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质子加速器参数质子加速器作为现代物理研究和医疗治疗的重要工具，其设计和运行参数对于其性能和应用具有决定性的影响。
本文将详细探讨质子加速器的各项关键参数，包括能量、束流强度、束流品质、加速器结构以及相关的运行条件。
一、能量质子的能量是质子加速器最基本的参数之一，它决定了质子束的穿透能力和在物质中的剂量分布。
高能质子能够深入物质内部，对于放射治疗而言，这意味着可以更精确地定位肿瘤，同时减少对周围健康组织的损伤。
质子加速器的能量通常以兆电子伏特（MeV）或吉电子伏特（GeV）为单位。
在医疗应用中，质子能量通常在70 MeV至250 MeV之间，而在高能物理研究中，质子能量可以达到数百GeV甚至更高。
二、束流强度束流强度指的是单位时间内通过加速器出口的质子数量。
高强度的束流意味着在相同时间内可以传递更多的质子到目标位置，这对于提高治疗效率或实验数据的统计精度至关重要。
束流强度受到加速器源（如离子源）、加速器结构（如加速器管道的长度和直径）、以及加速电场强度等因素的影响。
在实际应用中，束流强度需要根据具体需求进行优化，以平衡治疗效率、设备成本和运行稳定性。
三、束流品质除了能量和强度外，束流品质也是评价质子加速器性能的重要指标。
束流品质主要包括束流的单能性、发射度、束斑尺寸和束流稳定性等方面。
1. 单能性：理想的质子束应具有单一的能量值，但实际上由于加速过程中的能量损失和散射等因素，质子束的能量会有一定的分布。
单能性好的质子束在治疗时能够提供更均匀的剂量分布。
2. 发射度：发射度是描述束流在相空间（位置和动量空间）中分布的物理量。
低发射度的束流具有更好的聚焦性能，能够在目标位置形成更小的束斑。
3. 束斑尺寸：束斑尺寸指的是质子束在目标平面上的投影大小。
小束斑尺寸对于实现高精度放射治疗至关重要。
4. 束流稳定性：束流稳定性指的是束流强度、能量和束斑尺寸等参数在时间上的稳定性。
稳定的束流能够保证治疗或实验的重复性和可靠性。
电子直线加速器的加速模式与运行参数分析电子直线加速器（linear accelerator，简称LINAC）是一种用于加速电子束的重要装置，广泛应用于医学、科研和工业领域。
本文将对电子直线加速器的加速模式与运行参数进行分析。
一、加速模式1. 连续波模式（CW）：电子直线加速器在连续运行状态下工作，电子束连续不断地加速。
这种模式适用于高剂量率的医学放疗和高能量的科学研究。
2. 脉冲模式：电子束以脉冲方式加速，脉冲宽度较短。
这种模式适用于成像技术和脉冲放疗等应用。
3. 波前加速模式：电子束利用波前加速技术，采用相位引导结构对电子进行加速。
这种模式具有高效、紧凑和节能等优点，适用于工业应用和实验室研究。
二、运行参数1. 加速能量：电子直线加速器的加速能量是指电子束达到的能量，通常用兆电子伏（MeV）来表示。
不同的应用领域和需求，需要不同的加速能量。
例如，医学领域常用的医用直线加速器加速能量一般在6-25 MeV之间。
2. 加速器长度：电子直线加速器的长度决定了电子束加速的距离，同时也会影响加速器的成本和体积。
对于医学放疗来说，加速器长度一般在3-4米之间；而高能物理研究领域的大型电子直线加速器长度可达几公里。
3. 加速梯度：加速梯度是指电子直线加速器中电场的变化率，通常用兆电子伏/米（MV/m）来表示。
加速梯度越大，加速器的效率越高，但也会引起放电等问题。
目前，高梯度结构的研究与开发是电子直线加速器领域的一个热点。
