晶体管模型
- 格式:pdf
- 大小:555.50 KB
- 文档页数:7
晶体管h参数模型
晶体管是现代电子技术中最常用的器件之一,是将微弱的信号放大或开关的重要元器件。
为了更好地研究和设计晶体管电路,需要建立精确的数学模型。
其中,h参数模型是一种最为常用的晶体管模型之一。
h参数模型是通过对晶体管输入输出端口的电流和电压之间的关系进行建模得到的。
其中,h11参数表示输入电阻;h12参数表示反向传输电导;h21参数表示正向放大系数;h22参数表示输出导纳。
通过这些参数,可以计算得到晶体管的各种电路参数。
在具体的应用中,h参数模型可以用于计算晶体管的输入输出阻抗、放大系数、稳定性等性能指标。
并且,h参数模型还具有较好的可靠性和实用性,因此在工程实践中得到广泛应用。
总之,晶体管h参数模型是一种重要的数学模型,可以用于分析和设计各种晶体管电路。
对于电子工程师来说,了解和掌握h参数模型,是提高设计水平和解决实际问题的重要基础。
- 1 -。
集成电路晶体管模型及参数提取研究随着数字化、智能化时代的到来,集成电路技术得到了快速发展和广泛应用。
而晶体管作为集成电路的基石,所扮演的角色愈发重要。
因此,研究晶体管模型及其参数提取技术,成为了当前集成电路领域的重要研究方向。
本文将介绍集成电路晶体管模型及参数提取技术的相关背景和进展。
晶体管模型概述晶体管作为集成电路中占有重要地位的元器件,其模型的建立是必不可少的。
早期,为了更好地理解晶体管的物理特性,人们提出了一些粗略的模型。
如饱和型模型、中心线模型、T型模型和Ebers-Moll模型等。
其中,饱和型模型和中心线模型缺乏实用性,而T型模型过于复杂,难以得到可靠的参数。
Ebers-Moll模型则成为了主流。
Ebers-Moll模型是一种二极管模型,它将晶体管等价成两个PN 结串联形成的四层结构。
它的模型方程为:$I_C=I_S\left(e^{\frac{V_{BE}}{V_T}}-1\right)\left(e^{\frac{V_{BC}}{V_T}}-1\right) $其中,$I_C$为输出电流,$I_S$为饱和电流,$V_{BE}$为发射极与基极之间的电位差,$V_{BC}$为集电极与基极之间的电位差,$V_T$为热电压。
Ebers-Moll模型能够准确地描述晶体管的电流特性,并且其模型参数易于测量。
但是,它无法描述晶体管的高频特性和非线性特性。
因此,在实际应用中,需要对其进行改进或采用其他模型。
晶体管参数提取技术为了更好地描述晶体管的性能,我们需要测量出其相关的参数。
晶体管的参数主要分为直流参数和交流参数两类。
如下图所示:直流参数包括:$I_B$、$I_C$、$V_{CE}$等。
测量方法一般采用示波器、电流表、万用表等仪器,通过变化控制电流和电压,进行参数测量。
交流参数包括:$h_{fe}$、$C_{ob}$、$C_{ib}$等。
测量方法一般采用网络分析仪或频谱仪,通过对频率进行变化,测出晶体管的频率响应特性及电容等参数。
mos管的平方率模型MOS管的平方率模型MOS管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)是一种常见的场效应晶体管,广泛应用于集成电路和电子设备中。
平方率模型是用于描述MOS管工作特性的一种数学模型。
本文将介绍MOS管的平方率模型以及其应用。
平方率模型是基于MOS管的三个重要参数:栅极电压(Vgs)、漏极电压(Vds)和漏极电流(Id)之间的关系。
平方率模型通过电流-电压特性曲线来描述MOS管的工作状态。
在平方率模型中,电流与电压的关系可以表示为:Id = k(Vgs - Vth)^2其中,Id为漏极电流,k为常数,Vgs为栅极电压,Vth为阈值电压。
根据平方率模型,当栅极电压小于阈值电压时,MOS管处于截止区,漏极电流非常小。
随着栅极电压的增加,当栅极电压超过阈值电压时,MOS管进入放大区,漏极电流呈指数增长。
当栅极电压继续增加时,MOS管进入饱和区,漏极电流与栅极电压的平方成正比。
平方率模型的应用非常广泛。
首先,平方率模型可以用于电路设计和仿真。
在设计电路时,我们可以利用平方率模型来计算MOS管的电流和电压,从而确定电路的性能和稳定性。
其次,平方率模型可以用于分析MOS管的非线性特性。
