材料测试技术课后题答案
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大功率转靶衍射仪与普通衍射仪相比,在哪两方面有其优越性?答:①提高X射线强度:②缩短了试验时间2、何为特征X射线谱?特征X射线的波长与(管电压)、(管电流)无关,只与(阳极材料)有关。
答:由若干条特定波长的谱线构成。
当管电压超过一定的数值(激发电压V激)时产生。
不同元素的阳极材料发出不同波长的X射线。
因此叫特征X射线。
什么是Ka射线?在X射线衍射仪中使用的是什么类型的X射线?答:L壳层中的电子跳入K层空位时发出的X射线,称之为Ka射线。
Ka射线的强度大约是K 6射线强度的5倍,因此,在实验中均采用Ka射线。
Ka谱线又可分为Kal和Ka 2, K a 1的强度是K a 2强度的2倍,且Kal和Ka 2射•线的波长非常接近,仅相差0.004A左右,通常无法分辨,因此,一般用Ka来表示。
但在实际实验中有可能会出现两者分开的情况。
AI是面心立方点阵,点阵常数a=4.049A,试求(111)和(200)晶面的面间距。
计算公式为:dhkl=a (h2+k2+l2)-l/2答:dlll=4.049/(12+12+12)-l/2=2.338A:d200=4.049/(22)-l/2=2.0245A说说不相干散射对于衍射分析是否有利?为什么?答:有利。
不相干散射线由于波长各不相同,因此不会互相干涉形成衍射,所以它们散布于各个方向,强度一般很低,它们在衍射工作中只形成连续的背景。
不相干散射的强度随sin 0/'的增大而增强,而且原子序数越小的物质,其不相干散射愈大,造成对衍射分析工作的不利影响。
6、在X射线衍射分析中,为何要选用滤波片滤掉KB射线?说说滤波片材料的选取原则。
实验中,分别用Cu靶和M。
靶,若请你选滤波片,分别选什么材料?答:(1)许多X射线工作都要求应用单色X射线,由于Ka谱线的强度高,因此当要用单色X 射线时,一般总是选用Ka谱线。
但从X射线管发出的X射线中,当有Ka线时,必定伴有KB 谱线及连续光谱,这对衍射工作是不利的,必须设法除去或减弱之,通常使用滤波片来达到这一目的。
材料测试技术第一章习题答案2.计算当管电压为50kV时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。
解:由eU=mv2, 得v===1.33×108m/sE k=eU=1.6×10-19×50×103=8×10-15J由eU=,得=hc/eU==0.248×10-10m=0.0248nmE max=E k=8×10-15J3. 分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKα X 射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβ X 射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKα X 射线激发CuLα荧光辐射;答:CuKα X射线可以激发CuLα荧光辐射。
因为:Cu的K层电子的逸出功W K=8979eV,对应的吸收限为λk=0.138nm。
Cu的LⅢ层电子的逸出功W LⅢ=933eV,对应的吸收限为λLⅢ=1.33nm。
CuKα射线的λ=0.154nm,CuKβ射线的λ=0.139nm,产生荧光辐射的条件是入射X射线的能量大于电子的逸出功,对K系电子,即λ≤λk,又CuKα和CuKβ都大于λk,小于λLⅢ∴CuKα和CuKβ射线不能激发CuKα荧光辐射,可以激发CuLα荧光辐射。
5. 计算空气对CrKα的质量吸收系数和线吸收系数(假设空气中只有质量分数80%的氮和质量分数20%的氧,空气的密度为1.29×10-3 g/cm3)?解:查表(附录2)知:N对Cr Kα 的质量吸收系数μm1=27.7cm2/g,O对Cr Kα 的质量吸收系数μm2=40.1cm2/g,于是,空气对Cr Kα 的质量吸收系数μm=W1μm1+ W2μm2=0.8×27.7+0.2×40.1 =30.18 cm 2/g线吸收系数μ=μm ×ρ=30.18×1.29×10-3=3.89×10-2 cm -16.为使CuK α线的强度衰减1/2,需要多厚的Ni 滤波片?解:查表知:Ni 对Cu K α 的质量吸收系数μm =49.2cm 2/g ,由I x =I 0e -μm ρx ,得x=ρμI I ln m 0x-,代入相应数值,解得, X=90.82.9421ln ?-=0.00158cm。
绪论部分:1、什么叫光学分析法?光学分析法分为哪两大类。
光学分析法:利用电磁辐射作为“探针”来探测物质的成份、含量、结构和形貌。
可分为:光谱法和非光谱法。
2、什么是光谱法?什么是非光谱法?光谱法:当物质与辐射能作用时,物质内部发生量子化得能级之间的跃迁,并测量由此而产生的发射、吸收或散射的波长和强度。
非光谱法:如果物质同辐射相互作用时不包含能级之间的跃迁,电磁辐射只改变了传播方向、速度或某些物理性质,如偏振面得旋转等。
3、什么是电磁波的干涉和衍射?电磁波的干涉:电磁波在一定条件下能相互作用,当两个波迭加时所形成的波,它的强度可以增大,也可以减小。
电磁波的衍射:电磁波按照直线方向传播,当光束通过一狭缝或窄孔时,它的一部分会出现在阴影中,光的传播方向似乎发生了弯曲的现象。
4、什么是电磁波的频率和波长?单位?电磁波的频率:当空间某点的电场(或磁场)每秒钟到达正极大值的次数,等于周期P 的倒数。
单位:秒1-.波长:波的相邻两极大或极小间的直线距离。
所用单位随着不同的电磁波谱区而不同。
最常用的单位有厘米,微米,纳米,埃。
5、普朗克定律是怎么表达的?辐射的光量子能量E 与辐射的频率v 有什么关系?普朗克定律:辐射是由不连续的能量微粒所构成的,称光子或量子。
把光的波动性与粒子性联系起来。
辐射的光量子能量E 与辐射的频率v 有下列关系:v h E ∙= 其中:h 是普朗克常数,341063.6-⨯J/sec6、纺织材料分析常用电磁波的波长范围是什么?波长在1-1000m 核磁共振可以测量纤维分子链段运动特征和纤维的结晶度。
波长在0.76μm-1000μm 红外线可测基团及含量。
波长在0.1-10nm 的X 射线可以测试纤维微观结构。