4. 能量展宽：由于电子直线加速器中电子束的相对论效应，束团在加速过程中会出现能量展宽。
能量展宽会对加速过程的稳定性和束流质量产生影响。
因此，对于特定的应用需求，需要控制能量展宽在一定范围内。
5. 脉冲重复频率：脉冲模式下的电子直线加速器需要指定脉冲重复频率，即单位时间内脉冲的次数。
脉冲重复频率越高，意味着单位时间内可以进行更多的实验或治疗。
6. 稳定性要求：对于医学放疗等精密应用来说，电子直线加速器的稳定性非常关键。
一医用直线加速器系统技术规格及参数医用直线加速器是一种医疗设备，用于放射治疗和肿瘤研究。
它采用直线加速器技术，将高能电子束加速到非常高的速度，并用于治疗癌症和其他相关疾病。
下面将介绍医用直线加速器的技术规格及参数。
1.加速器类型：医用直线加速器通常分为两种类型：电子直线加速器和电子直线加速器/调强（比如加速器自身能以瞬间超标剂量进行治疗方向调整）。
前者用于治疗表浅肿瘤，后者用于治疗深部肿瘤。
2.能量范围：医用直线加速器的能量范围通常从4MeV到25MeV。
不同的能量适用于不同的治疗情况，可以根据患者的具体需要进行调整。
3.治疗方式：医用直线加速器可以用于不同的治疗方式，包括3D适形放射治疗、强调放射治疗（IMRT）、调强电弧放射治疗（VMAT）等。
这些治疗方式可以根据患者的具体情况进行调整和组合，以达到最佳的治疗效果。
4.辐射剂量控制：医用直线加速器系统具有精确的辐射剂量控制功能，可以精确地控制电子束的射程和强度。
这对于确保治疗的准确性和安全性至关重要，并可以减少对周围正常组织的伤害。
5.同步装置：医用直线加速器通常配备同步装置，用于确保电子束与患者的位置和呼吸节奏同步。
这可以帮助治疗师在治疗过程中准确地控制电子束的方向和强度。
6.控制系统：医用直线加速器的控制系统通常采用先进的计算机技术，可以实时监控和调整治疗参数。
医生和治疗师可以根据患者的情况进行实时的调整，以达到最佳的治疗效果。
7.安全系统：医用直线加速器的安全系统包括辐射监测和警报系统，以及灾难缓解机构。
这些系统能够确保设备在运行过程中的安全，及时发出警报并采取相应措施以保护人员的安全。
8.图像引导系统：医用直线加速器通常配备图像引导系统，可以在治疗过程中实时监测肿瘤和周围组织的位置和形状。
这有助于治疗师准确地定位肿瘤并调整电子束的方向和强度。
总结：医用直线加速器是一种功能强大的医疗设备，它具有精确的辐射剂量控制、多种治疗方式、同步装置、先进的控制系统、安全系统和图像引导系统等功能。
医用直线加速器医用加速器是生物医学上的一种用来对肿瘤进行放射治疗的粒子加速器装置。
带电粒子加速器是用人工方法借助不同形态的电场，将各种不同种类的带电粒子加速到更高能量的电磁装置，常称“粒子加速器”，简称为“加速器”。
要使带电粒子获得能量，就必须有加速电场。
依据加速粒子种类的不同，加速电场形态的不同，粒子加速过程所遵循的轨道不同被分为各种类型加速器。
目前国际上，在放射治疗中使用最多的是电子直线加速器。
电子直线加速器电子直线加速器是利用具有一定能量的高能电子与大功率微波的微波电场相互作用，能量电子直接引出，可作电子线治疗。
电子打击重金属靶，产生韧致辐射，发射X射线，作X线治疗。
根据电子与微波电场的作用方式不同，电子直线加速器分为行波加速器和驻波加速器。
一个最简单的电子直线加速器至少要包括，一个加速场所（加速管），一个大功率微波源和波导系统，控制系统，射线均整和防护系统。
当然市场上作为商品的设备要远比这些复杂，但这些基本部件都是必不可少的。
