半导体工厂大宗气体系统的设计. h, R% B6 u2 p4 m搞要本文对集成电路芯片厂中的大宗气体系统的设计过程作了概括性的描述，对当前气体设计技术厂房的设计经验提出了设计中值得注意的及其发展方向作了探讨，同时结合自己对多个FAB问题和解决方案。
6 O+ v ^8 S3 z% N% RThis paper introduces a general design process for Bulk Gas System in FAB.Current gas design technology and its development direction are also discussed.Based on the author抯experience in FAB design,several potential problems in design and relevant solutions are issued.5 T8 z& f& J0 A4 @年内成为世界最10-15 1995年，美国半导体工业协会（SIA）在一份报告中预言：中国将在世纪的中国半导体产业市。
随着中国经济的增长和信息产业的发展，进入大的半导体市场21以上的高速增长态势，中国有望在下一个十年成为仅次于美国的全球第二大20%场仍将保持半导体市场。
而目前的发展态势也正印证了这一点。
3 v' P7 }% t6 k j作为半导体生产过程中必不可少的系统，高纯气体系统直接影响全厂生产的运行和产品的质量。
相比较而言，集成电路芯片制造厂由于工艺技术难度更高、生产过程更为复杂，因而所需的气体种类更多、品质要求更高、用量更大，也就更具代表性。
因此本文重点以集成电路芯片制造厂为背景来阐述。
Bulk 集成电路芯片厂中所使用的气体按用量的大小可分为二种，用量较大的称为大宗气体（）。
大宗气体有：氮气、氧气、氢气、氩气Specialty gasgas），用量较小的称为特种气体（和氦气。
其中氮气在整个工厂中用量最大，依据不同的质量需求，又分为普通氮气和工艺氮气。
由于篇幅所限，本文仅涉及大宗气体系统的设计。
系统概述1 1 ^2 w# }, [ |' L( ?' e+ E* k0 \2 v大宗气体系统由供气系统和输送管道系统组成，其中供气系统又可细分为气源、纯化和品质Gas ）之外的气体站（监测等几个部分。
通常在设计中将气源设置在独立于生产厂房（FAB）中进行，这样可以Purifier RoomYard），而气体的纯化则往往在生产厂房内专门的纯化间（使高纯气体的管线尽可能的短，既保证了气体的品质，又节约了成本。
经纯化后的大宗气体由）或生产车间的架空地板下，在这里形成配管管道从气体纯化间输送至辅道生产层（SubFAB给出了一个典型的大宗气体系统）送至各用户点。
图1网络，最后由二次配管系统（Hook-up 图。
供气系统的设计2 1 U# @: B& d+ W+ T6 X& a2.1 气体站- c. V# y O4 z2.1.1 首先必须根据工厂所需用气量的情况，选择最合理和经济的供气方式。
S0 c4 V5 \ b* _3 G% V氮气的用量往往是很大的，根据其用量的不同，可考虑采用以下几种方式供气：1）液氮储罐，用槽车定期进行充灌，高压的液态气体经蒸发器（Vaporizer）蒸发为气态后，供工厂使用。
一般的半导体工厂用气量适中时这种方式较为合适，这也是目前采用最多的一种方式。
# N( M w. t2 ? M2）采用空分装置现场制氮。
这适用于N2用量很大的场合。
集成电路芯片制造厂多采用此方式供气，而且还同时设置液氮储罐作备用。
8 h G$ l! J% L a& ]9 j氧气和氩气往往采用超低温液氧储罐配以蒸发器的方式供应。
）即可满足生产要求。
如用气量较大，则氢气则以气态方式供应，一般采用钢瓶组（Bundle供气，只是由于道路消防安全审批等因素，目前在国内还很少采用此方Tube Trailer可采用供气方式Tube Trailer式。
相信随着我国微电子工业的飞速发展，相关的安全法规会更完善，会被更多地采用。
如果氢气用量相当大，则需要现场制氢，如采用水电解装置。
: f2 v, T$ A2 f/ t: J.U t m）的Bundle 由于低温液氦储罐的成本相当昂贵，加以氦气用量不大，氦气一般采用钢瓶组（形式供应即可满足生产要求。
随着大型集成电路厂越来越多地出现，氦气的用量也逐渐上升，时才是液体，此时所有杂质在此-4500F国外已开始尝试使用液氦储罐，而且由于氦气在低于液相中实际均已凝结在固体，理论上从该储罐气化的氮气已是高纯度，不用再经纯化处理。
随着国内半导体集成电路产业的飞速发展，将会出现一些半导体工厂较为密集的微电子生产园区，这时有可能采用集中的管道供气方式，即由气体公司在园区内建一大型气站，将大宗气体用地下管线送往各工厂。
这种方式可以大大降低各厂的用地需求和用气成本，形成气体公司与半导体工厂多赢的局面。
在上海某生产园区，某气体公司即将采用该方式对园区内的几家工厂提供氦气，目前正在建设中。
: j* Q3 y- p* E i# O- N需要特别注意几个问题：2.1.2 在整个气体站的设计中, 如气体站的平面布置必须符,首先,供氢系统和供氧系统的安全性问题是必须予以高度重视的合相关安全规范。
