真空镀膜机的详细结构

1、概述本设备采用箱式结构，抽气系统后置，便于拆卸和维修。

整机表面平整，便于清洁，适合净化间安装。

蒸发室全部采用不锈钢制造，外有可通冷、热水的护罩，可对壁进行加热(热水器选配)或冷却。

蒸发室底板有足够的面积布置蒸发源和各种接头。

阀门采用气动，操作方便，使用可靠。

液氮冷阱和水冷挡板设计为一整体。

蒸发室抽气口也设置一光学密封机械挡板，因此可使蒸发室的油污染降低到极低的程度。

本设备配备的抽气元件抽速较大，因此具有抽气时间短，工作真空度高，生产周期短等特点。

本设备适用于镀制各种多层光学薄膜和电学膜。

是有关工厂、研究院和大专院校进行生产和科研的理想设备。

2、主要技术数据2.1真空：2.1.1极限真空：2×10-4Pa。

2.1.2恢复真空：从大气→2×10-3Pa≤10min。

2.2 蒸发室：2.2.1直径：内部为φ1100mm。

2.2.2内腔尺寸：φ1100×1300mm。

2.2.3底板上有45个φ33.5通孔和2个斜光路孔。

3.3工件夹具：2.3.1外径φ1000mm。

2.3.2锥形球面夹具：2.3.3夹具转速N=3～31r.p.m。

2.4基片烘烤：可安装上下烘烤装置或其中一种，上烘烤为电阻丝（管状加热器）18KW(350℃全烘烤)；下烘烤为碘钨灯8KW(选配)，最高烘烤温度350℃，有上下烘烤接口。

2.5电阻蒸发电极：由技术协议确定，功率5KW/只。

2.6 2.7离子轰击：轰击电压0—300V2.8抽气系统2.8.1 主泵：K-630高真空油扩散泵，抽速12000L/s2.8.2 前级泵：ZJP-300罗茨泵，抽速300L/s2.8.3 2X-70机械泵：抽速70L/s2.9光路系统：2.9.1透、反射光路。

2.9.2六位(12位)比较片，另留一石英探头位置。

2.10其它2.10.1电源：3相220V/380V 50Hz2.10.2总功率：约40KW2.10.3耗水：约30L/min2.10.4压缩空气：5～6Mpa2.10.5水压:0.2～0.25MPa2.10.6总重量：（包括控电柜）约5吨2.10.7外型尺寸：主机：1390×3500×2300（宽×深×高）控电柜：1400×600×2100（宽×深×高）3、工作原理及结构说明该镀膜机由主机、控电柜二部份组成。

镀膜机的工作原理及结构
镀膜机是一种用于在材料表面上涂覆薄膜的设备，常见的应用包括金属薄膜、陶瓷薄膜、塑料薄膜等。

镀膜机的工作原理和结构如下：
工作原理：
镀膜机的工作原理主要包括物理蒸发镀膜、化学气相沉积和物理气相沉积等方法。

其中，物理蒸发镀膜是通过将原料加热至其蒸发温度，然后使蒸汽在基材表面冷凝成薄膜；化学气相沉积是通过将气体或气体混合物引入反应室，通过化学反应在基材表面沉积出薄膜；物理气相沉积则是通过离子轰击或原子束轰击的方式将原料蒸发后的粒子沉积在基材表面形成薄膜。

结构：
镀膜机通常由真空腔体、加热系统、蒸发源、基材夹持系统和控制系统等部分组成。

真空腔体是镀膜过程中的主要工作室，用于保持一定的真空度；加热系统用于加热原料使其蒸发；蒸发源是原料的来源，可以是电子束、阴极喷射、弧放电等方式；基材夹持系
统用于固定基材并控制其位置，以便在表面沉积薄膜；控制系统则用于监控和调节镀膜过程中的各项参数，如温度、真空度、膜层厚度等。