医用加速器的分类分类情况医用加速器按照能量区分可以分为低能机、中能机和高能机。
按照X能量的档位加速器分为单光子、双光子和多光子。
低中高能机的区分主要在于给出的电子线的能量。
医用加速器用于放疗的适应症1、当其用于常规放疗时其适应症为：医用加速器适应症广泛，可用于头颈、胸腔、腹腔、盆腔、四肢等部位的原发或继发肿瘤，以及手术后残留的术后或手术前的术前治疗等。
西门子直线加速器它所产生的高能X线具有照射深度强，射线集中等优点为，不仅能有效杀死癌细胞，而且能保护正常组织少受损伤，是治疗深部肿瘤的理想设备。
它优于国产加速器，可以产生六档电子线，为肿瘤治疗提供了更好的方法。
高能X线具有皮肤损伤小，照射量高，保证正常组织效果好的特点，主要用于治疗深部肿瘤，高能电子束，能量可变，可根据不同的肿瘤深度进行调节选择，可用于恶性肿瘤和偏心性肿瘤的治疗，术中放疗也多用于高能电子束。
恶性肿瘤患者的治疗提倡的是综合治疗，放射治疗是不可缺少的手段，约有70%的患者需行放射治疗，医用直线加速器是现今国际上先进的放疗设备。
医用电子直线加速器计算公式医用电子直线加速器是用于放射治疗的重要设备，它通过将电子加速到高能，然后将高能电子束应用于癌细胞或肿瘤，以杀灭或抑制其生长。
医用电子直线加速器的计算公式涉及到能量、剂量、深度剂量分布等参数的计算，下面是一些常用的计算公式。
1.加速器能量计算公式能量是电子加速器的重要参数，通常以单位电子伏特（electron volt，eV）表示。
加速器能量与波长之间的关系可以用德布罗意关系公式表示：E = hc/λ2.深度剂量分布计算公式深度剂量分布是指电子束在入射体内产生剂量的分布情况。
深度剂量分布通常用剂量深度曲线（depth dose curve）来表示。
剂量深度曲线可以通过以下公式计算：D(Depth) = D(0) × (d/100)^b其中，D(Depth)为深度处的剂量，D(0)为入射体表面处的剂量，d为深度（以厘米为单位），b为入射体的深度剂量指数。
3.治疗剂量计算公式治疗剂量是指用于杀灭癌细胞或肿瘤的剂量。
治疗剂量的计算是根据目标组织的大小、位置、深度等因素进行的。
常用的计算公式有以下几种：- TG-51公式：D = (MU × D(0)) / (Cal × Tx)其中，D为所需治疗剂量，MU为监控单元数，D(0)为入射体表面处的剂量，Cal为校正因子，Tx为所需治疗时间。
- Clarkson-Summon公式：D = (I × t) / (2πr^2 × ρ × Te)其中，D为治疗剂量，I为电子束电流，t为治疗时间，r为病灶到治疗器的距离，ρ为病灶的密度，Te为入射体在深度处的透射因子。
4.辐射剂量计算公式辐射剂量是指电子束对靶组织或器官的辐射剂量。
常用的辐射剂量计算公式有以下几种：- PAB (Pencil Beam Algorithm)公式：D(x, y, z) = (MU × D(0) × Sp(x, y)) / (Cal × Tx × Lh(x, y, z))其中，D(x, y, z)为点(x, y, z)处的剂量，MU为监控单元数，D(0)为入射体表面处的剂量，Sp(x, y)为空间因子，Cal为校正因子，Tx为所需治疗时间，Lh(x, y, z)为沿光束路径(x, y, z)的走时因子。
ELV加速器简介ELV中国维修销售代表：张昌有联系电话：俄罗斯科学院新西伯利亚核物理研究院是当今世界最大的粒子加速器科研、生产基地，世界上第一座正负电子对撞机即诞生于此。