X 射线衍射部分:1. X 射线是如何产生的?用某种方法获得自由电子,使在高压电场下加速,加速了的具有一定能量的电子,直接打在阳极靶面上,于是从靶面上发射出来的光即是X 射线。
2、X 射线谱由哪两部分组成?连续X 射线谱和特征X 射线谱。
材料分析测试技术试题及答案材料分析测试技术试题及答案(一)1、施工时所用的混凝土空心砌块的产品龄期不应小于( D)。
A、14dB、7dC、35dD、28d2、高强度大六角头螺栓连接副和扭剪型高强度螺栓连接副出厂时应分别随箱带有( C )和紧固轴力(预拉力)的检验报告。
A、抗拉强度B、抗剪强度C、扭矩系数D、承载力量3、勘察、设计、施工、监理等单位应将本单位形成的工程文件立卷后向( A )移交。
A、建立单位B、施工单位C、监理单位D、设计单位4、城建档案治理机构应对工程文件的立卷归档工作进展监视、检查、指导。
在工程竣工验收前,应对工程档案进展( C ),验收合格后,须出具工程档案认可文件。
A、检查B、验收C、预验收D、指导5、既有文字材料又有图纸的案卷( A )。
A、文字材料排前,图纸排后B、图纸排前,文字材料排后C、文字材料、图纸按时间挨次排列D、文字材料,图纸材料交叉排列6、建筑与构造工程包括那几个分部( B )。
A、地基与根底、主体、装饰装修、屋面、节能分部B、地基与根底、主体、装饰装修、屋面分部C、地基与根底、主体、装饰装修分部D、地基与根底、主体分部7、在原材料肯定的状况下,打算混凝土强度的最主要因素是( B )。
A、水泥用量B、水灰比C、水含量D、砂率8、数据加密技术从技术上的实现分为在( A )两方面。
A、软件和硬件B、软盘和硬盘C、数据和数字D、技术和治理9、混凝土同条件试件养护:构造部位由监理和施工各方共同选定,同一强度等级不宜少于10组,且不应少于( A )组。
A、3B、10C、14D、2010、不属于统计分析特点的是( D )。
A、数据性B、目的性C、时效性D、准时性11、施工资料治理应建立岗位责任制,进展( C )。
A、全面治理B、全方位掌握C、过程掌握D、全范围掌握12、目前工程文件、资料用得最多的载体形式有( A )。
A、纸质载体B、磁性载体C、光盘载体D、缩微品载体13、施工资料应当根据先后挨次分类,对同一类型的资料应根据其( A )进展排序。
、、选择题:(8分/每题1分)1. .当X 射线将某物质原子的K 层电子打出去后,L 层电子回迁K 层,多余能量将另一个L 层电子打出核外,这整个过程将产生(D )。
A. 光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C )2. 有一体心立方晶体的晶格常数是0.286nm ,用铁靶K α(λK α=0.194nm )照射该晶体能产生( B )衍射线。
A. 三条; B .四条; C. 五条;D. 六条。
3. .最常用的X 射线衍射方法是( B )。
A. 劳厄法;B. 粉末多晶法;C. 周转晶体法;D. 德拜法。
4. .测定钢中的奥氏体含量,若采用定量X 射线物相分析,常用方法是(C )。
A. 外标法;B. 内标法;C. 直接比较法;D. K 值法。
5. 可以提高TEM 的衬度的光栏是( B )。
A. 第二聚光镜光栏;B. 物镜光栏;C. 选区光栏;D. 其它光栏。
6. 如果单晶体衍射花样是正六边形,那么晶体结构是( D )。
A. 六方结构;B. 立方结构;C. 四方结构;D. A 或B 。
7. .将某一衍射斑点移到荧光屏中心并用物镜光栏套住该衍射斑点成像,这是( C )。
A. 明场像;B. 暗场像;C. 中心暗场像;D.弱束暗场像。
8. 仅仅反映固体样品表面形貌信息的物理信号是(B )。
A. 背散射电子;B. 二次电子;C. 吸收电子;D.透射电子。
、、判断题:(8分/每题1分)1.产生特征X 射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
( √)2.倒易矢量能唯一地代表对应的正空间晶面。
( √ )3.大直径德拜相机可以提高衍射线接受分辨率,缩短暴光时间。
( × )4.X 射线物相定性分析可以告诉我们被测材料中有哪些物相,而定量分析可以告诉我们这些物相的含量有什么成分。
( × )5.有效放大倍数与仪器可以达到的放大倍数不同,前者取决于仪器分辨率和人眼分辨率,后者仅仅是仪器的制造水平。
材料测试方法智慧树知到课后章节答案2023年下江苏大学江苏大学第一章测试1.点阵参数精确测定时,应尽可能选取高角度的衍射线。
答案:对2.材料的内应力分为三类,X射线衍射方法可以测定答案:第一类应力(宏观应力)3.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生答案:光电子;二次荧光;俄歇电子4.在衍射仪的光学布置中,梭拉狭缝由一组平行的金属薄片组成,其作用是限制射线在竖直方向的发散度对5.理论上X射线物相定性分析可以告诉我们被测材料中有哪些物相,而定量分析可以告诉我们这些物相的含量有多少。
答案:对第二章测试1.闪烁体计数器探测信号是基于信号作用于闪烁体产生光、所产生的光作用于光敏阴极而产生电信号来实现探测的。
答案:对2.对于给定原子,其Kα线的波长比Kβ线波长短。
答案:错3.下列哪些信号可通过电子束与固体物质作用产生?背散射电子;特征X射线;二次电子;俄歇电子4.电磁透镜可用于()的聚焦。
答案:电子束5.假设电子从灯丝上逸出时的能量为0,请问在加速电压为10000V时电子最终的能量大约是多少?答案:10000eV第三章测试1.X射线衍射法测定结晶度是通过测定样品中晶相与非晶相的衍射方位来实现的答案:错2.非晶物质的衍射图由少数漫散峰组成对3.脉冲高度分析器可以剔除那些对衍射分析不需要的干扰脉冲,从而达到降低背底和提高峰背比的作用答案:对4.X射线衍射方法有哪些?答案:劳埃法;周转晶体法;粉末法5.X射线衍射仪常规测量中衍射强度的测量方法有哪些?答案:步进扫描;连续扫描6.德拜相机底片安装方法有哪些?答案:正装法;反装法;偏装法第四章测试1.电子衍射与X射线衍射均是以满足______作为产生衍射的必要条件。
答案:null2.用爱瓦尔德球图解说明电子衍射过程中,以下错误的是()。
答案:k是衍射波的波矢量3.关于电子衍射与X射线衍射的说法,以下正确的是()。