总的来说，镀膜机通过控制原料的蒸发和沉积过程，使得原料在基材表面形成均匀、致密的薄膜，从而实现对材料表面性能的改善和功能的增强。

真空镀膜机原理(一)真空镀膜机原理真空镀膜机是一种将金属或其他材料蒸发到基材表面的设备。

在这个过程中，物质以分子和原子的形式在真空环境中运动和沉积。

这个过程被称为真空镀膜，通常用于制造电子元器件、光学元件、半导体器件等领域。

真空镀膜机基本结构真空镀膜机由真空室、蒸发源、基板和真空泵等基本部件组成。

真空室是真空镀膜过程的核心部分，其中需要保持一个高度稳定的真空环境。

蒸发源是用来蒸发材料的部件，它在真空环境中升温以产生蒸汽，并在基板上沉积成薄膜。

真空泵则用于排放和维护真空室内的真空环境。

真空镀膜机工作原理真空镀膜机的工作原理可以分为三个步骤：真空、蒸发和沉积。

真空在真空镀膜机开始工作之前，需要将真空室内的气体排空，以创造一个良好的真空环境。

这个过程通常使用真空泵完成，将室内气体逐步抽走，降低压力至所需的真空度。

蒸发当真空环境达到要求时，蒸发源开始升温并蒸发材料。

材料的蒸汽随后沉积在基板上，形成薄膜。

这个过程需要注意蒸发速率、蒸发角度等参数，以确保沉积的薄膜均匀、致密。

沉积当沉积过程结束后，需要将蒸镀薄膜从真空室中取出。

这个过程需要注意保持真空度，并且在取出过程中防止污染。

真空镀膜机的应用真空镀膜机在电子元器件、光学元件、半导体器件等领域有着广泛的应用。

它可以应用于制造LED、太阳能电池、显示器件等各种光电产品，也可以为钢铁、塑料等材料表面进行镀膜，以增强它们的机械强度、化学稳定性等性能。

总结总之，真空镀膜机是一种非常重要的设备，应用广泛且功能强大。

通过深入了解其结构和工作原理，可以更好地理解它的应用范围和技术特点。

真空镀膜机的优点相较于传统镀膜技术，真空镀膜机具有以下几个优点：1.环保：真空镀膜机在膜形成过程中不需要添加额外的成分，只需要将材料升温进行蒸发。

因此，在操作过程中不会产生废气和废液，对环境友好。

2.均匀性好：真空镀膜机内的薄膜在沉积的过程中受到气体分子的影响小，因此沉积的薄膜均匀性好，种类、厚度等可控性高，容易实现高材质性能的镀膜。

pvd镀膜机的结构
PVD镀膜机的结构主要包括以下几个部分：
1. 真空腔体：镀膜过程需要在高真空条件下进行，真空腔体是保持腔体内高真空状态的关键部分。

通常由不锈钢或其他耐腐蚀材料制成，内部经过特殊处理以避免气体泄漏。

2. 靶材供应系统：靶材是用来产生蒸发物或离子束的来源。

靶材供应系统通常由加热器、靶材支架和传感器等组成，用于控制靶材温度和靶材表面的蒸发速率。

3. 辅助加热系统：在一些特殊情况下，需要额外的加热来提高镀膜效果。

辅助加热系统一般由加热器和加热控制装置组成，能够提供额外的加热能量。

4. 基板夹具：用于固定待镀膜的基板，通常由夹具架和夹具组成。

夹具要具有良好的热传导性能，以便将加热能量均匀传递至基板。

5. 抽气系统：用于将真空腔体中的气体抽除，维持高真空度。

一般包括机械泵、分子泵和扩散泵等多个泵的组合。

6. 控制系统：用于监测和控制整个镀膜过程。

包括温度控制、真空度监测、靶材蒸发速率控制等。

有些高级的PVD镀膜机还配备了自动化控制系统，能够实现自动化生产。

以上是一般PVD镀膜机的基本结构，不同型号和用途的镀膜机可能会有所不同。

实验一、真空镀膜及结构表征真空镀膜，是指在真空中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射，沉积到基片固体表面形成单层或多层薄膜，使得固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能。

真空镀膜的历史最早可追溯到19世纪，1842年英国的Grove和德国的Plücker相继在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜，这就是真空镀膜的萌芽。