ELV系列工业电子加速器是该院生产的大功率工业级电子加速器，具有如下优、特点：●原理简单，结构紧凑，体积小，24小时运行稳定可靠●电能-束功率转换效率高●出束迅速，引出束流品质好●能量、束流连续可调●真空准免维护●冷却水用量少，且无特别要求●全微机控制，该领域内最好的与束下工艺、附属工装设备的接口●可提供双面、环形及独特的四面辐照装置●操作、运行简单●价格合理●交货及时●优质售后服务,出现故障时一般情况24小时内到达，或更短时间●备品、备件使用少，购买方便●建设期间提供全程免费咨询ELV工业电子加速器可广泛应用于热收缩管、热收缩带（片）、管道防腐包覆片、交联发泡聚乙烯、电缆附件、母排管、色标管、架空电缆、特种电缆、交联聚乙烯管、高级“O”型圈、木塑复合材料、聚四氟乙烯降解等的生产，也可用于橡胶辐射硫化、橡胶再生、涂层固化、粮食辐照、废水废气处理以及辐照加工服务等。
目前，国内50%以上的大功率工业电子加速器为ELV型。
如果您对ELV系列工业电子加速器及电子束辐射加工感兴趣，欢迎垂询：垂询电话：，E-MAIL：ELV 电子加速器与Dynamotron 加速器之性价比较一、Dynamotron比较ELV 之优点：1．价格与ELV相比较便宜，ELV加速器（2.5Mev,50mA,100kW）据配置不同，折合人民币价格不同；2．ELV的能量最高为2.5Mev,而Dynamotron能量可上到3Mev。
3．Dynamotron的阴极使用寿命稍长。
二、ELV比较Dynamotron之优点1．ELV加速器原理简单，附属设备简洁且费用低，长时间运行稳定可靠；2．ELV加速器电能-束功率转换效率高,同样100kW的束功率, ELV加速器需要小于130kW的供电功率即可运行,而Dynamitron 需要约260-280kW的供电功率才能保证运行。
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Elekta加速器具有最大的净空间与最小的机头直径：净空间最大（45cm），机头直径最小（62cm）。
这对于治疗摆位很重要。
尤其是作立体定向放射治疗技术（头、体刀）或开展适形调强技术，特别是对在非共面治疗中由于床旋转角度的限制而无法治疗的一些病如盆腔放疗等。
专业知识分享
拥有全球三十几家国际著名大学和医院战略联盟单位。
这不仅仅是Elekta产品研发技术创新的强大支持，也是Elekta的客户进行全方位的学术交流、成果共享的丰富资源，这对提高医院的学术地位乃至业内知名度都有显而易见的影响。
专业知识分享。
吉比特h5-9参数吉比特H5-9是一种高性能的神经网络训练加速器，其参数包括以下几个方面：一、性能参数：1.计算能力：吉比特H5-9的计算能力非常强，每秒可达到205 TOPS的峰值计算能力，即每秒可以执行205万亿次浮点运算。
2.参数量：吉比特H5-9的最大参数量是512MB。
这意味着，它可以处理具有大量参数的神经网络模型。
3.带宽：吉比特H5-9的带宽为8192 GB/s。
这意味着，在训练神经网络的过程中，它可以快速地读取、写入和移动数据。
二、技术参数：1.芯片封装：吉比特H5-9采用的是14纳米的FinFET工艺，芯片封装面积为605平方毫米，共有48个HBM2堆叠内存和16个计算核心。
2.架构：吉比特H5-9采用的是自主研发的GCN（Graphcore Colossus Network）架构。
这种架构是近年来新兴的神经网络计算架构之一，能够有效地解决神经网络计算中的计算瓶颈问题。
3.支持的混合精度计算：吉比特H5-9支持混合精度（16位和32位）计算。
这种混合精度计算可以加速计算速度，并降低功耗。