1、X 射线产生的基本条件是什么?X 射线的性质有哪些?答:X 射线产生的基本条件:(1) 产生自由电子(2) 使电子做定向高速运动(3) 在其运动的路径上设置一个障碍物,使电子突然减速。
X 射线的性质:X 射线肉眼看不见,可使物质发出可见的荧光,使照相底片感光,使气体电离。
X 射线沿直线传播,经过电场或磁场不发生偏转,具有很强的穿透能力,可被吸收强度衰减,杀伤生物细胞。
2、连续X 射线谱及特征X 射线谱的产生机理是什么?答:连续X 射线谱的产生机理:当高速电子流轰击阳极表面时,电子运动突然受到阻止,产生极大的负加速度,一个带有负电荷的电子在受到这样一种加速度时,电子周围的电磁场将发生急剧的变化,必然要产生一个电磁波,该电磁波具有一定的波长。
而数量极大的电子流射到阳极靶上时,由于到达靶面上的时间和被减速的情况各不相同,因此产生的电磁波将具有连续的各种波长,形成连续X 射线谱。
特征X 射线谱的产生机理:当X 射线管电压加大到某一临界值Vk 时,高速运动的电子动能足以将阳极物质原子的K 层电子给激发出来。
于是低能级上出现空位,原子系统能力升高,处于不稳定的激发状态,随后高能级电子跃迁到K 层空位,使原子系统能量降低重新趋于稳定。
在这个过程中,原子系统内电子从高能级向低能级的这种跃迁,多余的能量将以光子的形式辐射出特征X 射线。
3、以表1.1中的元素为例,说明X 射线K 系波长随靶材原子序数的变化规律,并加以解释?()Z-σ,靶材原子序数越大,X 射线K 系波长越小。
靶材的原子序数越大,对于同一谱系,所需激发电压越高,k kc h=eV λ,X 射线K 系波长越小。
4、什么是X 射线强度、X 射线相对强度、X 射线绝对强度?答:X 射线强度是指垂直于X 射线传播方向的单位面积上在单位时间内通过的光子数目的能量总和。
5、为什么X 射线管的窗口要用Be 做,而防护X 光时要用Pb 板? 答:m -t 0I =I e μρ,Be 吸收系数和密度比较小,强度透过的比较大;而Pb 吸收系数和密度比较大,强度透过的比较小。
第二章 测量结果的数据处理及误差分析√2-3 用标准测力机检定材料试验机,若材料试验机的示值为5.000MN ,标准测力仪输出力值为4.980MN ,试问材料机在5.000MN 检定点的示值误差、示值的相对误差各为多少?解:示值误差=,020.0000.5980.4−=−示值的相对误差=%04.0000.5020.0−=−√2-8 设间接测量量z x y =+,在测量x 和时是一对一对同时读数的。
测量数据如下表。
试求的标准测量序号y z 偏差。
1 2 3 4 5 6 78 9 10 x 读数100 104 1029810310199101105102 y 读数51 51 5450515250505351解:101.5x =,51.3y =,0.42y σ=,0.687x σ=152.8z x y =+=z x y =+,1,1z z x y∂∂∴==∂∂ 由于10(,)()(0.55iix y x x y y ρ−−∴==∑0.98z σ∴=。
1m 距离的标准偏差为0.2mm 。
如何表示间的函数式?求测此10m 距离的标准差。
见书P27-28页的内容。
5.033,25.039,25.034mm 。
如不计其他不确定度来源,最佳值及其标准不确定度。
见书P36页例题2.8√2-9 用米尺逐段丈量一段10m 的距离,设丈量接测量解:参√2-14 用千分尺重复测量某小轴工件直径10次,得到的测量数据为25.031,25.037,25.034,25.036,25.038,25.037,25.036,2试估计解:参答案网 w w w .h k s h p .c n第三章 信号描述与分析-3 求指数函数的频谱。
√解:()e (00)atx t A a t −=>≥,3dt e Ae dt e t x X t j at t j ∫∫+∞−−+∞∞−−==0)()(ωωω220)()ωωωωω+−=+=+−=+∞+−a j a A j a A e j a Ata j (3-4 求被截断的余弦函数0cos t ω0cos ||()0 ||t t x t t Tω<⎧=⎨≥T解:⎩(题图3-4 )的傅里叶变换。
第一章X射线物理学根底2、假设X射线管的额定功率为1.5KW,在管电压为35KV时,容许的最大电流是多少?答:1.5KW/35KV=0.043A .4、为使Cu靶的K 3线透射系数是K〞线透射系数的1/6,求滤波片的厚度.答:因X光管是Cu靶,应选择Ni为滤片材料.查表得:科m a =49.03cm2 /g, m 3 = 290cm2/g, 有公式,,,故:,解得:t=8.35um t6、欲用Mo靶X射线管激发Cu的荧光X射线辐射,所需施加的最低管电压是多少?激发出的荧光辐射的波长是多少?答:eVk=hc/ 入Vk=6.626 X10-34 >2.998 M08/(1.602 M0-19 X0.71 M0-10)=17.46(kv)入0=1.24/v(nm)=1.24/17.46(nm)=0.071(nm)其中h为普郎克常数,其值等于 6.626 X10-34e为电子电荷,等于1.602 X10-19C故需加的最低管电压应声7.46(kv),所发射的荧光辐射波长是0.071纳米.7、名词解释:相干散射、不相干散射、荧光辐射、吸收限、俄歇效应答:⑴ 当x射线通过物质时,物质原子的电子在电磁场的作用下将产生受迫振动,受迫振动产生交变电磁场,其频率与入射线的频率相同, 这种由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干条件,故称为相干散射.⑵当x射线经束缚力不大的电子或自由电子散射后, 可以得到波长比入射x射线长的X射线,且波长随散射方向不同而改变,这种散射现象称为非相干散射.⑶一个具有足够能量的x射线光子从原子内部打出一个K电子,当外层电子来填充K空位时,将向外辐射K系x射线,这种由x射线光子激发原子所发生的辐射过程,称荧光辐射.或二次荧光.⑷指x射线通过物质时光子的能量大于或等于使物质原子激发的能量, 如入射光子的能量必须等于或大于将K电子从无穷远移至K层时所彳^的功W,称此时的光子波长入称为K系的吸收限.