除硅操作手册翻译
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硅分析仪9210 指导手册致读者本册中包含的信息内容是尽可能与印刷时仪表的版本相符合的。
如果你在使用仪表时客观地发现其性能与本册叙述有不相符之处,也许是你的手册已经过期。
如果是此种情况,请立即与你的当地Polymetron代理商联系如果不按照生产厂家的规定和要求的方法使用仪表,将会损坏仪表正常的质量保证Polymetron保留对本册中所述仪表的软,硬件进行修改和更换的权力谢谢合作 !621=092=010 Rev. B Polymetron S.A.S. 02/2003安全警告请在拆包,安装或运行仪表前将手册完整的阅读一遍。
特别要注意所有标示"危险"和"警告" 的部分。
否则会对操作者造成严重伤害或导致设备的损坏为确保设备不受损害,不要采取任何不符合手册要求的方法使用和安装设备关于危险信息:由于存在着多种危险情况,本册将使用符号字(危险,警告,注意)来对应于情况的危险程度危险提示一个潜在的或危急的危险情况。
若不避免会导致重大伤亡警告标示一个潜在的也许会导致某种程度伤害的危险情况注意需要特别强调的信息预先警告标签请阅读所有附在仪表上的标签。
如果不遵守标签上的警告会导致人身伤害或造成设备损害仪表上的这个符号,要求操作者参照操作手册运行仪表和学习安全信息仪表上的这个符号,标示出接地保护的接地点仪表上的这个符号,显示出需要戴防目罩电源连接,见18页仪表电源接线,见15页试剂的制备,见21页维护,见第7页和A2维护定期检查仪表的完整电气连接和仪表系统的保护,进行所有必要的检测来消除故障隐患服务和维修用户不要自行修理仪表的元件。
只有Polymetron的工程师及授权代理商有权对系统进行维修,并应该使用由厂家正式批准所采用的元件。
任何违背这一原则试图进行仪表维修的行动可能会引发对仪表的损坏和人身的伤害。
它还会导致厂家质量保证的失效并危及仪表的正常工作以及仪表的电气完整性或CE标准如果你在仪表的安装、开机和使用中有任何可能的问题,请与你的当地供应商直接联系。
操作手册目录Preface.序言 (III)Tempress documentation set. 文件设置 (III)User Definition. 用户定义 (IV)Notes, Cautions and Warnings..注意,小心,警告 (V)Contents description (VI)Revision History (VI)1. Introduction.......................................................................1-11.1 General.....................................................................................1-11.2 Operator area description.........................................................1-22. Safety.................................................................................2-22.1 Emergency Off (EMO)..............................................................2-22.2 Alarm Signals............................................................................2-22.2.1 Buzzer / LED.............................................................2-22.2.2 Touchscreen..............................................................2-22.2.3 Light tower.................................................................2-32.2.4 TSC Alarm menu.......................................................2-32.3 Light tower signal description (optional)....................................2-32.4 Toxic Material...........................................................................2-52.5 Safety measures.......................................................................2-53. Operator Instructions.....................................................2.5-13.1 Load or Unload process wafers.............................................3.1-13.1.1 Load process wafers...............................................3.1-13.1.2 Unload wafers.........................................................3.1-13.2 Selecting a new process recipe.............................................3.2-13.2.1 