由于平方率模型能够较准确地描述MOS管的工作状态,因此可以用来分析MOS管的非线性失真情况,进而优化电路设计。
此外,平方率模型还可以用于MOS 管的模拟和数字电路设计、功耗估算等方面。
除了平方率模型,还有其他一些模型用于描述MOS管的工作特性,如线性模型和对数模型。
线性模型适用于MOS管的小信号分析,对于小幅度变化的信号响应较为准确。
而对数模型则适用于描述MOS管的大信号工作状态,对于大幅度变化的信号响应更为准确。
不同的模型适用于不同的应用场景,根据具体需求选择合适的模型进行分析和设计。
平方率模型是描述MOS管工作特性的一种重要数学模型。
它通过电流-电压特性曲线来描述MOS管的工作状态,可以应用于电路设计、分析非线性特性以及模拟和数字电路设计等方面。
晶体管π等效模型
晶体管是一种电子元件,它可以被用作放大器、开关、振荡器等。
为了更好地理解晶体管的工作原理,需要使用一种等效模型来描述它的行为。
其中最常用的模型就是π等效模型。
π等效模型是一种简化模型,它把晶体管看做是一个由基极、集电极和发射极构成的三端口网络。
这个网络的输入端是基极,输出端是集电极,发射极则充当了中间节点的作用。
在π等效模型中,晶体管的行为可以看做是一个由输入电阻、输出电导和反向放大系数组成的电路。
通过π等效模型,可以更好地理解晶体管的工作原理。
例如,在放大器中,如果需要提高放大倍数,可以通过增大输入电阻或减小输出电导的方式来实现。
而在开关电路中,可以通过调整输入信号的幅值来控制晶体管的开关状态。
总之,π等效模型是理解晶体管工作原理的重要工具,它可以帮助工程师们更好地设计电路,实现各种功能。
- 1 -。
2.2.3晶体管伏安特性曲线各极电压与电流之间的关系-------外部特性各极电压:V BE 、V CB 、V CE ,由于V BE + V CB = V CE ,所以两个是独立的。
各极电流:I E 、I B 、I C 。
由于I B + I C = I E ,所以两个是独立的。
一、 共E 输入特性曲线共E : 输入:I B 、V BE 。
输出:I C 、V CE 。
共E 输入特性曲线:当V CE 维持不同的定值,输入电流I B 随输入电压V BE 变化的特性1()CE B E BE VI f V =定值V BE 是自变量 I B 是因变量 V CE 是参变量 测试原理图:是一族曲线,每根都类似二极管的伏安特性曲线。
特点:(1) 当V CE = 0时,两PN 结并联,I B 较大 (2) 当V CE 从0→0.3V 时,曲线右移。
(3) 当V CE >0.3V 后,曲线基本重合(V CE 的影响很小),不完全重合的原因:基区宽度调制效应。
当V CE ↑,集电结空间电荷区宽度↑,基区宽度↓,复合几率↓,I B ↓。
实际影响很小,所以一般只画一根。
(4) 存在发射结正向导通电压V BE(on) ,类似二极管正向导通电压V D(on) 。
即发射结正向导通时,不管I B 多大,V BE = V BE(on) 基本不变(分析外电路时)。
()0.60.7:(0.60.7)BE on V N PNSi V V PN P ⎧=⎨-⎩:: 例:如右上图求I B 。
等效电路如右下图()B B B E on B BV V I R -=(5) 反向特性 V BE <0 (NPN)发射结反偏,集电结反偏反向电流 I B =-(I EBO + I CBO ) 很小 I EBO :发射结反向饱和电流I C I V V V VV BECE CECE B=0=0.3V=10V(BR)BEOCBBCCR V V I BBBBBE(o n)R VV I CCEBE/V饱和10V(6) 击穿特性当反向电压大到V (BR )BEO 时,反向电流↑↑ 二、共E 输出特性曲线(P68)当I B 维持不同的定值,输出电流I C 随输出电压V CE 变化的特性2()C E CE I f V =BI 定值分四个区:放大区、饱和区、截止区、击穿区1、 放大区:发射结正偏,集电结反偏0,0BE CB V V >>()C B C E BE C E BE BE on V V V V V V =-∴>=Q特点:(1) 满足C B CEO B I I I I ββ=+≈,I B 对I C 有正向控制作用(2) 当I B 是等间隔时,曲线是平行等距的。