• 按材料分类
Si, SiGe, GaAs, InP, SiC, GaN, CNT, Graphene… HEMT
晶体管SEM图片
4.2.3 半导体物理基础
1. 半导体:常温下电导率介于导体和绝缘体之间的材料。 半导体导电能力具有压敏、热敏及因掺杂而改变的特 性。
2. 半导体的分类: ➢ 元素半导体:Si, Ge等 ➢ 二元化合物半导体:GaAs, InP, SiC, GaN等 ➢ N(>3)元化和物半导体:InGaAs,AlGaN等
禁带宽度 eV 击穿场强MV/cm 热导率W/(cm·k) 饱和速度 107cm/s 电子迁移率 cm2/Vs
介电常数 工作温度 oC 抗辐照能力 rad
Si 1.1 0.6 1.5 1 1500
11.4 175 104
GaAs 1.4 0.6
0.5 1.2(2.1)
8500 (1000) 12.8
4.1.2 微波单片集成电路发展动态
破冰期(1965~1976)
1966年,US 政府,X波段 Si MMIC 开关,机载相控阵天线; 1966年, Jim Turner&C.A. Mead,第一个GaAs MESFET(VHF); 1970年,微波GaAs 器件性能超越Si电路; 1976年,Pengelly&Turner,第一个GaAs 微波单片集成电路(MMIC);
First GaAs MMIC reported in Electro nics Letters,1976
在7~12G Hz的微 波频段内, 实现了小 信号增益 放大器
4.1.2 微波单片集成电路发展动态
高速发展期(1977~1986)
1979年,美国电气、电子和电子工程协会IEEE,首届GaAs IC 学术会议; 1985年, Plessey Caswell,0.7微米栅长、2英寸 的MMIC process; 1985年,“能带工程”,HEMT LNA MMIC(1988)、HBT PA(1989)