三、应用参数：1.适用场景：吉比特H5-9适用于各种深度学习任务，包括语音识别、自然语言处理、图像识别、目标检测、机器翻译等。
2.应用范围：吉比特H5-9主要应用于数据中心、云计算、科学研究等领域。
它可以有效地提升计算效率，加速神经网络训练过程，从而缩短模型训练时间。
总之，吉比特H5-9是一款高性能的神经网络训练加速器，具有强大的计算能力和带宽，采用自主研发的GCN架构，支持混合精度计算，广泛应用于数据中心、云计算、科学研究等领域。
12 技术的数据章节——标题——页数12.1——放射机头——12-212.2——机动楔形——12-612.3——总楔形——12-1012.4——剂量魔力化——12-1412.5——多叶准直器（MLC）——12-1612.6——影像托架——12-2012.7——电子限光筒——12-2512.8——刻度和范围——12-2812.9——几何学数据——12-2912.10——放射数据——12-3512.1 放射机头介绍有两种类型的放射机头：²标准。
²多叶准直器（MLC）。
注意：图12.1在下所示MLC机头在X线模式（控光装置依照IEC601标记）。
一个标准机头的MLC叶片和Y倒退的控光装置取代一个单个设置的标准Y控光装置（完全衰减）。
12.1.1 操作模式有两种操作模式，X线模式和电子模式。
每个模式电子束修正通过以下方法来修正治疗机头：12.1.2 照亮的照射野照明系统定义照射野系统准备一束灯光范围，为了显示靶面移动。
灯光设计通过次准直器和穿过聚脂薄膜十字线片。
聚脂薄膜十字线片聚脂薄膜片有线印在上面，指出等中心和楔形方向。
12.1.3治疗机头的尺寸标准机头的尺寸图12.3所示标准机头的尺寸（依照IEC601来标记控光装置）。
MLC机头的尺寸图12.4所示MLC机头的尺寸（依照IEC601来标记）。
12.2 机动楔形介绍机动楔形可用照射野有成角的等剂量来区分1°和60°。
由一个全楔形照射野和一个打开的照射野合并提出。
机动楔形是准确数字式加速器系统功能和结构的部分。
注意：所有加速器用准确桌面网络应该有同样类型大的自动楔形。
12.2.1 楔形的材料和尺寸楔形是由铅/锑浇铸制成的（96％铅和4％锑）。
12.2.2 合成楔形角的推导楔形角楔形角是在一个水模中深度10cm处，在楔形照射野等剂量和常规中心轴束的角度。
在测量条件描写下，全楔形角为60°。
推导方法合成楔形角用用图12.6中例子推导。
测量条件图12.6所示等剂量来设置：²8MV束。
²100cmSSD。
²10cm³10cm照射野。
²规格化最大深度。
²加重剂量到同点。
举例计算以下一个方法所示计算打开全楔形监视单位来提出需要的合成楔形角。
F=tanυs/tanυNX=±(1－F)/FMU T=MU O+MU WMU O=X³MU W那里：F=合成楔形角度到全楔形野角度的比率υs＝合成楔形野的角度υN＝全楔形野的角度＝60°X＝-（打开照射野监视单位到全楔形监视单位的比率）MU T＝合计监视单位MU W＝楔形片断监视单位MU O＝打开片断监视单位那里：MU T＝MU W＋MU O和MU O＝X³MU W我们能说MU T＝X³MU W＋MU W同MU T＝（X＋1）³MU W因此，MU W＝MU T/（X＋1）同样，MU T＝MU W＋MU O，所以MU W＝MU T－MU O一个例子：合计监视单位＝200需要合成楔形角度是30°，那么：F＝tanυ（s）/tanυ＝tan30°/tan60°＝0.3333并X＝±（1－F）/F＝（1－0.3333）/0.3333＝2所以MU W＝MU T/（X＋1）＝200/（2+1）＝200/3＝66.7MU及MU O＝MU T－MU W＝200－66.7＝133.3MU计算错误通常估计中的错误是，用公式野大小不同于10cm³10cm来合成楔形角：3％在很大野大小，小于3％在较小野大小。