- B2 R5 E f6 q R8 L其次，在设计供气压力时不仅要参照最终用户点的压力需求，而且必须考虑纯化器、过滤器以及配管系统的压力降。
R% @1 l4 W T7 A5 g7 \另外，随着集成电路工艺的提升，对工艺氧气中的氮杂质含量要求也提高了。
值得注意的是，该杂质目前尚无法通过气体纯化器有效去除，必须在空分装置中增加专门的超低温精馏过程处理，这不可避免导致成本的上升，当然由此法制取的氧气纯度已足够高，不需要经纯化即芯片生产工艺中，只有部分工艺设备可直接用于工艺设备。
另一折衷的方法是，目前200mm对氧中氮的含量要求甚高，如果这些设备的用氧量不大，则可以考虑外购高纯氧气钢瓶专门对这些设备供气。
气体纯化与过滤2.2气体的品质要求2.2.1 随着集成电路技术的不断发展，设计线宽不断微缩，这对气体品质的要求也越来越严格，目芯片生产工艺线对大宗气体200mm1给出了某ppb前对大宗气体的纯度要求往往达到级，表的品质要求。
因此，必须用不锈钢管道将大宗气体从气体站送至生产厂房的纯化室（purifier Room）进行纯化，气体经纯化器除去其中的杂质，再经过滤器除去其中的颗粒（Particle）。
出于安全考虑，一般将氢气纯化室设计为单独一室，并有防爆、泄爆要求。
2.2.2 纯化器ATTO目前国内采用的气体纯化器都是进口的，主要的生产厂家有SAES、Taiyo、、JPC、Toyo等。
纯化器根据其作用原理的不同可以对不同的气体进行纯化。
我将目前市场上纯化器的情况。
2作了整理，见表/ E& x Y9 m: z, | t; A3 LH2效果最佳，、H2纯化器则以Getter、一般说来，N2O2纯化器较多采用触媒吸附式，Ar Getter 纯化器也多采用触媒吸附结合式。
在设计中要注意的是，不同气体纯化器需要不同的公用工程与之相配套。
例如，触媒吸附式纯化器需要高纯氢气供再生之用；触媒吸附式纯化器需要冷却水。
因此，相关的公用工程N2管线必须在气体纯化间内留有接口。
8 Q% l3 [+ v# p( \- ^. r: ~+ F% Z% G p4 f, k Y7 I% \过滤器2.2.3半导体生产工艺过程不仅对气体纯度要求十分严格，而且对气体中的颗粒含量也有极高的要的颗粒含量0.1μm求，目前在集成电路芯片生产中，对大宗气体颗粒度的要求通常为：大于为零。
而去除颗粒则需采用气体过滤器。
* N! s }! O1 G2 m; |一般的，经纯化的气体需经过两个串联的过滤器即可达到工艺要求，为方便滤芯更换，往往。
并联设置两组过滤器组，参见图1气体的品质监测2.3 , Y p8 k q4 ^9 O d/ Q4 x0 A' S大宗气体在经纯化及过滤后应对其进行品质监测，观察其纯度与颗粒度的指标是否已高于实、际的工艺要求。
目前着重对气体中的氧含量、水含量和颗粒度进行在线连续监测，而对CO杂质采用间歇监测，测试结果连同其他测试参数（诸如压力、流量等）都会被送及THCCO2）系统。
Supervisory Control and Date Acquisition往控制室中的SCADA（* d+ s7 c9 l. [& {: E _0 O2.4 供气系统的可靠性问题由于微电子行业的投入与产出都是非常的大，任何供气中断都会带来巨大的经济损失，尤其对大型集成电路芯片生产厂而言。
因此在设计中必须充分考虑气体供应系统运行的安全可靠性。
若采用现场制气方式，往往还需要设置该种气体的储蓄供气系统作备用。
6 I% g9 s3 [2 |' G w1）每一种气体的纯化器都需要有一台作备用。
）氧气若采用现场制气方式，虽然可以不经纯化而直接供工艺设备使用，但仍应该设置一 2 台纯化器作备用。
当然，以上这些措施必须会导致气体成本的急剧上升，虽然与供气中断造成的损失相比要小的多，& Q7 B- J/ x' Q* O; x- S Z但这必须要与业主讨论确定。
而且，每个项目都有其特殊性，不必强求一步到位，可以考虑在不同的建设阶段逐步实施。
还需要考察气体供应商的系统设计情况，是否有对供,, 另外若有条件采用集中管道供气方式气中断、管路污染等突发事故的预防措施、应急措施和恢复手段。
有必要提请业主注意在该种经济便利的供气方式背后潜在的风险。
5 v+ t3 k6 I+ V3 大宗气体输送管道系统的设计）的架空地）或生产车间（经纯化后的大宗气体由气体纯化间送至辅助生产层（SubFABFAB）送至各用户点。
以我的设计经板下，在这里形成配管网络，再由二次配管系统（Hook-up 验，在设计中要着重考虑以下几个方面。
配管系统的整体架构3.1 2 y5 k! f! h2 O8 {$ ^$ h其）和环型（图3）两种。
其中又数树枝型最为常用2 目前，较为常见的架构有树枝型（图,且与其它系统的配管架构相似，利于整体空间规划。
环型则能较好地保持用气点压架构清晰,力的稳定，但投资较高。
因此在设计中应根据用气点的分布情况及用气压力要求综合考虑。
例集成电路芯片生产厂的设计中，大宗气体配管系统均采用树枝型架构。
如，笔者在某200mm厂房很大，管线较长，而工艺氮气用气点较多，有一些用气点对压力要求也较由于该FAB），环型主管主要高，因此对工艺氮气管路系统特别采用了树枝型与环型相结合的方式（图4 保证用气点的压力稳定，其管径可小于树枝型主管的管径，从而降低成本。
