020/6/2820世纪30年代80 年代初近年来军事新型红外膜隐身材料20世纪90年代中期提出红外膜概念成为研究的热点③硬膜的发展历程红外膜研究取得了很多成果红外膜硫化锌ZnS 硒化锌ZnSe 氟化镁MgF2二氧化硅SiO2硅Si 锗Ge氧化铝Al2O3④常见的红外膜材料2. 红外膜制备技术①化学气相沉积技术化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition,CVD）是一种热化学反应过程，是在特定的温度和经过特别处理的基体（包括硬质合金和工具钢材质）表面所进行的气态化学反应。
CVD技术常常通过反应类型或者压力来分类，包括低压CVD(LPCVD)、常压CVD(APCVD)、等离子体增强CVD(PECVD)以及Hot-Filament CVD和Laser Induced CVD等。
①化学气相沉积技术等离子体辅助化学气相沉积是制备超硬薄膜的主要方法之一，它结合了物理气相沉积和传统化学气相沉积的优点，既可以在较低的温度下沉积薄膜，又可以用于复杂形状工件内表面镀膜，是改善工件表面磨损性能和抗高温氧化性能的有效途径。
②物理气相沉积技术物理气相沉积（Physical Vapor Deposition,PVD）是利用某种真空物理过程，例如蒸发或者溅射实现物质的转移，即原子或分子由源转移到基体表面上，并沉积成薄膜。
它是一种能真正获得纳米至微米级薄膜且无污染的环保型表面处理方法，在不影响基体尺寸的情况下，提高表面强度、增强耐腐性和摩擦磨损等性能。
②物理气相沉积技术采用物理气相沉积（PVD）镀膜技术制备的膜层具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，同时膜层还能够提高工件的外观装饰性。
它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆铬等），也可以制备氮化物膜TiN（钛金）、ZrN（锆金）、CrN,TiAlN和碳化物膜（TiN, TiCN）以及氧化物膜（TiO）等陶瓷薄膜。
11③阴极电弧技术阴极电弧技术利用真空环境下的弧光放电，使固体阴极靶材蒸发、离化并通过等离子体的强化作用，飞向阳极基体表面沉积成膜。
阴极电弧是一种典型的高电流（可高达数百安培）电弧正因为如此，阴极电弧技术具有极高的沉积速率，从而也可大幅度改善膜的组织结构和力学性能。
由于阴极电弧蒸发的过程非常激烈，阴极电弧蒸发过程中会产生较多的有害颗粒，这限制了阴极电弧技术在需要优质表面场合的应用。
④磁控溅射技术磁控溅射技术是一项较为成熟且被广泛应用于功能性和装饰性镀膜领域的技术。
在真空磁控溅射过程中，离子与阴极碰撞使得靶材被溅射出带有4~6eV的颗粒，其离化率在10%左右。
3. 常见红外膜材料及其应用①锗锗的优点是机械性能好和折射率极高，在多层增透膜设计中，用单层〔半波)锗膜常常明显地减少反射损失。
锗随着温度升高则透过率下降，在300℃条件下，8~12um几乎完全失透，3~5um透过率仅为25℃时的20%左右。
故锗不宜在高温和高功率的环境下使用。
②硅Si的熔点约为1414摄氏度，在1.1um~8um范围内具有较好的光谱透过性能，在近红外区域折射率也能达到3.4左右。
由于硅具有熔点高、热传导性能好、硬度高、化学稳定性强等特性，因而是一种非常重要的半导体材料，其优越的理化特性和光学特性使其在光学薄膜的红外波段的应用前景非常广阔。
③氟化镁氟化镁（MgF2）是目前用途较广的材料，具有很高的机械强度及抗热冲击性。
MgF2是一种广泛采用的、性能优良的光学镀膜材料，它具有透明波段宽(120nm~8000nm)、折射率低(n=1.38)、热稳定性好、膜层机械强度大和激光损伤闽值高等优异性能，是制备增透膜、高反膜、高损伤闽值膜的首选膜料，因此，MgF2被广泛地应用于制备各种光学膜层。
③热压氟化镁热压氟化镁在3~5um中波红外波段时其红外透过率可达90%以上，是现有红外材料中自身透过率最高的。
热压氟化镁还具有机械强度高、抗热冲击性强、耐化学腐蚀以及各向同性等诸多特点，而且其介电常数和介电损耗较小，是良好的中波红外窗口、整流罩材料和中波红外毫米波微波厦合天线罩材料，广泛用于红外制导、红外成像制导、红外毫米波微波厦合制导以及飞机红外吊舱、光电雷达等红外跟踪、探测、制导系统中。
④氧化物薄膜材料大部分氧化物材料都有很多相似的性质，一般常用的氧化物材料Al2O3，SiO2等氧化物材料的特点为:具有耐高温、抗热冲击、机械强度高、坚硬等的特点，很适合作窗口材料。
Al2O3材料作为一种很常用的高折射率材料广泛应用于多层膜介质膜中。
其薄膜的光学特性强烈依赖于镀膜工艺条件和杂质污染等其他因素。
其在镀膜工艺中常常因为它自身的稳定性，作为最后一层膜做保护层。