警告！9 可用其它已公布公式计算合成楔形角。
注意应该比较不同公式下获得的值，结果基于不同标准和定义。
12.3 总楔形当总楔形魔力化实施计算移动照射野的控光装置（虚拟）部分，必要条件是拒绝片断或实现制圆。
1 如果一些总楔形照射野照射片断的起源值计算小于1MU，这个值将加到下一个照射片断，从而设置当前值到0MU，产生一个非放射片断。
2 如果一个值小于1MU保留在移动照射野控光装置部分的最后，这个值将加到先前照射片断。
如果发现移动控光装置部分没照射片断，这个值会被清除。
3 如果合计MU传递小于合计处方MU（由于野的大小），有许多照射将加到移动控光装置部分的第一照射片断。
这些相当泄漏部分的控光装置，会出现在已治疗的后来片断中。
注意：虚拟楔形轮廓不是同样机动化的楔形轮廓，通常藏着的。
劝告用户确保个别轮廓不同于照射野大小。
第一片断是照射野楔形的一部分，第二片断是打开部分，第三片断是打开准备虚拟楔形照射野位置只移动的控光装置。
因此第四片断是虚拟楔形束的第一照射片断。
12.3.1 MU交叉片断的分类方法用总楔形魔力化分类处方监视单位举例以下片断正确范围的方法：1 计算初始移动控光装置位置和最终移动控光装置位置。
2 每个片断照射野部分的虚拟楔形：（a）如果位置在计算开始和结束点的包括：- 从累积百分率计算处方MU设置相应片断（见土图12.7），用户输入数值。
再减去一些处方传递虚拟楔形MU（部备份MU将计算为处方MU加上2％的最小补充2MU和一个最大的10MU）.- 如果计算处方MU大于或等于1，这个值设置为MU值来传递那个片断。
- 如果计算处方小于1，片断将为只移动片断，这个值将加到下一个照射片断中。
（b）如果这个片断的动态控光装置位置不在计算开始和结束点中，设置片断为一个只移动片断。
3 如果最后照射片断不是最大总楔形照射野的最终片断，结束附加照射，必需传递说明未传递控光装置泄漏和加这个到泄漏楔形的第一照射片断中。
用束分量的起源表格（见图12.7），可以让用户常规计算照射野虚拟楔形部分的每个片断的MU。
表格描绘出一个每1cm移动控光装置设置的百分率，应用来合计虚拟照射野的MU。
12.3.2 举例计算个别片断MU值用户必需第一确定用总楔形魔力化计算MU的片断。
例如，一个27³27cm的照射野大小，整个表格将利用包括每个片断和一个10³10cm照射野大小，只有片断20到40将被使用。
1 应用从虚拟楔形束中合计MU表格需要第一百分率值。
这应该显示为小数后1位。
2 对下一个照射片断重复以上步骤，这时不要四舍五入到1小数位。
再减去以上步骤得到的合计MU，显示为1小数位。
那么这个片断的合计MU是1.5MU。
如果这个值小于0.9MU，值将带到计算另一个片断中，但是如果值在0.9和1.0之间，值将四舍五入等于1.0。
3对下一个照射片断重复以上步骤。
每次得到一个新值，累积合计MU必需减去这个。
一旦得到每个这时片断的所有合计MU，求这些值到虚拟楔形片断的一个合计值和。
如果最后这时片断不是照射野的最终片断（i.e.野大小小于27cm长度），附加照射需要计算非传递控光装置泄漏，必需计算并加到第一照射片断中。
做这个，用0.5％的保留最初附加虚拟楔形MU，应用它到第一片断。
