• ( 2 ) 平面工艺一般只能形 成二维平面物理结构, 或准 三维结构, 而不是真正的三维系统. 平面工艺形成的三维 结构是通过多层二维结构叠加而成的;
• ( 3 )平面工艺形成的是整个系统, 而不是单个部件. 由 于每个部件如此之小, 根本无法按传统的先加工分立部件 然后装配成系统的途径. 所以系统中的每个部件以及它们 之间的关系是在平面加工过程中形成的.
• 3 物质在飞秒激光的作用下会产生非常奇特的现象,气态 的物质、液态的物质、固态的物质瞬间都会变成等离子
• 4、飞秒激光具有精确的靶向聚焦定位特点,能够聚焦到 比头发的直径还要小的多的超细微空间区域;
飞秒激光加工技术应用举例
加工前探针的扫描电镜分析图
加工后探针的扫描电镜分析图
利用飞秒激光纳米加工系统得 到的PMMA材料直线图形
模型工艺
模型工艺那么是利用微纳米尺寸的模具复制 出相应的微纳米结构. 模型工艺包括纳米压印技术 , 塑料模压技术和模铸技术. 纳米压印技术 1995年华裔科学家周郁〔Stephen Chou〕提出了 纳米压印光刻的思想。纳米压印是利用含有纳米 图形的图章压印到软化的有机聚合物层上.它是一 种全新的纳米图形复制方法 。 其特点是具有超高分辩率 ,高产量 ,低本钱 。
• 腐蚀技术包括化学液体湿法腐蚀和各种等离子体干法刻蚀.
• a.湿法腐蚀是将硅片浸没于某种化学溶剂中,该溶剂与 暴露的区域发生反响,形成可溶解的副产品。
• 根据腐蚀效果可以将湿法腐蚀分为各向同性腐蚀和各向 异性腐蚀。
• b.干法刻蚀是利用反响性气体或离子流进行腐蚀的方 法。干法刻蚀既可以刻蚀非金属材料,也可以刻蚀多种金 属; 既可以各向同性刻蚀,也可以各向异性刻蚀。干法 刻蚀按原理来分可分为:离子刻蚀技术,包括溅射刻蚀和 离子束刻蚀,其腐蚀机理是物理溅射;等离子体刻蚀技术 ,在衬底外表产生纯化学反响腐蚀;反响离子刻蚀技术, 它是化学反响和物理溅射效应的综合。