但是，真正应用于研究的溅射设备直到1877年才初露端倪。

迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认识长期处于模糊不请状态。

所以，在1950年之前有关溅射薄膜特性的技术资料，多数是不可靠的。

20世纪中期，只是在化学活性极强的材料、贵金属材料、介质材料和难熔金属材料的薄膜制备工艺中采用溅射技术。

1970年后出现了磁控溅射技术，1975年前后商品化的磁控溅射设备供应于世，大大地扩展了溅射技术应用的领域。

到了80年代，真空镀膜技术方从实验室应用技术真正地步入实用化大量生产的应用领域。

目前，镀膜技术已在现代科学技术和工业生产中有着广泛的应用。

例如，光学系统中使用的各种反射膜、增透膜、滤光片、分束镜、偏振镜等；电子器件中使用的薄膜电阻，特别是平面型晶体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造；在塑料、陶瓷、石膏和玻璃等非金属材料表面镀以金属膜具有良好的美化装饰效果，有些合金膜还起着保护层的作用；磁性薄膜具有记忆功能，在电子计算机中用作存储记录介质而占有重要地位。

【实验目的】1．了解真空技术的基本知识；2．掌握低、高真空的获得和测量的基本原理及方法；3．了解真空镀膜的基本知识；4．学习掌握蒸发镀膜的基本原理和方法；5．学习掌握利用椭圆偏振仪测量薄膜厚度。

【实验原理】一、真空度与气体压强压强低于一个标准大气压的稀薄气体空间称为真空。

在真空状态下，由于气体稀薄，分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减少，分子在一定时间内碰撞于固体表面上的次数亦相对减少，这导致其有一系列新的物化特性，诸如热传导与对流小，氧化作用少，气体污染小，汽化点低，高真空的绝缘性能好等诸多优点。

