最新微机械及其微细加工技术
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微细加工工艺技术微细加工工艺技术是一种应用于微电子、光学、纳米学等领域的高精度加工技术,该技术能够实现对微细结构的精密加工。
在微细加工工艺技术中,常常采用的加工方法有激光刻蚀、化学蚀刻、光刻以及微电子束等。
激光刻蚀是一种应用激光照射,通过激光束的高能量将材料表面局部蚀刻的加工方法。
与传统的机械刻蚀相比,激光刻蚀具有高精度、高效率的优点。
在激光刻蚀中,光束的聚焦度和光斑直径是影响加工精度的重要参数。
化学蚀刻是一种利用特定的化学反应,在材料表面选择性地产生化学蚀刻产物,并将其去除的加工方法。
化学蚀刻通常需要制备特定的蚀刻溶液,通过控制溶液的浓度和温度,来影响化学反应的速率和选择性。
化学蚀刻可以实现微细结构的高精度加工,并被广泛应用于光学元件和微流控芯片等领域。
光刻是一种基于光化学反应的加工方法,通过光阻的选择性暴露和去除,来形成所需的图案结构。
在光刻过程中,首先在材料表面涂敷一层光刻胶,然后利用光刻机的紫外光照射和显影等步骤,实现图案的转移。
光刻具有高精度、高分辨率和高重复性的优点,是微细加工中不可或缺的工艺之一。
微电子束也是一种实现微细结构加工的重要方法。
微电子束利用高能电子束在材料表面定向照射,经过准直、聚焦和偏转等步骤,将电子束的能量转化为对材料的加工作用。
通过控制电子束的参数,如能量、聚焦度和扫描速度等,可以实现对微细结构的精密加工。
微电子束在高精度加工领域具有很大的应用潜力,尤其在微电子器件、光电器件以及半导体器件等方面,具有广阔的发展前景。
总的来说,微细加工工艺技术是一种实现高精度加工的重要方法,包括激光刻蚀、化学蚀刻、光刻和微电子束等。
这些加工方法在微电子、光学、纳米学等领域发挥着重要作用,推动了相关技术的进步和应用的发展。
未来随着科学技术的不断进步,微细加工工艺技术将继续发展壮大,为人类社会带来更多的科技成果和应用产品。
微机械及其制造加工技术摘要:微机械制造工艺是我国现代化工制造的重要模块。
微细切削加工技术与微机械制造技术的研发,扩大了机械化的影响范围。
基于此,具体介绍了微细车削、微细铣削、超微细切削这三项微机械细切削加工技术,并详细阐述了Vision Pro PC、印刷电路+MEMS、纳米载体这几种微机械制造工艺,分析了促进微机械和制造行业的可持续发展的方向,希望能够为微机械制造领域的发展提供参考。
关键词:微细切削;机械制造;纳米载体引言:现代机械制造工艺和精密加工技术不断发展,传统制造手段已经很难满足化工产业需求。
因此有必要探究现代化机械制设计制造工艺,创新精密加工技术,使微机械设计满足“高、精、尖”要求,降低设备制造能耗。
微细切削是一种加工精度高于其他工艺的微小零件加工技术,而微机械制造则是指用于制造微米领域中三维力学机械系统的制造工艺,两者在机械发展中都起到了重要的推动作用[1],因此,工作者应深入分析微细切削加工与微机械制造,并采取有效措施,优化两种技术工艺的应用效果,提升科技发展水平。
1.微细切削加工借助微细车削、微细铣削、超微细切削技术等满足对微小元件的加工需要,节省人力、物力、时间成本,优化微机械产品的生产效率和质量,提高化工企业产品生产力。
1.1微细车削就目前来看,微细切削加工工艺分为车削、铣削、超微细切削等多种类型,其中微细车削工艺的运行主要依赖于由光学显微装置、长约200mm微细车床、控制单元、监视器组成的车削系统。
该系统的参数为,转速3000~15000r/min、主轴功率0.5W、装夹工件直径0.3mm、径向跳动1μm、横纵方向给进分辨率4r/min。
在加工中,操作者可以利用系统中的光学显微镜,观察车削加工状态,同时使用专用的工件装卸设施,保障加工精度。
在此过程中,考虑到工件的直径通常较小,所以应以较小的幅度,来进行横纵移动车削。
此外,在细微车削系统的研发中,曾经用0.3mm的黄铜丝作为毛坯,来测试车削加工的精度,结果显示,该系统能够将黄铜丝毛坯的直径切削至10μm,还可以将其制作成一个螺距12.5μm、直径120μm的丝杠,呈现出了高精度的微米尺度零件加工效果,可以用于硬度、强度较高的材质加工,有助于微细切削工艺的发展。
五、微机械及微细加工技术1、微机械简介现代制造技术的发展有两大趋势:一是向着自动化、柔性化、集成化、智能化等方向发展,使现代制造成为一个系统,即现代制造系统的自动化技术。
另一个就是寻求固有制造技术的自身微细加工极限。
探索有效实用的微细加工技术,并使其能在工业生产中得到应用。
微机械由于具有能够在狭小空间内进行作业而又不扰乱工作环境和对象的特点,在航空航天、精密仪器、生物医疗等领域有着广阔的应用潜力,受到世界各国的高度重视并被列为21世纪的关键技术之首。
比如,美国宇航局投资1亿美元着手研制“发现号微型卫星”;说明:卫星有大型、小型卫星、微型卫星和纳米卫星,区别是:小型卫星为一种可用常规运载器发射的航天器,质量为100~500kg;微型卫星定义为所有的系统和子系统都全面体现了微型制造技术,质量为10~100kg;纳米卫星是一种尺寸减小到最低限度的微卫星,质量为1~10 kg。