传递MUs用同样的例子，10³10cm照射野大小，80合计监视单位。
其中，片断40已经传递，合计的51.85％将传递（41.5MU）加上10.5％的保留MUs（38.5的10.5％＝4.04MU+41.5MU）因此MU传递到虚拟楔形照射野＝45.5放弃MUs＝34.512.4 剂量魔力化所有DICOM输入的照射野在每个控制点名为‘百分比MU’中有一个参数。
这个百分比MU值在第一控制点总是为0.0，最后为100.0。
每个片断说明通过一对控制点。
片断中第二控制点百分比MU值，说明合计照射野MU的百分率应该在片断终止前传递。
当剂量魔力化运行，每个片断的MU值计算如下：1 减去那时片断的第一控制点的百分比MU值，从而给出合计照射野MU的百分率，要传递这个片断。
2 应用这百分率，用户要求合计照射野MU，给出那个MU的理想数字。
3 这个数字接近0.1（储存监视单位的决定）。
通过这个值计算为0.9，就作为1.0（片断的最小MU和一个0.1的考虑过的容许量）。
片断MUs不能计算小于0.9，作为有效范围的百分率，这个值必需在剂量魔力化上输入。
最小值是；值引起片断最小为0.9。
最大值是小于如下的：（a）值引起片断最大MUs等于用户化最大片断MUs（正常为1000.0MU）或（b）最大照射野MU（9999.0）片断备份MUs不是从照射野备份MUs用户输入的值计算（准备防备意外的输入数据错误），但能计算如下：（a）计算一个理想备份MU为1.02时间作为处方MU。
（b）那个理想备份MU值小于2，大于处方值，那么备份MU＝处方MU+2（c）那个理想备份MU值大于10，大于处方值，那么备份MU＝处方MU+1012.5 多叶准直器（MLC）介绍多叶准直器允许不用挡块产生形状照射野。
可是，没有设计在医科达MLC机头，排除用常规挡块好的前提。
MLC设计装备由两个40钨叶片的储存器组成，安在垂直于总是方向和直线性的走动到束的轨道中。
每个叶片是：²单个用一个小马达驱动。
²邻近叶片有的很小的裂隙，减少摩擦力。
²邻近叶片垂直面上有小重叠，减少裂隙中通过的泄漏。
²按照总是束的照射方向垂直面上有倾斜，远离中心轴的叶片倾斜明显。
²在弯曲下，整个照射野储存范围的半影最优化，达到偏移。
叶片配置输入一个处方常规或外部系统中输入叶片位置，用优化治疗或当一个三分之一的记录和连接核实系统输入后用标准治疗。
叶片正确的位置通过允许在桌面控制系统浏览叶片的功能来确认，用一个可选的监视系统。
在加速器治疗状态立刻进入中断时，有一些不确定关于叶片位置。
等中心的位置叶片设计离等中心10mm。
由于步骤，依照叶片位置，个别叶片设计离等中心可能11.0mm到12.00mm。
防护控光装置²Y备份控光装置在多叶上装配合适，减少核实泄漏。
²Y控光装置（全衰减）允许调节X轴的野大小，否则限制到1cm 谨慎的步骤。
在治疗设置中，有四个独立的控制控光装置中断移动到最大防止放射泄漏的位置，同时又不干扰多叶装配定义的照射野。
12.5.1 叶片位置限制用以下限制，在处方照射野尺寸中，叶片能到任何地方（用IEC 606或双级等级来定义控光装置）²在每个照射野边缘Y1和Y2定至少一个叶片。
²在两个相对的叶片和其相邻叶片中，要最小处方间隔防止碰撞。
²照射野大小有X1定义，X2控光装置定义最外的叶片对。
²超过中心轴的极限为12.5cm。
最小叶片间隔两个相对叶片和相邻叶片中，最小处方间隔防止碰撞。
不管偏移和机架角度，用固定间隔来防止叶片碰撞。
X控光装置照射野大小照射野大小的X方向上必需有控光装置来定义，不是最远的叶片。