⑸原子钟一个K层电子被光量子击出后,L层中一个电子跃入K层填补空位,此时多余的能量使L层中另一个电子获得能量越出吸收体,这样一个K层空位被两个L层空位代替的过程称为俄歇效应.第二章X射线衍射方向2、下面是某立方晶第物质的几个晶面, 试将它们的面间距从大到小按次序重新排列:(123 ), (100) , (200) , (311 ) , ( 121 ) , ( 111 ) , (210) , (220) , ( 130), (030), ( 221 ), (110).答:立方晶系中三个边长度相等设为a,那么晶面间距为d=a/那么它们的面间距从大小到按次序是:(100)、(110)、(111)、(200)、(210)、(121)、(220)、(221)、(030)、(130)、(311 )、( 123).4、〞-Fe属立方晶体,点阵参数a=0.2866 .如用CrKoX射线(入=0.2291mm )照射,试求(110)、(200)及(211)可发生衍射的掠射角.答:立方晶系的晶面间距:=a / ,布拉格方程:2dsin 0 =入,故掠射角0 =arcsin (入/2 ),由以上公式得:2d(110)sin 0 1=入,得0 1=34.4 °,同理0 2=53.1 °, 0 3=78.2 °.6、判别以下哪些晶面属于[111]晶带:(110), (231 ) , (231 ), (211 ) , (101 ), (133), (112), (132) , (011 ), (212).答:(110)、(231)、(211)、(112)、(101)、(011)属于[111]晶带.由于它们符合晶带定律公式:hu+kv+lw=07、试计算(311 )及(132)的共同晶带轴.答:由晶带定律:hu+kv+lw=0 ,得:-3u+v+w=0 (1) , -u-3v+2w=0 (2), 联立两式解得:w=2v, v=u,化简后其晶带轴为:[112].第三章X射线衍射强度1、用单色X射线照射圆柱柱多晶体试样, 其衍射线在空间将形成什么图案?为摄取德拜图相,应当采用什么样的底片去记录?答:当单色X射线照射圆柱柱多晶体试样时,衍射线将分布在一组以入射线为轴的圆锥而上.在垂直于入射线的平底片所记录到的衍射把戏将为一组同心圆. 此种底片仅可记录局部衍射圆锥,故通常用以试样为轴的圆筒窄条底片来记录.2、原子散射因数的物理意义是什么?某元素的原子散射因数与其原子序数有何关系?答:(1)原子散射因数f是一个原子中所有电子相干散射波的合成振幅与单个电子相干散射波的振幅的比值.它反映了原子将X射线向某一个方向散射时的散射效率.(2)原子散射因数与其原子序数有何关系, Z越大,f越大.因此,重原子对X射线散射的水平比轻原子要强.3、洛伦兹因数是表示什么对衍射强度的影响?其表达式是综合了哪几个方面考虑而得出的?答:洛伦兹因数是表示几何条件对衍射强度的影响. 洛伦兹因数综合了衍射积分强度, 参加衍射的晶粒分数与单位弧长上的积分强度.4、多重性因数的物理意义是什么?某立方第晶体,其{100}的多重性因数是多少?如该晶体转变为四方系,这个晶体的多重性因数会发生什么变化?为什么?答:(1)表示某晶面的等同晶面的数目.多重性因数越大,该晶面参加衍射的几率越大,相应衍射强度将增加.(2)其{100}的多重性因子是6; (3)如该晶体转变为四方晶系多重性因子是4; (4)这个晶面族的多重性因子会随对称性不同而改变.6、多晶体衍射的积分强度表示什么?今有一张用CuKa摄得的鸨〔体心立方〕的德拜相,试计算出头4根线的相对积分强度〔不计算A〔 3和e-2M,以最强线的强度为100〕.头4根线的.值如下:答:多晶体衍射的积分强度表示晶体结构与实验条件对衍射强度影响的总和I = I0832 卡〔e2 mc2 〕 2 V VC2 P|F|2 〔f〕〔 @A〔昵-2M即:查附录表 F 〔p314〕,可知:20.20 Ir = P F 2 1+COS2 0 sin2 tecs 0 = 14.12; 29.20 Ir =P F 21+COS2 0 sin2 6cos 0 = 6.135 ; 36.70 Ir = P F 2 1+COS2 0 sin2 Scos 0 = 3.777 ; 43.60Ir = P F 2 1+COS2 0 sin2 Qcos 0 = 2.911不考虑A〔9〕〕、e-2M、P 和|F|2 I1=100; I2=6.135/4.12=43.45; I3=3.777/14.12=26.75;I4=2.911/4.12=20.62头4根线的相对积分强度分别为100、43.45、26.75、20.26.第四章多晶体分析方法2、同一粉末相上背射区线条与透射区线条比拟起来其.较高还是较低?相应的d较大还是较小?既然多晶粉末的晶体取向是混乱的,为何有此必然的规律.答:背射区线条与透射区线条比拟, .较高,相应的d较小.产生衍射线必须符合布拉格方程,2dsin 0= %对于背射区属于2.高角度区,根据d= "2sin Q.越大,d越小.3、衍射仪测量在入射光束、试样形状、试样吸收以及衍射线记录等方面与德拜法有何不同?答:〔1〕入射X射线的光束:都为单色的特征X射线,都有光栏调节光束.不同:衍射仪法:采用一定发散度的入射线,且聚焦半径随 2 0变化;德拜法:通过进光管限制入射线的发散度.〔2〕试样形状:衍射仪法为平板状,德拜法为细圆柱状.〔3〕试样吸收:衍射仪法吸收时间短,德拜法吸收时间长,约为10〜20h .〔4〕记录方式:衍射仪法采用计数率仪作图,德拜法采用环带形底片成相,而且它们的强度〔I〕对〔2.〕的分布〔I-2.曲线〕也不同;4、测角仪在采集衍射图时, 如果试样外表转到与入射线成30.角,那么计数管与入射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由外表呈何种几何关系?答:当试样外表与入射X射线束成30.角时,计数管与入射线所成角度为60.,能产生衍射的晶面与试样的自由外表平行.第八章电子光学根底1、电子波有何特征?与可见光有何异同?答:〔1〕电子波与其它光一样,具有波粒二象性. 〔2〕可见光的波长在390 —760nm ,在常用加速电压下,电子波的波长比可见光小5个数量级.2、分析电磁透镜对电子波的聚焦原理,说明电磁透镜的结构对聚焦水平的影响.答:电磁透镜的聚焦原理:利用通电短线圈制造轴对称不均匀分布磁场,是进入磁场的平行电子束做圆锥螺旋近轴运动.