④氧化物薄膜材料SiO2薄膜是一种重要的纳米薄膜材料，具有宽透明区(0.15~8 um)、低折射率、高硬度、低热膨胀。
系数、耐摩擦、耐酸碱、抗腐蚀等优点，被广泛应用于光学薄膜元件、半导体集成电路、电子器件、传感器、激光器件、化学催化、生物医学、表而改性和医药包装等领域。
⑤硫化锌和硒化锌ZnS是一种II-VI族化合物半导体，在可见光范围内具有高透明度。
它是一种优良的光电功能晶体材料，其光学均匀性及多波段透过性能好，化学稳定性好。
硒化锌的性质和硫化锌的性质基本相同，不同的是机械强度较低，熔点也没有硫化锌高，在较低温度是吸收很小。
根据制备工艺的不同，ZnS通常分为热压ZnS,CVD ZnS和多光谱ZnS 。
热压ZnS是五六十年代发展并完善起来的一种红外材料，借用了粉末冶金中的热压工艺制备而成，但其脱模较困难，易造成产品破裂，而且达不到理论的密度，含有大量的微气孔，形成散射中心。
CVD硫化锌的光学性能明显优于热压硫化锌。
但是CVD硫化锌在可见光波段是不透明的，其外观呈橘黄色。
这是由于ZnS中夹杂的氢原子与S空位、Zn结合成复杂的络合物成为散射中心导致呈现橘黄色，透过率下降。
CVD硫化锌经过一次热等静压(HIP)处理后称为多光谱硫化锌;其透射短波起始在0.35um。
和CVD硫化锌相比，在整个透射波段透过率都有改善。
4. 国内外研究现状及发展方向1、研究现状红外膜因为其波长范围宽使得其应用的范围特别广泛，随着今年来科技的发展，各种镀膜材料和镀膜工艺逐渐完善，当然红外膜的发展也有了很大的提高。
现在红外膜已经逐渐在国防军事、生物科技、教学研究、生活应用等各个领域发展起来，并且日趋成熟。
但是确实还有很多问题没有得到很好的解决：1、研究现状首先，膜层强度差。
虽然红外膜在8~12um波段，平均透射率能达到98%，但膜层强度差，很多公司在制作红外模时，只能应用于仪器的内部，这在很大程度上局限了红外膜的发展。
此外，多数红外材料像是NaCl、KCl、CsI等玻璃都怕潮湿，这些材料至今尚未找到满意的“三防膜”料。
国内采用ThF4作为三防膜料，波段只到15um，而且有放射性，膜层很不理想。
1、研究现状还有就是红外膜料的种类不是很多，特别是在远红外波段，至今没有一种让人满意的低折射率的硬膜料。
2、发展状况近年来，硬碳膜因为其出色的特点得到了各国科学工作者的极大重视。
它的特点如下：硬度特别坚硬、化学性能稳定，耐腐蚀性高、折射率可变、透射波长范围宽（可见光到50um）、电阻率高、热导率好、密度大、禁带宽度0.8~1.8eV、不吸水、压应力高，具有负温度系数、原材料便宜等特点。
在发展的过程中，科学工作者也实验性的做出了硬碳膜的两种制备方法：低能碳离子沉积法和射频分离碳氢气体两种沉积方法。
3、红外膜应用红外隐身膜二战后，隐身技术作为重大军事技术得到迅猛发展，美、俄、口、英、法等世界军事强国都投入了巨额的经费进行研究，并取得丰硕的成果。
现代化的国家需要现代化的国防，隐身和反隐身技术的高低越来越可以表明一个国家的军事力量的强弱和国防能力的大小。
因此，研究和发展隐身和反隐身技术，对于未来的反侵略战争具有极其重要意义。
隐身技术(又称为目标特征信号控制技术)是通过控制飞机、坦克、舰艇等武器的信号特征，使其难以被发现、识别和跟踪打击的技术。
它是针对探测技术而言的。
其主要包括可见光(视频)隐身、红外隐身、雷达隐身、激光隐身和声隐身等。
实现隐身的技术途径主要包括外形设计、隐身材料以及等离子体隐身技术等等。
其中，采用隐身材料是一项适用范围广，并且对武器性能影响很小的重要技术。
3、红外膜应用红外隐身膜常用的涂层红外隐身技术，是在高发射率衬底表面涂覆一层低红外发射率涂料，与其它高发射率表面构成一种红外迷彩，从而尽量打破目标红外图像的几何轮廓，降低目标与周围环境的热辐射对比度，实现红外隐身的目的。
低红外发射率的涂料通常铝粉、着色颜料和有机粘合剂粘合而成，或由掺杂的半导体材料构成。
低红外发射率薄膜是另一类有潜力的红外隐身材料，与涂层相比，薄膜的制备工艺比较复杂，成本也较昂贵。
目前，低发射率薄膜按结构成分的不同，可分为金属薄膜、半导体薄膜、电介质薄膜等几种基本类型。
3、红外膜应用红外隐身膜金属薄膜可以实现较低的红外发射率，但是对雷达波和可见光的反射率较高，不容易实现与其它波段的隐身技术兼容。
半导体薄膜可以通过调整其掺杂浓度，改变其等离子频率，调整薄膜的反射率谱，实现可见光低反射、1.06 um激光低反射、红外高反射(低发射)，实现多波段兼容隐身电介质薄膜可以利用离子晶体的剩余射线区域，实现红外波段的高反射(低发射)，而在其它波段，由于电介质自由载流子少，很难与其它波段的电磁辐射祸合，可以实现其它波段电磁波的透明，从而不影响其它波段的隐身。
谢谢！！。