Touchscreen...........................................................3.2-13.2.2 TSC-2.....................................................................3.2-33.3 Start/Continue a new process recipe.....................................3.3-1 3.3.1 Touchscreen...........................................................3.3-13.3.2 TSC-2.....................................................................3.3-23.4 Stop a running process recipe...............................................3.4-1 3.4.1 Touchscreen...........................................................3.4-13.4.2 TSC-2.....................................................................3.4-23.5 Abort a running process recipe..............................................3.5-1 3.5.1 Touchscreen...........................................................3.5-13.5.2 TSC-2.....................................................................3.5-23.6 Clear Alarms..........................................................................3.6-1 3.6.1 Required action.......................................................3.6-13.6.2 Touchscreen...........................................................3.6-13.6.3 TSC-2.....................................................................3.6-2Preface序言This set of manuals explains how to operate a Horizontal Diffusion/LPCVD furnace.这套手册是操作水平扩散炉/ LPCVD的说明。
操作规程编号:LX-FS-A60357 常压脱硅操作规程标准范本In The Daily Work Environment, The Operation Standards Are Restricted, And Relevant Personnel Are Required To Abide By The Corresponding Procedures And Codes Of Conduct, So That The Overall BehaviorCan Reach The Specified Standards编写:_________________________审批:_________________________时间:________年_____月_____日A4打印/ 新修订/ 完整/ 内容可编辑常压脱硅操作规程标准范本使用说明:本操作规程资料适用于日常工作环境中对既定操作标准、规范进行约束,并要求相关人员共同遵守对应的办事规程与行动准则,使整体行为或活动达到或超越规定的标准。
资料内容可按真实状况进行条款调整,套用时请仔细阅读。
一、开停车规程(一)开车1、开车前的准备:(1)新安装或大修设备开车前,必须联系电、钳工检查,验收合格,清除开展妨碍物,具备开车条件。
(2)泵、槽停车超过8小时,电器设备刺上水或受潮,开车前必须通知电工检查测量绝缘情况。
(3)改好料浆、循环母液、蒸汽、冷凝水流程,检查各法兰连接有无泄漏,阀门是否灵活好用,备用设备要完备。
(4)各润滑点,减速箱油质、油量是否符合要求。
(5)各仪表显示是否正常,自控和安全装置是否灵敏可靠。
(6)向主控室汇报检查情况。
2、进料与加热1、启动投用脱硅槽的搅拌前,先攀车一圈以上无异常后启动,现场检查,如有故障及时汇报处理。
2、由主控室联系原料车间送原矿浆,当加热槽有半槽料时打开加热槽蒸汽管至冷凝水罐的放水阀。
3、适当打开蒸汽管的排水阀,冷凝水罐的排气阀。
工艺流程中二氧化硅去除的英文回答:To remove silicon dioxide in the manufacturing process, there are several methods that can be used. One common method is called etching, which involves using chemicals to dissolve the silicon dioxide layer. This can be done through wet etching or dry etching. Wet etching involves immersing the material in a liquid solution that reacts with the silicon dioxide and removes it. Dry etching, on the other hand, uses plasma to remove the silicon dioxide