电磁透镜的励磁安匝数越大,电子束偏转越大,焦距越短.3、电磁透镜的像差是怎样产生的?如何来消除和减少像差?答:电磁透镜的像差包括球差、像散和色差.(1)球差即球面像差,是磁透镜中央区和边沿区对电子的折射水平不同引起的,增大透镜的激磁电流可减小球差.(2)像散是由于电磁透镜的轴向磁场不对称旋转引起.可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿(3)色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的.稳定加速电压和透镜电流可减小色差.4、说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么?如何提升电磁透镜的分辨率?答:(1)光学显微镜分辨本领主要取决于照明源的波长;衍射效应和像差对电磁透镜的分辨率都有影响.(2)使波长减小,可降低衍射效应.考虑与衍射的综合作用,取用最正确的孔径半角.5、电磁透镜景深和焦长主要受哪些因素影响?说明电磁透镜的景深大、焦长长,是什么因素影响的结果?假设电磁透镜没有像差, 也没有衍射埃利斑,即分辨率极高,此时它们的景深和焦长如何?答:(1)电磁透镜景深为Df=2 Ar0/tan %受透镜分辨率和孔径半角的影响.分辨率低,景深越大;孔径半角越小,景深越大.焦长为DL=2 Ar0加2/ , M为透镜放大倍数.焦长受分辨率、孔径半角、放大倍数的影响.当放大倍数一定时,孔径半角越小焦长越长.(2)透镜景深大,焦长长,那么一定是孔径半角小,分辨率低. (3)当分辨率极高时,景深和焦长都变小.第九章透射电子显微镜1、透射电镜主要由几大系统构成?各系统之间关系如何?答:(1)由三大系统构成,分别为电子光学系统、电源与限制系统和真空系统.(2)电子光学系统是透射电镜的核心, 为电镜提供射线源, 保证成像和完成观察记录任务.供电系统主要用于提供电子枪加速电子用的小电流高压电源和透镜激磁用的大电流低压电源.真空系统是为了保证光学系统时为真空, 预防样品在观察时遭到污染, 使观察像清楚准确.电子光学系统的工作过程要求在真空条件下进行.2、照明系统的作用是什么?它应满足什么要求?答:照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成.它的作用是提供一;.束亮度高、照明孔经角小、平行度好、束流稳定的照明源.要求:入射电子束波长单一,色差小,束斑小而均匀,像差小.3、成像系统的主要构成及其特点是什么?答:成像系统主要是由物镜、中间镜和投影镜组成.(1)物镜:物镜是一个强激磁短焦距的透镜,它的放大倍数较高,分辨率高.(2)中间镜:中间镜是一个弱激磁的长焦距变倍透镜,可在0到20倍范围调节.(3)投影镜:和物镜一样,是一个短焦距的强激磁透镜.4、分别说明成像操作与衍射操作时各级透镜(像平面与物平面)之间的相对位置关系,并画出光路图.答:如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合, 那么在荧光屏上得到一幅放大像, 这就是电子显微镜中的成像操作,如图(a)所示.如果把中间镜的物平面和物镜的后焦面重合,那么在荧光屏上得到一幅电子衍射把戏, 这就是电子显微镜中的电子衍射操作, 如图(b)所示.5、样品台的结构与功能如何?它应满足哪些要求?答:结构:有许多网孔,外径3mm的样品铜网.(1)样品台的作用是承载样品,并使样品能作平移、倾斜、旋转,以选择感兴趣的样品区域或位向进行观察分析. 透射电镜的样品台是放置在物镜的上下极靴之间, 由于这里的空间很小,所以透射电镜的样品台很小,通常是直径3mm的薄片.(2)对样品台的要求非常严格. 首先必须使样品台牢固地夹持在样品座中并保持良好的热;在2个相互垂直方向上样品平移最大值为十mm ;样品平移机构要有足够的机械密度,无效行程应尽可能小.总而言之,在照相暴光期间样品图像漂移量应相应情况下的显微镜的分辨率.6、透射电镜中有哪些主要光阑,在什么位置?其作用如何?答:(1)透镜电镜中有三种光阑:聚光镜光阑、物镜光阑、选区光阑.(2)聚光镜的作用是限制照明孔径角,在双聚光镜系统中,它常装在第二聚光镜的下方;物镜光阑通常安放在物镜的后焦面上, 挡住散射角较大的电子, 另一个作用是在后焦面上套取衍射来的斑点成像;选区光阑是在物品的像平面位置,方便分析样品上的一个微小区域.7、如何测定透射电镜的分辨率与放大倍数. 电镜的哪些主要参数限制着分辨率与放大倍数?答:(1)分辨率:可用真空蒸镀法测定点分辨率;利用外延生长方法制得的定向单晶薄膜做标样,拍摄晶格像,测定晶格分辨率.放大倍数:用衍射光栅复型为标样,在一定条件下拍摄标样的放大像,然后从底片上测量光栅条纹像间距, 并与实际光栅条纹间距相比即为该条件下的放大倍数.(2)透射电子显微镜分辨率取决于电磁透镜的制造水平,球差系数,透射电子显微镜的加速电压.透射电子显微镜的放大倍数随样品平面高度、加速电压、透镜电流而变化.8、点分辨率和晶格分辨率有何不同?同一电镜的这两种分辨率哪个高?为什么?答:(1)点分辨率像是实际形貌颗粒, 晶格分辨率测定所使用的晶格条纹是透射电子束和衍射电子束相互干预后的干预条纹, 其间距恰好与参与衍射的晶面间距相同, 并非晶面上原子的实际形貌相.(2)点分辨率的测定必须在放大倍数时测定,可能存在误差;晶格分辨率测定图需要先知道放大倍数,更准确.所以,晶格分辨率更高.第十章电子衍射1、分析电子衍射与X射线衍射有何异同?答:电子衍射的原理和X射线相似,是以满足(或根本满足)布拉格方程作为产生衍射的必要条件,两种衍射技术所得到的衍射把戏在几何特征上也大致相似. 但电子波作为物质波,又有其自身的特点:(1)电子波的波长比X射线短得多,通常低两个数量级;(2)在进行电子衍射操作时采用薄晶样品,薄样品的倒易点阵会沿着样品厚度方向延伸成杆状,因此,增加了倒易点阵和爱瓦尔德球相交截的时机, 结果使略微偏离布拉格条件的电子束也可发生衍射.(3)因电子波的波长短,采用爱瓦尔德球图解时,反射球的半径很大,在衍射角较小的范围内反射球的球面可以近似地看成是一个平面, 从而也可以认为电子衍射产生的衍射斑点大致分布在一个二维倒易截面上.(4)原子对电子的散射水平远高于它对X射线的散射水平(约高出四个数量级)2、倒易点阵与正点阵之间关系如何?