在航天发展史上,由于受运载能力及技术水平的限制,早期研制的卫星都采用小卫星方案,其重量只有几十千克。
70年代末,由于大推力运载火箭的研制成功和设计与制造能力的提高,大型多功能卫星开始出现,卫星体积不断增大,功能也越来越复杂。
随之而来的是成本不断攀升,风险逐渐增加。
如一枚“大力神”/“半人马座”运载火箭连同所发射的侦察卫星价值可达10.5亿美元以上,一旦发射失败就会造成严重的损失。
而且,卫星一旦被淘汰,形成严重的太空污染。
为此,航天界又将目光重新投向了小卫星。
由于技术的进步,特别是微电子技术的进步,新一代的小卫星采用了许多小型高性能电子部件,但它们同样具有一些大型卫星才有的功能,并为小卫星进一步微型化,进而为微型卫星、纳米卫星的发展奠定了基础。
纳米卫星的概念最早是由美国宇航公司于1993年在一份研究报告中首次提出的,它带来了小卫星设计思想上的根本变革。
纳米卫星是以微机电一体化系统(MEMS)技术和由数个MEMS组成的专用集成微型仪器(ASIM)为基础的一种全新概念的卫星,重量在10千克以下,甚至可降低到0.1千克以下。
微机电系统及微细加工技术微机电系统(Micro-Electro-Mechanical Systems,MEMS)是一种将微米尺度的机械结构、电子元器件和微处理器集成在一起的技术。
它利用微细加工技术来制造微小的机械设备和传感器,以实现对物理量、化学量和生物量的检测、测量和控制。
微机电系统的核心是微细加工技术,它是一种将传统的集成电路制造技术与微机械加工技术相结合的新技术。
通过微细加工技术,可以在硅基材料上制造出微小的机械结构和电子元器件,从而实现微机电系统的功能。
微机电系统的制造过程包括多个步骤,其中最关键的是光刻、薄膜沉积和蚀刻。
光刻是将光敏树脂涂覆在硅基材料上,并利用光刻机将图形投射到光敏树脂上,然后利用化学蚀刻将暴露在光下的部分去除,形成所需的结构。
薄膜沉积是将金属或者绝缘材料沉积在硅基材料上,用于制作电极、传感器等部件。
蚀刻是通过化学反应将硅基材料腐蚀,从而形成微小的结构。
微机电系统具有多种应用领域。
在生物医学领域,微机电系统可以用于制造微型传感器,实现对生物体内生理参数的监测。
在环境监测领域,微机电系统可以用于制造微型气体传感器,实现对空气中有害气体的检测。
在信息技术领域,微机电系统可以用于制造微型显示器和微摄像头,实现信息显示和图像采集。
此外,微机电系统还可以应用于汽车行业、航空航天领域和工业控制领域等。
微机电系统在实际应用中面临着一些挑战。
首先,微机电系统的制造过程非常复杂,需要高度精确的设备和工艺控制,制造成本较高。
其次,微机电系统的性能和可靠性受到环境和温度的影响,需要进行合理的封装和温度补偿。
最后,微机电系统的集成度和功耗也是一个挑战,需要在保证性能的同时尽量减小尺寸和功耗。
微机电系统是一种基于微细加工技术的新型集成技术,具有广泛的应用前景。
随着微细加工技术的不断发展和改进,微机电系统将在多个领域发挥重要作用,为人们的生活和工作带来更多便利和创新。
MEMS的发展及其加工技术简介MEMS的发展及其加工技术简介一、引言随着科学的进一步发展,人类社会正向人性化、多元化的方向发展。
由此孕育而生的多元化技术已经蓬勃发展。
MEMS的出现和发展既是建立在多学科基础之上产生的交叉性学科和技术,它的出现必将为工业技术带来巨大的变革。
微小型化始终是当代科学技术发展的重要方向。
微电子技术的发展,不仅使计算机与信息技术等领域面貌一新,而且在许多领域引发了一场微小型化的革命。
以加工微米/纳米机构和系统为目的的微米/纳米技术在此背景下应运而生。
一方面,人们利用物理、化学方法将原子和分子组装起来,形成有一定功能的微米/纳米结构;另一方面,人们利用精细加工手段加工出微米/纳米结构。
前者导致了纳米生物学、纳米化学等边缘学科的产生;后者在小型机械制造领域开始了一场革命,导致了MEMS 技术的出现。
二、MEMS 技术的国内外发展概况MEMS是典型的多学科交叉的前沿性研究领域,不仅与微电子学密切相关,还与现代光学、气动力学、流体力学、热学、声学、磁学、自动控制、仿真学和材料科学等相互交叉、渗透和综合,几乎涉及到自然与工程科学的所有领域。
MEMS 的主要研究内容是建立在MEMS理论基础和技术基础之上对MEMS设计技术、MEMS 材料、MEMS微细加工及MEMS的应用领域的研究。
MEMS的发展史,最早可追朔到19 世纪。
1962 年,第一个硅微压力传感器问世,其后开发出尺寸为50~500μm的齿轮、气动涡轮、联接件等微机构。
70年代后,美国学者提出了基于硅半导体材料的微机械的设想。
1988年美国加州大学伯克利分校Muller 研究小组发明了转子直径为60~100μm 的硅静电电机,在当时引起很大轰动,它表明了应用硅微加工技术制造微小可动结构的可行性,与集成电路兼容制造微小系统的优势。
同期,MIT、Berkely、Stand—ford等大学和AT&T及NSF 的15名科学家向美国政府提出MEMS研究建议。