layer.Another method that can be used is called thermal oxidation. This involves exposing the material to high temperatures in the presence of oxygen, which causes the silicon dioxide to react and form a gaseous compound that can be easily removed.In addition to these methods, there are also mechanicalmethods that can be used to remove silicon dioxide. For example, abrasive techniques such as sandblasting or grinding can be used to physically remove the silicon dioxide layer.It is important to note that the choice of method will depend on the specific requirements of the manufacturing process. Factors such as the type of material, the thickness of the silicon dioxide layer, and the desired level of precision will all influence the choice of method.中文回答:工艺流程中去除二氧化硅有几种方法可供选择。
一重要信息这些说明写给操作GOW-MAC系列200SA硫分析仪的个人。
请阅读并理解手册里的安全提示,操作仪器时能熟悉安全操作。
DANGER:提醒你一个可能随时(即刻)发生的的危险将引起严重的伤害或死亡并且需要特别的警惕。
W ARNINGS:提醒你一个潜在的危险将在一定条件下引起也能中的伤害或死亡。
CAUTIONS:提醒你一个非立刻的或潜在的危险或一个不安全的操作,代表一个对身体伤害或损伤的一个小威胁。
NOTE:强调或提醒你一个重要的信息。
内容质量控制最终仪器监测报告重要警告、通知总的通知和安全总的操作前提示和储存高压钢瓶的提示1.操作原理1.1检测器1.2流量系统1.3电子元件2.规格3.操作控制3.1 200SA系列前面板。
3.2 200SA系列后面板4.安装4.1仪器需求4.2拆包装并留意检查4.3安装定位4.4电器连接4.5气体连接4.6检漏5.初始化程序:气体流量5.1注意FDP器械里的点火操作5.2设置气体流量6.操作6.1启动,开机6.2编程6.3标定6.4运行7.维修和服务7.1更换炉备件7.2反应炉烘烤7.3FPD更换、清洁8.疑难解决9.更换部件10.图质量控制监测报告仪器型号仪器序列号后面省略炉温检测器温度毫伏输出载气流速出口2流速(反冲)FPD总燃气氢气流速FPD总空气流速NIST可追溯的标准相关号二氧化碳中0.5-1.5ppm的羰基硫仪器显示读数电流限值20mA(1ppm)真实4mA (0ppm)真实激发准备日期技师重要警告安装、使用或维修这个产品的个人应该仔细阅读这个手册。
像其他的复杂仪器,这个200SA系列的硫分析仪只有在按照供应商说明书来安装使用和维护,这个仪器才会按设计的运行。
否则这个仪器将不能按设计的运行,并且操作这个仪器的人会有严重的身体伤害甚至导致死忙。
这个保证由GOW-MAC仪器公司承诺,避免仪器没有按照手册的说明来安装、使用和维护。
请按照这些操作说明来保护您自己以及您的员工。
常压脱硅操作规程范文一、概述常压脱硅是一种常用的分离技术,主要用于去除硅含量较高的原料中的杂质硅。
本操作规程旨在规范常压脱硅的操作步骤,确保操作过程安全、高效、稳定。
二、操作步骤1. 准备工作1.1. 确保脱硅设备、配件、干燥剂等各项设备和材料的完好无损。
1.2. 检查各项安全设施是否到位,包括防护罩、急停按钮等。
1.3. 完成必要的安全培训和操作技能培训。
2. 原料准备2.1. 根据工艺要求选择适宜的原料,确保原料质量符合要求。
2.2. 对原料进行必要的预处理,包括清洗、干燥等。
3. 启动设备3.1. 检查脱硅设备的电气连接是否正常,确保仪表显示准确。
3.2. 打开设备的进料、出料和排气阀门。
3.3. 启动设备,逐步增加设备的工作压力,确保设备能够正常运行。
4. 进料处理4.1. 将经过预处理的原料注入脱硅设备,确保进料管路畅通。
4.2. 在进料过程中,观察设备的运行状态,确保无异常情况发生。
5. 分离硅杂质5.1. 根据工艺要求,加入适量的分离剂,以促进硅杂质与其他杂质的分离。
5.2. 控制设备的温度和压力,加强硅杂质的脱附效果。
5.3. 定期监测设备的操作参数,如温度、压力、流量等,确保设备处于最佳工作状态。
6. 排出杂质6.1. 当设备中的杂质浓度达到一定阈值时,通过排气阀将杂质排出设备。
6.2. 监测排出的杂质,进行必要的分析和检测,确保设备分离效果良好。
7. 清洗设备7.1. 在脱硅操作完成后,关闭进料、出料和排气阀门,停止设备运行。
7.2. 清洗设备内部的各个部件,确保设备的长期使用性能不受影响。
7.3. 整理清洗后的设备,确保设备的整洁和有序。
8. 记录数据8.1. 按照相关要求记录操作过程中的关键参数,包括进料量、进料时间、脱硅效率等。
8.2. 存储和管理操作记录,以便日后的检查和分析。
9. 安全措施9.1. 在操作过程中,严禁随意更改设备的操作参数和设置。
9.2. 若发现设备异常情况,应立即停机检修,切勿进行强行操作。
常压脱硅操作规程范文一、目的和适用范围为了确保常压脱硅操作的安全性和高效性,规范化操作过程,提高生产效率,减少事故发生的概率,制定本操作规程。
本操作规程适用于常压脱硅操作过程中的设备操作人员,负责常压脱硅操作的负责人,以及与常压脱硅操作相关的其他人员。
二、操作人员的责任和义务1. 操作人员应经过专业培训,熟悉常压脱硅设备的结构、性能和操作规程,并获得相应的操作资格证书。