倒易点阵与晶体的电子衍射斑点之间有何对应关系?答:倒易点阵是在正点阵的基石^上三个坐标轴各自旋转90度而得到的.关系:零层倒易截面与电子衍射束是重合的, 其余的截面是在电子衍射斑根底上的放大或缩小.3、用爱瓦尔德图解法证实布拉格定律.答:作一个长度等于1/入的矢量K0,使它平行于入射光束,并取该矢量的端点O作为倒点阵的原点.然后用与矢量K0相同的比例尺作倒点阵.以矢量K0的起始点C为圆心,以1/入为半径作一球,那么从(HKL)面上产生衍射的条件是对应的倒结点HKL (图中的P点)必须处于此球面上,而衍射线束的方向即是C至P点的联接线方向,即图中的矢量K的方向.当上述条件满足时,矢量(K- K0)就是倒点阵原点O至倒结点P (HKL)的联结矢量OP, 即倒格失R* HKL.于是衍射方程K- K0=R* HKL得到了满足.即倒易点阵空间的衍射条件方程成立.又由g*=R* HK , 2sin d/ Fg* , 2sin d/ 入=1/d , 2dsin 0= X,证毕.9、说明多晶、单晶及非单晶衍射把戏的特征及形成原理.答:单晶衍射斑是零层倒易点阵截面上的斑点, 是有规律的斑点;多晶衍射斑是由多个晶面在同一晶面族上构成的斑点, 构成很多同心圆,每个同心圆代表一个晶带;非晶衍射不产生衍射斑,只有电子束穿过的斑点.第十一章晶体薄膜衍衬成像分析1、制备薄膜样品的根本要求是什么?具体工艺过程如何?双喷减薄与离子减薄各适用于制备什么样品?答:1、根本要求:〔1〕薄膜样品的组织结构必须和大块样品的相同,在制备过程中,组织结构不发生变化;〔2〕相对于电子束必须有足够的透明度〞;〔3〕薄膜样品应有一定的强度和刚度,在制备、夹持和操作过程中不会引起变形和损坏;〔4〕在样品制备的过程中不允许外表氧化和腐蚀.2、工艺为:〔1〕从实物或大块试样上切割厚度为0.3mm-0.5mm 厚的薄皮;〔2〕样品薄皮的预先减薄,有机械法和化学法两种;〔3〕最终减薄.3、离子减薄:1〕不导电的陶瓷样品;2〕要求质量高的金属样品;3〕不宜双喷电解的金属与合金样品.双喷减薄:1〕不易于腐蚀的裂纹端试样;2〕非粉末冶金样式;3〕组织中各相电解性能相差不大的材料;4〕不易于脆断、不能清洗的试样.2、什么是衍射衬度?它与质厚衬度有什么区别?答:由于样品中不同位向的晶体的衍射条件不同而造成的衬度差异叫做衍射衬度. 质厚衬度是由于样品不同微区间存在的原子序数或厚度的差异而形成的.4、什么是消光距离?影响消光距离的主要物性参数和外界条件是什么?答:〔1〕由于衍射束与透射之间存在强烈的相互作用, 晶体内透射波与入射波的强度在晶体深度方向上发生周期性的振荡,此振荡的深度周期叫消光距离.〔2〕影响因素:晶体特征,成像透镜的参数.9、说明挛晶与层错的衬度特征,并用各自的衬度形成原理加以解释.答:〔1〕挛晶的衬度特征是:挛晶的衬度是平直的,有时存在台阶,且晶界两侧的晶粒通常显示不同的衬度,在倾斜的晶界上可以观察到等厚条纹.〔2〕层错的衬度是电子束穿过层错区时电子波发生位相改变造成的.其一般特征是:1〕平行于薄膜外表的层错衬度特征为,在衍衬像中有层错区域和无层错区域将出现不同的亮度,层错区域将显示为均匀的亮区或暗区. 2〕倾斜于薄膜外表的层错,其衬度特征为层错区域出现平行的条纹衬度. 3〕层错的明场像,外侧条纹衬度相对于中央对称,当时,明场像外侧条纹为亮衬度,当时,外侧条纹是暗的;而暗场像外侧条纹相对于中央不对称, 外侧条纹一亮一暗.4〕下外表处层错条纹的衬度明暗场像互补, 而上外表处的条纹衬度明暗场不反转.10、要观察钢中基体和析出相的组织形态,同时要分析其晶体结构和共格界面的位向关系, 如何制备样品?以怎样的电镜操作方式和步骤来进行具体分析?答:把析出相作为第二相来对待,把第二相萃取出来进行观察,分析晶体结构和位向关系;利用电子衍射来分析,用选区光阑套住基体和析出相进行衍射, 获得包括基体和析出相的衍射把戏进行分析,确定其晶体结构及位向关系.第十三章扫描电子显微镜1、电子束入射固体样品作用时会产生哪些信号?它们各具有什么特点?答:主要有六种:1〕背散射电子:能量高;来自样品外表几百nm深度范围;其产额随原子序数增大而增多.用作形貌分析,显示原子序数称度,定性地用作成分分析2〕二次电子:能量较低;对样品外表状态十分敏感.不能进行成分分析.主要用于分析样品表面形貌.3〕吸收电子:其衬度恰好和SE或BE信号调制图像衬度相反;与背散射电子的衬度互补. 吸收电子能产生原子序数衬度,即可用来进行定性的微区成分分析.4〕透射电子:透射电子信号由微区的厚度、成分和晶体结构决定.可进行微区成分分析.5〕特征X射线:用特征值进行成分分析,来自样品较深的区域.6〕俄歇电子:各元素的俄歇电子能量值很低;来自样品外表1 —2nm范围.它适合做外表分析.2、扫描电镜的分辨率受哪些因素影响?用不同信号成像时,其分辨率有何不同?所谓扫描电镜的分辨率是指用何种信号成像时的分辨率?答:在其他条件相同的情况下, 电子束的束斑大小、检测信号的类型以及检测部位的原子序数是影响扫描电镜分辨率的三大因素. 不同信号成像时,其作用体不同,二次电子分辨率最高,其最用的体积最小.所以扫描电镜的分辨率用二次电子像分辨率表示.3、扫描电镜的成像原理与透射电镜有何不同?答:不用电磁透镜放大成像, 而是以类似电视摄影显像的方式, 利用细聚焦电子束在样品表面扫描激发出来的物理信号来调质成像的.4、二次电子像和背射电子像在显示外表形貌衬度时有何相同与不同之处?答:在成像过程中二者都可以表示外表形貌;二次电子像作用区域小, 对外表形貌的作用力大;背散射电子作用区域大,对其外表形貌作用水平小.第十五章电子探针显微分析1、电子探针仪与扫描电镜有何异同?电子探针如何与扫描电镜和透射电镜配合进行组织结构与微区化学成分的同位分析?答:二者结构上大体相同, 但是探测器不同,电子探针检测仪根据检测方式有能谱仪和波谱仪,扫描电镜探测器主要是光电倍增管,对电子和背散射电子.电子探针仪与扫描电镜再加一个能谱仪进行组合.2、波谱仪和能谱仪各有什么优缺点?答:〔1〕波谱仪是用来检测X射线的特征波长的仪器,而能谱仪是用来检测X射线的特征能量的仪器.与波谱仪相比能谱仪:〔2〕优点:1 〕能谱仪探测X射线的效率高;2〕在同一时间对分析点内所有元素X射线光子的能量进行测定和计数, 在几分钟内可得到定性分析结果, 而波谱仪只能逐个测量每种元素特征波长.3〕结构简单,稳定性和重现性都很好;4〕不必聚焦,对样品外表无特殊要求,适于粗糙外表分析.〔3〕缺点:1〕分辨率低;2〕能谱仪只能分析原子序数大于11的元素;而波谱仪可测定原子序数从4到92间的所有元素;3〕能谱仪的Si〔Li〕探头必须保持在低温态,因此必须时时用液氮冷却.4、要分析钢中碳化物成分和基体中碳含量,应选用哪种电子探针仪?为什么?答:对碳元素〔6号元素〕能谱仪分析仪误差大,应用波谱仪;能谱仪分析轻元素检测困难且精度低,波谱仪可分析原子序数从4到92间的所有元素.5、要在观察断口形貌的同时, 分析断口上粒状夹杂物的化学成分, 选用什么仪器?用怎样的操作方式进行具体分析?答:应选用配置有波谱仪或能谱仪的扫描电镜. 具体的操作分析方法是:通常采用定点分析,也可采用线扫描方式.。