真空磁控镀膜设备构造讲义培训一、概述真空磁控镀膜设备是一种先进的表面处理技术，通过在真空环境下利用磁场和电场对材料表面进行镀膜，可以改善材料的表面性能。

本文档将介绍真空磁控镀膜设备的构造和操作原理，帮助读者了解该设备的基本原理和使用方法。

二、设备构造真空磁控镀膜设备由以下几个主要部分组成：1. 真空室真空室是整个设备的核心部分，用于创造和维持一个低压、高真空的环境。

它通常由不锈钢制成，具有良好的密封性能。

真空室内部设有不同功能的连接口，用于连接其他设备和通入所需的气体。

2. 真空泵系统真空泵系统用于抽取真空室内的气体，以创建和维持高真空环境。

常见的真空泵包括机械泵、扩散泵和分子泵等。

不同类型的真空泵可根据需要组合使用，以达到所需的真空度。

3. 反应腔体反应腔体是放置待处理材料的空间，通常由不锈钢制成。

在镀膜过程中，材料将被放置在反应腔体内，并通过外部的电极连接到高频电源。

4. 高频电源高频电源用于提供镀膜过程中所需的工作电场。

它产生高频电场，使待处理材料表面上的离子得到加速，从而实现镀膜效果。

高频电源通常由高频发生器、匹配箱和功率放大器等组成。

5. 磁控系统磁控系统通过施加外部磁场，对待处理材料表面上的离子进行控制。

它通常由可调磁铁和磁场感应探针等组成。

磁控系统的调节可以影响镀膜过程中的离子运动轨迹，从而调节镀膜膜层的均匀性和性能。

6. 控制系统控制系统用于监测和控制整个设备的运行状态，通常由计算机和相关软件组成。

操作人员可以通过控制系统对设备进行操作、参数设定和数据记录等操作。

三、操作原理真空磁控镀膜设备的操作原理如下：1.将待处理的材料放置在反应腔体内，关闭真空室。

2.打开真空泵系统，抽取真空室内的气体。

3.当达到所需的真空度后，打开高频电源，产生工作电场。

4.同时打开磁控系统，施加外部磁场。

5.离子在电场和磁场的作用下，被加速并聚集到材料表面上，形成薄膜。

6.控制系统监测镀膜过程中的各项参数，并实时显示和记录数据。

真空镀膜机组成结构真空镀膜机是一种先进的表面处理设备，主要用于在各种材料表面上形成薄膜覆盖层，以增强材料的性能和改善外观。

它由多个部分组成，包括主腔体、抽气系统、镀膜源、辅助设备等。

首先，主腔体是真空镀膜机的核心部分，它是一个密封的空间，用于创建和维持真空环境。

主腔体通常由不锈钢材料制成，具有良好的密封性能和抗腐蚀性能。

在主腔体内部，还会安装电加热器和冷却系统，以控制腔体的温度，并确保镀膜过程的稳定性。

其次，抽气系统是真空镀膜机的重要组成部分之一。

它由真空泵和配套的气体管道组成，用于将腔体内的气体抽出，建立所需的真空度。

真空泵可以根据需要选择不同类型，如旋片式真空泵、根式真空泵等。

抽气系统的性能直接影响到真空镀膜的效果和速度，因此选择合适的真空泵非常重要。

再者，镀膜源是真空镀膜机的另一个关键部分。

它是用于蒸发或溅射目标材料的装置，将材料的原子或分子释放到真空腔体中，在工件表面上形成薄膜层。

镀膜源通常由加热器、坩埚和材料供给系统组成。

不同的材料有不同的蒸发或溅射方式，常用的镀膜源包括电子束蒸发源、磁控溅射源等。

最后，辅助设备也是真空镀膜机不可或缺的一部分。

它包括真空度检测器、温度控制器、压力控制器等。

真空度检测器用于实时监测和控制真空腔体内的气体压力，确保所需的真空度得到维持。

温度控制器用于实时监测和控制腔体的温度，保证镀膜过程的稳定性。

压力控制器则用于调节进气量，平衡腔体内外压力差。

综上所述，真空镀膜机是一个复杂的系统，由多个部分精密组合而成。

每个部分都起着重要的作用，共同完成材料表面镀膜的任务。

在使用真空镀膜机时，需要对各个部分进行细致的调试和控制，以确保镀膜效果的质量和稳定性。

同时，对真空镀膜技术的深入了解和不断的研发也是至关重要的，以不断推动这一领域的发展和应用。

真空镀膜机的详细结构高真空镀膜机，镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的设备。

其相关组成及各部件：机械泵、增压泵、油扩散泵、冷凝泵、真空测量系统.下面本人详细介绍各部分的组成及工作原理。

一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔体由不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。

二、辅助抽气系统此排气系统采用“扩散泵+机械泵＋罗茨泵＋低温冷阱＋polycold”组成排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。

排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，主要有由机械泵、增压泵（主要介绍罗茨泵）、油扩散泵三大部分组成。

机械泵：也叫前级泵，机械泵是应用最广泛的一种低真空泵，它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空。

机械泵有很多种，常用的有滑阀式（此主要应用于大型设备）、活塞往复式、定片式和旋片式（此目前应用最广泛，本文主要介绍）四种类型。

机械泵常常被用来抽除干燥的空气，但不能抽除含氧量过高、有爆炸性和腐蚀性的气体，机械泵一般被用来抽除永久性的气体，但是对水气没有好的效果，所以它不能抽除水气。

旋片泵中起主要作用的部件是定子、转子、弹片等，转子在定子里面但与定子不同心轴，象两个内切圆，转子槽内装有两片弹片，两弹片中间装有弹簧，保证了弹片紧紧贴在定子的内壁。

它的两个弹片交替起着两方面的作用，一方面从进气口吸进气体，另一方面压缩已经吸进的气体，将气体排出泵外。

转子每旋转一周，泵完成两次吸气和两次排气。

当泵连续顺时针转动时，旋片泵不断的通过进气口吸入气体，又从排气口不断的排出泵外，实现对容器抽气的目的。

真空镀膜机简介真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE 分子束外延，PLD 激光溅射沉积等很多种。

主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。

基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

镀膜机使用的步骤一、电控柜的操作1. 开水泵、气源2. 开总电源3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1 位置，等待其值小于10 后，再进入下一步操作。

约需 5 分钟。

4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2 位置，抽到小于2 为止，约需20 分钟。

5. 观察涡轮分子泵读数到达250 以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。

真空到达2X10-3以后才能开电子枪电源。

二、DEF-6B 电子枪电源柜的操作1. 总电源2. 同时开电子枪控制I和电子枪控制n电源：按电子枪控制I电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。

