金属电沉积与表面精饰
主要内容
一、金属电沉积和电镀 二、金属的钝化 三、eposition)过程:简单金属离子 或络离子通过电化学方式在固体(导体或半导体)表面 上被还原为金属原子附着于电极表面,从而获得一金属 层的过程。 电镀(electroplating):金属电沉积过程的一种,它 是为了改善材料外观,或提高耐蚀性、抗磨性、增强硬 度以及提供特殊的光、电、磁、热等表面性质而进行的 金属电沉积过程。 电镀不同于一般电沉积过程在于:镀层除应具有所需 的机械、物理和化学性能外,还必须很好地附着于物体 表面,且镀层均匀致密,孔隙率少等。 镀层性质取决于其结构,而结构又受电沉积条件影响。
(4)吸附于电极表面的水化原子失去剩余水化层, 成为金属原子进入晶格。过程可表示为: M· (m - n)H2O(ad)- (m - n)H2O M晶格
对于高价金属离子的阴极还原,动力学表达较为复 杂。但一价金属离子的电沉积过程控制步骤一般为电 子转移步骤:
C= (-2.3RT/ nF )lgiº + (2.3RT/ nF)lgIc
对于络离子阴极还原的认识: ⑴ 、加入络离子后,其电极反应并非简单离子的 直接放电; 例如:在1mol/LHClO4中,Ag/Ag+(3*10-2mol/L)体系 平=0.71V,io=1.7A/cm2, =0.26
加入1mol/LNaCN后,简单离子的平衡浓度:3*10-23mol/L,
新平=-0.529V, 计算出的交换电流io=8 *10-16 A/cm2 实际测得的交换电流io=2.8 *10-3 A/cm2 简单离子的作用可忽略!
(3)、有的络合体系,其放电物种的配体与主要络合配体不同。
(4)、金属离子从络离子体系中析出较简单水溶液体系更困难, 涉及更大的电化学极化。尽管pK不稳的数值与超电势无直接联系,