光催化氧化技术研究进展
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摘要: 光催化氧化技术作为一种污染治理技术, 具有能耗低、 无二次污染、 氧 化能力强的 特点, 日益 受到人们 的重视。本文 主要综 述了该技术的发展和研究现状、 纳米光催化剂的制备及作用机理、 光催化降 解的反应动力学, 指出了该 技术目前 存在的问 题和未 来的发展方向。 关键词: 光催化氧化; 污染治理; 进展 中图分类号: ;$#< 9 * ! ! ! ! ! 文献标识码: =! ! ! ! 文章编号: *##> % #"*; ( "##$ ) #’ %()#*#(+ ,( -",+,)’+’./+0) 120%’+0,( !#)"(,.,3/
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( ?422@3@ 4A ?5@/1B7CD 06E F42@:G20C .6316@@C163,H163E04 I61J@CB17D 4A ):1@6:@ 06E K@:564243D,H163E04! ",,#&" ,?5160) $4 5+6 ’)+ : L5474:0702D71: 4M1E07146 50B 077C0:7@E /4C@ 06E /4C@ 167@C@B7 16 C@:@672D D@0CB, N175 75@ 0EJ06703@B 4A 24N % @6@C3D :46BG/O7146 , 64 B@:46E0CD O422G7146 , 5135 0P1217D 4A 4M1E07146 7C@07/@67,06E @7:9 9 K5@ C@:@67 0EJ06:@B 4A O5474:0702D71: 4M1E07146 7@:564243D 1B BG//0C1Q@E 16 751B O0O@C ,16:2GE163 75@ /@:5061B/ 06E OC@O0C07146 4A 6064 % K1R" O5474 % :0702DB7B, 75@ S16@71:B 4A O5474:0702D71: E@3C0E071469 K5@ :GCC@67 OC4P2@/B 06E 75@ AG7GC@ E@J@24O/@67 4A 75@ 7@:564243D 0C@ E1B:GBB@E 02B49 7#/ 8,6%5: O5474:0702D71: 4M1E07146 ,O422G7146 7C@07/@67,0EJ06:@/@67 ! ! 随着科技的高速发展和人类文明的进步, 各种 易于控制, 催化材料易得, 运行成本低, 可望用太阳 环境污染越来越严重, 其中水污染尤为引起全球范 光为 反 应 光 源 等 优 点, 因而近年来受到广泛关 [* , "] 围内的广泛重视。目前许多国家的地表水和地下水 注 。 [< ] 均受到不同程度的污染, 水污染物主要来自工业、 农 *-$" 年 UGV1B51/0 等 在 《 W07GC@ 》 上发表了 业以及生活污水。当前水处理中常采用的方法是物 “ .2@:7C4:5@/1:02 O4742DB1B 4A N07@C 07 0 B@/1:46EG:74C 化法和生化法, 具有工艺成熟, 易于大规模工业化应 @2@:7C4E@ ” 一文, 揭开 了 光 催化 氧 化 技 术 的序 幕。 [ &] 用的优点。然而, 这些方法只是将污染物从一相转 *-$, 年 ?C0@D 等发现, 在 K1R" 光催化剂存在的条 移到另一相, 或是将污染物分离、 浓缩, 并没有使污 件下, 多氯联苯、 卤代烷烃等发生了有效的光催化降 染物得到破坏而实现无害化。这不可避免地带来废 解。这一研究成果使人们认识到半导体催化剂对有 料和二次污染, 而且适用范围有限, 成本也比较高。 机污染物具有矿化功能, 同时也为治理环境污染提 近年来, 有关污染物治理研究方面已逐步转向化学 供了一种新方法, 立即成为半导体光催化研究中最 转化法, 即通过化学反应使污染物受到破坏而实现 [ ’, ,] 为活跃的领域 。近 <# 年来, 光催化氧化技术在 无害化。因而, 开发能将各种化学污染物降解至无 [ $ X ** ] 有机污染物处理方面得到了广泛的研究 , 几乎 害化的实用技术 ( 尤其是污水处理和空气净化) 成 所有在水中可能存在的有机污染物都可被多相光催 为各国科研工作者的重要研究内容。 化氧化法降解并矿化。将光催化工艺与混凝、 生物 光催化氧化技术 ( L5474:0702D71: RM1E07146) 是一 处理等常规水处理工艺结合起来可达到优势互补的 种高级氧化技术 ( 0EJ06:@E 4M1E07146 OC4:@BB,=RL) 。 [*", *<] 效果 。近年来, 人们围绕光催化剂活性的提高 光催化剂在光照的条件下能够产生强氧化性的自由 以及降低反应成本等方面进行了大量的研究, 相关 基, 该自由基能彻底降解几乎所有的有机物, 并最终 生成 T" R、 ?R" 等无机小分子, 加上光催化反应还具 文献每年都有 *’# 篇以上。 有反应条件温和, 反应设备简单, 二次污染小, 操作 *! 半导体光催化氧化原理
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山! 东! 化! 工 ) T=WYRWZ ? T.F[?=\ [WYI)K]^!
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光 催 化 氧 化 技 术 研 究 进 展
高洪涛, 周晶, 戴冬梅, 张书圣
(青岛科技大学化学与分子工程学院, 山东 青岛! ",,#&" )