2. 操作人员应按照常压脱硅设备的操作规定进行操作,严禁任意更改操作参数或操作程序。
3. 操作人员在操作前应仔细检查设备的状态,确保设备处于正常工作状态,没有异常现象。
4. 操作人员应按照设备操作规程进行操作,不得擅自停止或调整设备运行。
5. 操作人员在操作过程中应随时关注设备的工作状态,发现异常情况及时报告,并采取相应的措施进行处理。
6. 操作人员在操作过程中应遵守安全操作规程,正确使用个人防护设备,严格遵守操作规范,杜绝任何违章操作。
7. 操作人员在操作完成后应负责设备的清洁和维护工作,确保设备处于良好的状态。
三、常压脱硅操作规程1.设备开启(1) 操作人员应事先确认设备电源和管路的连接是否正常,并保持适宜的工作条件。
(2) 操作人员应检查设备的各个部位是否存在异物,如有需要清理干净。
(3) 操作人员应按照设备的启动程序,依次开启设备的各个部位,确保设备能够正常工作。
2.操作前准备(1) 操作人员应准备好所需的材料和试剂,并按照设备操作规程进行准备。
(2) 操作人员应检查设备的各个部位是否处于正常工作状态,并进行相应的调整和修理。
(3) 操作人员应检查设备的控制系统是否正常,如有需要进行相应的修理和调整。
(4) 操作人员应清理好操作区域,并确保操作区域无杂物。
3.操作过程(1) 操作人员应按照设备操作程序进行操作,并严格按照设备操作参数进行调整。
(2) 操作人员应随时注意设备的工作状态,及时发现异常情况并采取相应的措施进行处理。
除硅系统操作要点
1、常用术语:絮凝(聚沉)、溢流、PH(酸浓度)、PIL(静化铁液)、UIL(未处理铁液)、
滤泥(泥浆)
2、准备工作
(1)化学品和材料的准备:主要指氨水和絮凝剂,要通过实验确定氨水的浓度和絮凝剂的有效性。
实验设备校准备用。
确认公用介质(出口洗涤塔、蒸汽、冷却
水、压缩空气、仪表用气)的可靠性。
确认安全阀和真空破坏器开启,排放打
开。
校验中和罐出口打开。
中和罐出口洗涤塔运行以除去反应产生的氢气。
废
钢应清洗干净,无油漆、锈、油。
废钢应保证可靠的供应并定期进行金属分析,
确保净化后酸液成分。
在通蒸汽自动加热废酸之前蒸汽冷凝水必须排出。
如果
没有废酸直接向加热器通蒸汽会引起加热器严重破坏。
TCV-371与WPL、UIL
泵连锁,如果WPL、UIL泵停,TCV-371在自动模式运行时关闭。
如果TE-301
过高,TCV-371连锁保护关闭。
TE-301的高温报警连锁极限与热交换器的设计
极限温度有关。
热交换器的冷凝线打开。
打开疏水器过滤器的排放阀排出热气。
冷启动中和废酸大约需要24-48小时。
通过废酸泵和UIL泵注满中和罐和UIL
罐并循环直至中和后酸液PH值2.0以上。
一旦中和罐和UIL罐达到期望的液
位,废酸泵停。
(2)启动废酸泵
1、选择一个废酸罐供SRP使用并做好标记,不要向此罐添加废酸。
2、打开选择的废酸泵进出口阀门
3、确认UIL罐液位和泵密封水(包括检查密封水浊度和颜色,分析密封是否完好
和水源供应情况)。
4、选择合适的FIT-301的设定值并将FIT-301打到自动。
5、确认UIL泵出口循环阀关闭。
6、部分关闭废酸泵的出口阀。
7、现场手动启动废酸泵。
8、大约3秒缓慢打开出口阀门到100%并监测压力值。
9、监测泵出口压力约1分钟,如果有冲击则试着关闭打开出口阀门或打开取样阀
放气直至泵运行平稳。
10、确认FIT-301流量值。
11、检查管道是否有泄漏。
(3)启动废酸加热器
1、启动废酸加热器之前首先确认废酸流量正常。
2、缓慢打开蒸汽接点主阀门,确认到阀TCV-371之前蒸汽管线打开。
3、打开阀TCV-371之前过滤器的排放阀排出冷凝水。
4、确认从加热器出来的冷凝线的过滤器的排放阀打开,打开到蒸汽疏水器。
5、将TIC-371打到自动,TCV-371应当缓慢打开。
如果TCV-371打开响应过快,
则需进一步调整。
6、TIC-371的设置在85-88度,最小允许80度。
TCV-371从TE-301接受反馈信
号。
7、大约5分钟后,空气从加热器排出。
关闭冷凝线的过滤器的排放阀。
8、检查加热器有无泄漏。
尤其是在膨胀节处。
9、循环UIL直到PH值至少1.5。
10、计算加热能力。
可鉴别结垢问题。
11、监测蒸汽疏水器应定期打开和关闭。
如果不能打开,证明疏水器有问题,打开
旁路并轻微调节观察TE-301。
12、中和罐液位将缓慢升高并溢流到UIL罐。
当UIL罐液位达到70%时停废酸泵,
启动UIL泵。
13、尽量减少停废酸泵和启动UIL泵的间隔时间。
时间过长容易引起TE-301跳闸。
14、UIL液在循环模式,酸液浓度逐渐减低。
当酸液PH值达到1.5-2.5时,准备
进入下一步处理。
PH值1.5对应浓度0.1%。
15、当酸液PH值达到1.5-2.5时,UIL液被泵到1#PH调整罐,同时废酸泵启动。
工艺过程进入连续运行。
新废酸连续经加热器进入中和罐。
废酸流量通过PID-301实现控制。
16、巡查冷凝水接点到冷却器入口管线,除取样阀和排放阀外所有阀门打开。
17、确认水温适合约30度。
打开从冷却器返回管线排放阀。
并选取高点放气。
18、巡查到1#PH调整罐、2# PH调整罐的压缩空气管线。
稍微打开吹气阀10%并
记录流量值。
19、确认1#PH调整罐、2# PH调整罐、絮凝罐搅拌器未启动。
20、打开LCV-311和冷却器。
将LIC-310由手动转为自动。
缓慢关闭循环隔断阀。
21、UIL液冷却到大约38-40度喂入1#PH调整罐。
温度由TE-312检测并通过冷
凝水流量控制实现。
如果不能实现,可通过增减LIC-310的设置点有效关闭阀门LCV-311短暂时间直到酸液温度降下来。
22、喂入1#PH调整罐直到液位大约100mm将搅拌器叶片浸没。
设置搅拌器
速度在60rpm,启动1#PH调整罐搅拌器。
继续喂入废酸,吹入空气。
当液位达到40%时,增加到最大空气量的50%。
在液位达到60%之前,不加氨水。
氨水在喂入1#PH调整罐之前应与水混合调整浓度便于控制减少雾化。
23、效验选择的氨水泵的入出口阀门打开,旁路阀部分打开返回储罐。
确认释放
线打开。
24、当1#PH调整罐开始溢流到2#PH调整罐,打开空气吹管,设置流量在最大流
量的10%。