材料分析测试技术部分课后答案太原理工大学材料物理0901 除夕月1-1 计算0.071nm(MoKα)和0.154nm(CuKα)的X-射线的振动频率和能量。
ν=c/λ=3*108/(0.071*10-9)=4.23*1018S-1E=hν=6.63*10-34*4.23*1018=2.8*10-15 Jν=c/λ=3*108/(0. 154*10-9)=1.95*1018S-1E=hν=6.63*10-34*2.8*1018=1.29*10-15 J1-2 计算当管电压为50kV时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能.E=eV=1.602*10-19*50*103=8.01*10-15 Jλ=1.24/50=0.0248 nm E=8.01*10-15 J(全部转化为光子的能量)V=(2eV/m)1/2=(2*8.01*10-15/9.1*10-31)1/2=1.32*108m/s1-3分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。
答:根据经典原子模型,原子内的电子分布在一系列量子化的壳层上,在稳定状态下,每个壳层有一定数量的电子,他们有一定的能量。
最内层能量最低,向外能量依次增加。
根据能量关系,M、K层之间的能量差大于L、K成之间的能量差,K、L层之间的能量差大于M、L层能量差。
由于释放的特征谱线的能量等于壳层间的能量差,所以Kß的能量大于Ka 的能量,Ka能量大于La的能量。
因此在不考虑能量损失的情况下:CuKa能激发CuKa荧光辐射;(能量相同)CuKß能激发CuKa荧光辐射;(Kß>Ka)CuKa能激发CuLa荧光辐射;(Ka>la)1-4 以铅为吸收体,利用MoKα、RhKα、AgKαX射线画图,用图解法证明式(1-16)的正确性。
材料测试技术课后题答案1、大功率转靶衍射仪与普通衍射仪相比,在哪两方面有其优越性?答:①提高X射线强度;②缩短了试验时间2、何为特征X射线谱?特征X射线的波长与(管电压)、(管电流)无关,只与(阳极材料)有关。
答:由若干条特定波长的谱线构成。
当管电压超过一定的数值(激发电压V激)时产生。
不同元素的阳极材料发出不同波长的X射线。
因此叫特征X射线。
3、什么是Kα射线?在X射线衍射仪中使用的是什么类型的X射线?4、答:L壳层中的电子跳入K层空位时发出的X射线,称之为Kα射线。
Kα射线的强度大约是Kβ射线强度的5倍,因此,在实验中均采用Kα射线。
Kα谱线又可分为Kα1和Kα2,Kα1的强度是Kα2强度的2倍,且Kα1和Kα2射线的波长非常接近,仅相差0.004Å左右,通常无法分辨,因此,一般用Kα来表示。
但在实际实验中有可能会出现两者分开的情况。
5、Al是面心立方点阵,点阵常数a=4.049Å,试求(111)和(200)晶面的面间距。
计算公式为:d hkl=a(h2+k2+l2)-1/2答:d111=4.049/(12+12+12)-1/2=2.338Å;d200=4.049/(22)-1/2=2.0245Å6、说说不相干散射对于衍射分析是否有利?为什么?7、答:有利。
不相干散射线由于波长各不相同,因此不会互相干涉形成衍射,所以它们散布于各个方向,强度一般很低,它们在衍射工作中只形成连续的背景。
不相干散射的强度随sinθ/λ的增大而增强,而且原子序数越小的物质,其不相干散射愈大,造成对衍射分析工作的不利影响。
6、在X射线衍射分析中,为何要选用滤波片滤掉Kβ射线?说说滤波片材料的选取原则。
实验中,分别用Cu靶和Mo靶,若请你选滤波片,分别选什么材料?答:(1)许多X射线工作都要求应用单色X射线,由于Kα谱线的强度高,因此当要用单色X射线时,一般总是选用Kα谱线。
但从X射线管发出的X射线中,当有Kα线时,必定伴有Kβ谱线及连续光谱,这对衍射工作是不利的,必须设法除去或减弱之,通常使用滤波片来达到这一目的。
(2)滤波片的选取原则:①滤波片材料的原子序数一般比X射线管靶材料的原子序数小1或2;②滤波片的厚度要适当选择,太厚则X射线强度损失太大,太薄则滤波片作用不明显,一般控制厚度使滤波后Kα线和Kβ线的强度比为600:1。
(3)X射线滤波片的选择:当Z靶≤40时,Z滤= Z靶-1;当Z靶>40时,Z滤= Z靶-2. 故Cu靶选28镍片作滤波片;Mo靶选40锌片作滤波片。
1、产生衍射的两个基本条件是什么?2、答:产生衍射的两个基本条件:①必须有能够产生干涉的波动即要有X射线;②必须有周期性的散射中心即晶体中的原子。
2、画图说明何为衍射峰的积分强度、峰值强度、背景及半高宽。
强度1/2强度答:送样时必须注明以下信息:①待分析项目和所要的图形格式;②试样的来源、化学组成和物理特性等,尤其是化学组成,这些对于作出正确的结论是很有帮助的。
③要确定样品中含量较少的物相时,可用物理或化学方法进行富集浓缩。
④样品有择优取向时,必须说明。
⑤尽量将XRD分析结果和其他分析方法结合起来,如TEM、偏光显微镜等。
1、光学显微镜用(可见光)做照明源,其最小分辨率为(200nm);电子显微镜以(电子束)做照明源,其分辨率可达(0.1nm),通常人眼的分辨率是(0.2mm)。
2、电磁透镜的像差指的是(电磁透镜的像与物总有一定的偏差),电磁透镜的像差主要有(球差)、(色差)、(轴上像散)、(畸变)等。
3、解释名词:分辨本领、磁透镜、场深、焦深。
①分辨本领:分辨本领是指成像系统或系统的一个部件的分辨能力,又称分辨率。