3. 开高压，高压会达到10KV 以上，调节束流可到200mA 左右，帘栅为20V/100mA ，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。

三、关机顺序1. 关高真空表头、关分子泵。

2. 待分子泵显示到50 时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。

3. 到50 以下时，再关维持泵。

真空镀膜中蓝色、紫色、红色的化学成分薄膜均匀性的概念：1. 厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A ）,真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10 范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。

真空镀膜机技术指标用途：本产品主要用于光学零件真空制备激光膜镀膜主要结构：真空室体、真空获得系统、工件转动系统、水冷却系统、气动系统、蒸发镀膜系统、电器控制系统等组成1.真空室：1.1.内腔尺寸：φ800×1000mm 。

蒸发室与抽气室整体连接。

底板为22mm，壁厚为5mm。

1.2.形式：立式前开门，室体门有装饰面板。

1.3.材料：优质不锈钢U304材料；外壁通冷却水。

1.4.防污板：真空室内衬优质不锈钢材料防污板，装卸简单方便（二套）。

1.5.观察窗：门上部斜趋式窗口一个，门下部中央设观察窗口一个。

窗口为直接水冷式，装备有耐高温玻璃、防辐射玻璃和防强光防护镜。

1.6.门上配备高压保护装置及开门限位装置。

2.真空系统：2.1.极限真空：2.8×10－4Pa。

2.2.恢复真空时间：大气→4×10－3Pa≤15min。

2.3.漏气率：在极限真空达到后关闭所有阀门,一小时真空度应≤3×10-1Pa。

2.4.测试方法：按照GB11164真空镀膜机通用技术条件测试，测试仪器为ZDF－Ⅲ型数字真空计。

2.4.1.真空度检测位置在抽气室侧面及在蒸发室电子枪上方200mm处。

2.4.2.室温环境应为真空室清洁、蒸发室无样品、镀膜材料。

2.4.3. 蒸发室烘烤后、经干燥氮气充气。

2.4.4.低真空测量：ZJ-25型电阻规，测量范围1×103 Pa～10-1Pa。

2.4.5.高真空测量：ZJ-27型电离规，测量范围10Pa～10-5Pa。

2.4.6. 测量规管加金属保护套。

2.5.真空系统配置：－630扩散泵+2X－70机械泵（TK－630扩散泵抽速12000L/S， 2X－70机械泵抽速70L/S）。

2.5.2.为了有效防止扩散泵返油，在泵口上方配紧密型水冷阱。

2.5.3.在抽气口设置百叶窗挡板和防滑片栅网，拆卸清洗方便2.6.真空系统测量点：电阻规二点、电离规一点。

⏹实验原理真空镀膜是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。

当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。

真空镀膜有两种方法,一是蒸发,一是溅射。

本次实验采用蒸发方法。

在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上。

●真空系统(DM—300镀膜机)●蒸发源蒸发源的形状如下图，大致有螺旋式(a)、篮式(b)、发叉式(c)和浅舟式(d)等●蒸发源选取原则1 有良好的热稳定性，化学性质不活泼，达到蒸发温度时加热器本身的蒸汽压要足够底。

2 蒸发源的熔点要高于被蒸发物的蒸发温度。

加热器要有足够大的热容量。

3 蒸发物质和蒸发源材料的互熔性必须很底，不易形成合金。

4 要求线圈状蒸发源所用材料能与蒸发材料有良好的浸润，有较大的表面张力。

5 对于不易制成丝状、或蒸发材料与丝状蒸发源的表面张力较小时，可采用舟状蒸发源。

●薄膜厚度分布设蒸发源为点蒸发源，单位时间内通过任何方向一立体角dω的质量为：蒸发物质到达任一方向面积元ds质量为：设蒸发物的密度为ρ，单位时间淀积在ds上的膜厚为t，则比较以上两式可得：对于平行平面ds，φ=θ，则上式为：由：可得在点源的正上方区域(δ=0)时：●薄膜的厚度测量–干涉显微镜法干涉条纹间距Δ0 ，条纹移动Δ，台阶高为：测出Δ0 和Δ，即可测得膜厚t其中λ为单色光波长，如用白光，λ取⏹实验步骤1.绕制钨篮，清洗钨篮和载玻片,铝丝，祛除表面氧化物。