即成像系统或系统元件能有差别地区分开相邻物件最小间距的能力。
②磁透镜:旋转对称的磁场对电子束有聚焦成像作用,电子光学中用电子束聚焦成像的磁场是非匀强磁场,其等磁位面形状与静电透镜中的等电位面相似。
把产生这种旋转对称磁场的线圈装置叫磁透镜。
③场深:场深=景深是指在不影响透镜成像分辨本领的前提下,物平面可沿透镜轴移动的距离。
场深也是电镜的性能指标之一,场深越大越好,表示样品的不平度可以差一些。
扫描电镜的场深很大,做失效分析是很有用,可直接观察断口试样的断裂形貌。
④焦深:焦深是指在不影响成像分辨率的前提下,像平面可沿透镜轴移动的距离。
焦深也是越大越好,便于照相。
1、画图说明电子与固体样品相互作用所能产生的物理信号并说明SEM和TEM 分别用哪些信号成像?在SEM的成像信号中,哪一个信号的成像分辨率最高?SEM以二次电子、背散射电子、吸收电子成像,其中二次电子是最主要的成像信号。
2、TEM是高分辨率、高放大倍数的显微镜,它在哪三个方面是观察和分析材料的有效工具?答:①分辨率:表示TEM显示显微组织、结构细节的能力。
分点分辨率和线分辨率。
②放大倍数:指电子图像对与所观察试样区的线性放大率。
③加速电压:加速电压高可观察较厚的试样。
对材料研究工作选200KV加速电压的TEM更合适。
3、TEM以(聚焦电子束)为照明源,使用对电子束透明的(薄膜试样,几十到几百nm)样品,以(透射电子)为成像信号。
1、说说TEM对样品的基本要求;对于无机非金属材料等一些非导电材料,制备TEM样品常用的两种方法及其特点分别是什么?2、答:(1)TEM对样品的基本要求:①载样品的铜网直径是3mm,网孔约0.1mm,所以可观察样品的最大尺度不超过1mm。
②样品要相当的薄,使电子束可以穿透。
一般不超过几百个埃。
③只能是固态样品,且样品不能含有水分和其它易挥发物以及酸碱等有害物质。
④样品需有良好的化学稳定性及强度,在电子轰击下不分解、损坏或变化,也不能荷电。
⑤样品要清洁,不能带进外来物,以保证图像的质量和真实性。
(2)制备TEM样品常用的两种方法及其特点:①复型制样法:制样简单,只是对物体形貌的复制,不是真实样品,不能做微曲分析,只能看样品表面形貌分析。
②离子双喷减薄法:虽然样品很薄,除进行样品表面形貌分析还可以通过电子衍射进行晶体结构分析。
答:①像衬度:像衬度是图像上不同区域间明暗程度的差别。
②明场像:用物镜光阑选用直射电子形成的像叫明场像。
③暗场像:选用散射电子形成的像叫暗场像。
4、在明场像情况下,原子序数较高或样品较厚的区域在荧光屏上显示(较暗),反之则对应于(较亮)的区域。
在暗场像情况下,与明场像(相反)。
1、SEM相对于TEM有哪些特点?答:①可观察Φ=10~30mm的大块试样,制样方法简单。
②场深大,适于粗糙表面和断口的分析观察,图相富立体感、真实感,易于识别和解释。
③放大倍数变化范围大,便于低倍下的普查和高倍下的观察分析。
④具有较高的分辨率,一般为3~6nm。
⑤可通过电子学方法控制和改善图像质量。
⑥可进行多功能分析。
⑦可使用加热、冷却和拉伸等样品台进行动态试验,观察各种环境条件下的相变和形态变化等。
2、SEM对样品有何要求?答:①试样可以是块状或粉末颗粒,在真空中能保持稳定;②含水分的试样先烘干除去水分;③表面污染的试样在不破坏表面结构的前提下进行清洗(一般用超声波清洗);④新断口或断面一般不需处理以免破坏断口状态;⑤磁性试样要先去磁;⑥样品座尺寸为ф=30~35mm,大的可达ф30~50mm,样品高度一般在5~10mm左右。
3、SEM经常用于研究断口的形貌观察,在断口的形貌观察中主要研究哪三个方面的内容?用SEM进行断口分析时,对样品有哪些注意事项?答:(1)三个方面内容:①找裂纹源;②裂纹扩展路径;③断裂方式(2)样品注意事项:①断口污染时要在确保断口形貌不被破坏的前提下清洗;②新断口要及时清洗;③断口清洗不能污染断面;④切记断口不能对接;⑤要在保证不被破坏断口形貌的条件下加工。
4、典型的断裂特征有哪几种?答:典型的断口特征有:解理断口、准解理断口、晶间断裂断口、韧性断口和疲劳断口。
1、EPMA和普通化学分析方法均能分析样品中的化学成分,请问二者所分析的化学成分表示的意义是否相同?为什么?答:EPMA与普通的化学分析方法不同,电子探针X射线显微分析(EPMA,简称电子探针)是一种显微分析和成分分析相结合的微区分析。
特别适用于分析试样中微小区域的化学成分,是研究材料组织结构和元素分布状态的极为有用的分析方法。
后者得到的是试样中的平均成分也叫宏观成分,分析结果与微观组织不存在对应关系。
2、EDS和WDS的全名称分别叫什么?二者分析的化学元素的范围分别是什么?答:EDS为能量色散谱仪,分析范围为11Na~92U的所有元素,Z≧11;WDS为波长色散谱仪,只适用于一定原子序数的元素分析,Z≧4。
3、EPMA常用的四种基本分析方法各是什么?在面扫描分析图象中,亮区、灰区、黑区分别代表什么意义?答:(1)定点定性分析、定点定量分析、线扫描分析、面扫描分析(2)在一幅X射线扫描像中,亮区代表元素含量高,灰区代表元素含量较低,黑色区域代表元素含量很低或不存在。
1、差热分析对参比物和样品各有哪些要求?答:(1)差热分析对参比物的要求:①整个测温范围内无热反应;②比热和导热性能与试样相近;③粒度与试样相近。
常用的参比物为α-Al2O3。
(2)差热分析对试样的要求:①粉末试样要通过100~300目筛;聚合物应切成碎片;纤维试样应切成小段或球粒状。
②在试样中加适量参比物使其稀释以使二者导热性能接近。
③使试样与参比物有相近的装填密度。
2、影响差热曲线的因素有哪些?3、答:(1)内因的影响:①晶体结构的影响;②阳离子电负性、离子半径及电价的影响;③氢氧离子浓度的影响。
(2)外因的影响:①加热速度的影响;②试样形状、称量及装填的影响;③压力与气氛的影响;④试样晶粒度的影响。
3、热重曲线的横坐标是(时间t或温度T)、纵坐标是(质量m)。
4、简述热重分析的实验程序和影响热重曲线的因素。
答:(1)实验程序:试样先磨细,过100~300目筛,再干燥。
称量要精确,装填方式与DTA相同。
(2)影响热重曲线的因素:①浮力的变化与对流的影响;②挥发物的再凝聚及温度测量的影响;③.其它影响因素。
5、热膨胀分析对试样有何要求?答:圆柱样Φ5×15~20mm。