2制作基片，.用一窄薄铝片遮盖在载玻片上，以便镀膜完成后在基片上形成台阶。

3. 将钨篮和钼舟固定在钟罩内的电极上，并放入铝丝。

,4抽至真空度达10-6torr以上,开始蒸发镀膜。

5.镀膜完成后,处理真空机组的后续工作。

6.用称重法测薄膜的厚度。

7.用干涉法测薄膜的厚度。

⏹思考题1扩散泵启动前必须要有机械泵提供的前级真空度几pa以上，否则就会使(a)扩散泵不能正常工作 (b) 扩散泵抽速降低 (c) 扩散泵返油[答案：(a)]2真空蒸发镀膜时，轰击装置的作用是(a)使基片升温 (b) 使钟罩升温 (c) 清洁基片和钟罩内壁[答案：(c) ]3 打开钟罩之前，必须充大气，这是为了(a)用大气冷却基片 (b) 升钟罩时不损坏升降电机 (c) 大气可以保护钟罩[ 答案：(b)]4 用干涉显微镜测膜厚，如果仪器调节一切正常，不出现干涉条纹的原因可能有(a)灯光太暗 (b) 镀膜层放反 (c) 镀膜层太薄[答案：(b)(c) ]5 我们使用的DM-300真空镀膜机，为什么在机械泵和扩散泵之间要加储气罐？⏹本实验重点1． DM-300镀膜机的真空系统结构及正确操作2．分别用钨篮和钼舟做蒸发源，掌握好二者的蒸发电流和蒸发时间是镀膜质量好坏的关键。

真空磁控镀膜设备构造讲义培训1. 设备概述真空磁控镀膜设备是一种利用真空技术和磁控技术进行表面涂层处理的专用设备。

它广泛应用于电子、光学、玻璃、金属等领域，可以对材料表面进行镀膜、薄膜沉积、表面改性等工艺处理。

2. 主要构造真空磁控镀膜设备主要由真空腔体、磁控电源、靶材、镀膜物料、真空泵、加热电源、控制系统等组成。

3. 真空腔体真空腔体是整个设备的主体部分，用于容纳镀膜物料、靶材等，并提供真空环境。

其结构通常包括上、下真空室、衬底台、靶架等部分。

4. 真空泵真空泵是用于抽取腔体内气体，创建高真空环境的关键设备。

常见的真空泵包括机械泵、分子泵、离心泵等。

5. 磁控电源磁控电源是真空磁控镀膜设备的核心部件，用于提供磁场，控制镀膜材料的喷射和沉积。

其原理是通过电磁感应和电子束轰击使靶材产生等离子体，进行镀膜作业。

6. 靶材靶材是用于镀膜的材料，通常是金属或合金材料。

在真空腔体内，靶材受到电子束轰击后，产生等离子体，并通过磁场控制其喷射方向和沉积位置。

7. 加热电源加热电源用于在镀膜过程中对腔体内部进行加热或对靶材进行加热，以控制材料的沉积温度和均匀性。

8. 控制系统控制系统用于对整个设备进行温度、真空度、电源参数等方面的控制和监测，保证设备正常稳定运行。

以上就是真空磁控镀膜设备的主要构造讲义，通过对设备构造的理解，可以更好地掌握设备的使用和维护技能。

真空磁控镀膜设备构造讲义9. 镀膜物料镀膜物料是指需要进行表面处理的材料，可以是塑料、玻璃、金属等。

在真空磁控镀膜设备中，镀膜物料被放置在腔体中，通过真空环境和磁控技术进行表面涂层处理。

10. 工作原理真空磁控镀膜设备的工作原理主要包括以下几个步骤：a. 开始工作前，先将腔体内的空气抽空，创造高真空环境。

b. 加热物料和靶材，使其达到需要的温度。

c. 施加磁场，并通过磁控电源产生高能量电子束，轰击靶材，产生等离子体。

d. 控制等离子体的喷射方向和沉积位置，对物料表面进行镀膜处理。