集成电路布图设计专有权的保护

知识产权相关证书
知识产权相关证书包括以下几种：
1. 专利证书：专利是一种对创造性技术发明或设计的独占性权利保护。

获得专利证书意味着发明或设计已经被承认，并享有在一定时间内独占该发明或设计的权利。

2. 商标注册证书：商标是用于标识商品或服务来源的标识，如商标、标志、标识、名称、图案等。

商标注册证书是商标注册成功后授予的证书，确认商标所有者对商标的独占使用权。

3. 版权登记证书：著作权是指文学、艺术和科学作品的独立创作成果的法律保护。

版权登记证书是著作权登记成功后授予的证书，确认著作权人对作品的权利。

4. 集成电路布图设计专有权证书：集成电路布图设计专有权是对集成电路布图设计的独占性权利保护。

获得集成电路布图设计专有权证书意味着该布图设计已经被承认，享有独占使用权和禁止他人非法复制、制造等行为的权利。

5. 植物新品种权证书：植物新品种权是针对新培育或发现的植物新品种的保护。

获得植物新品种权证书意味着该植物新品种已经被承认，并享有独占使用权和禁止他人非法复制、销售等行为的权利。

除了上述证书外，还有其他一些知识产权相关的证书，如外观
设计专利证书、计算机软件著作权证书等，具体根据不同的知识产权类别和国家的法律规定而定。

人民法院报/2011年/4月/21日/第006版案例指导集成电路布图设计专有权的保护——南京中院判决矽威公司诉源之峰公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案案例编写人江苏省南京市中级人民法院梁永宏裁判要旨布图设计专有权的保护范围应当以布图设计授权文件所确定的三维配置为准。

侵犯布图设计专有权的赔偿数额，为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。

案情原告华润矽威科技（上海）有限公司（简称矽威公司）享有PT4115集成电路布图设计专有权。

被告南京源之峰科技有限公司（简称源之峰公司）与华半公司订立协议开发1360集成电路。

被告对原告销售的PT4115芯片进行了反向剖析，获取其具体电参数、元器件结构、尺寸和内部构造等数据，形成1360集成电路的布图设计，提供给华半公司，获得10万元设计费。

华半公司委托第三方生产1360管芯并优先销售给被告1360管芯67407只，被告将管芯封装后，编码成6808、6807等系列集成电路向市场销售获利50915.06元。

裁判江苏省南京市中级人民法院经审理认为，被告接受委托制作的布图设计及其销售的集成电路含有的布图设计均与原告享有专有权的涉案布图设计相同。

因此，被告依其与华半公司的协议开发1360集成电路，通过反向剖析的手段，复制了原告涉案PT4115布图设计的全部，并提供给华半公司进行商业利用，未经原告许可，其行为构成对原告PT4115布图设计专有权的侵害；同时，被告为商业目的，销售了含有其非法复制的布图设计的集成电路，也构成对原告PT4115布图设计专有权的侵害。

2010年8月25日，法院判决：被告立即停止侵犯原告PT4115集成电路布图设计专有权的行为并赔偿原告经济损失共计236535.06元等。

现判决已发生法律效力。

评析此案为全国首例涉及集成电路布图设计专有权的案件，为今后审理同类案件提供了宝贵的经验。

1.相同布图设计的认定《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）规定的集成电路布图设计（简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

集成电路布图设计权的保护期限
为了保护布图设计创作人的权利和利益，各国制定了法律，从而产生了布图设计权。

但是布图设计权在保护时间上不能是无限的，否则将不利于充分发挥其对社会的作用，也不利于集成电路的技术发展，因此对布图设计应予以一定的保护期限。

由于保护期限直接关系到集成电路开发商的利益，因而在保护期限上发达国家与发展中国家展开了激烈的争论。

最早保护布图设计的美国在《半导体芯片保护法》中规定保护期为10年。

发展中国家则认为保护期过长，经勿良苦的努力，终于在《华盛顿条约》中将保护期减少为8年，但由于发达国家的抵制，在TRIPS协议中又将保护期延长到10年。

我国《条例》第十二条规定:‘布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。

但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。

”
对于保护期限，陈家骏先生认为:“惟如科技工业之场合，其造成进步之原动力之一即在于互相观摩及利用他人之创作，从而激活自己脑力而创造出其他新技术，故如从人类文明福社之均沾及促进社会整体利益而言，科技产物之保护期实不宜太长，是以10年为妥。

”对布图设计权保护期限的规定既应考虑社会公共利益，又要照顾布图设计创作人及开
发商的利益，还要考虑发展中国家的利益，以及集成电路技术更新的速度。

只有找到这些因素的平衡点，才能恰当规定布图设计的保护期。

尤其是集成电路技术的更新速度越来越快，从长远的利益来看，10年的保护期似乎过长了些。

但当今世界是大国主宰的世界，既然TR 工PS已规定了10年的保护期，我们也只有与其保持一致。

一、单项选择题（每小题3分，共30分）1.根据各国立法及有关国际条约的规定，集成电路布图设计要受法律保护必须具有（ C ）。

单选题(3 分)A. 新颖性B.实用性C.独创性D.专用性2.我国对集成电路布图设计专有权的保护期限是（ B ）。

单选题(3 分)A. 5年B.10年C. 15年D.20年3.通过第三人窃取权利人的商业秘密并加以公开或使用是对该商业秘密的（ B ）。

单选题(3 分)A. 直接侵权B.间接侵权C.双重侵权D.无过失侵权4.商业秘密的本质属性是（B ）。

单选题(3 分)A. 信息性B.保密性C. 未公开性D.价值性5.下列权利中，（ D ）无保护期限的限制，是一项永久性的财产权利。

单选题(3 分)A.著作权B.商号权C.商业秘密权D.地理标志权6.植物新品种权有保护期限。

根据我国法律的规定，林木、果树的保护期限是（D ）。

单选题(3 分)A. 5年B.10年C.15年D.20年7.下列选项中，不属于商号权特征的是（ C ）。

单选题(3 分)A.地域性B.权利的专有性C. 时间性D.客体的非物质性8.商号权的相对排他效力是指（ D ）。

单选题(3 分)A.只能在一国范围内具有排他效力B.只能在一国地域范围内具有排他效力C.只能在本行业范围内具有排他效力D.只能在其登记范围内享有排他效力9.与知识产权有关的不正当竞争行为包括（D）。

单选题(3 分)A.商业贿赂B.串通投标C.不正当有奖销售D.侵犯商业秘密10.世界知识产权组织的简称是（C ）。

单选题(3 分)A.WPPTB. WCTC. WIPOD.WTO二、多项选择题（每小题4分，共40分）11.下列关于商业秘密权的说法，正确的是（ABC ）。

多选题(4 分)A. 商业秘密权的取得无需国家授权，只要其符合法律的规定，便可自动受到法律的保护B.商业秘密权不受时间和地域的限制，只要不被泄露出去，就一直受到法律的保护C. 商业秘密权不具有较强的排他性，权利人不能禁止他人对自己开发的商业秘密进行营利性使用D. 作品、专利技术等知识产品均具有一定的创造性，而商业秘密则无明显的创造性12.侵犯商业秘密的行为包括（ABCD ）。

上诉人深圳裕昇科技有限公司、户某某、黄某3、黄某4与被上诉人苏州赛芯电子科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案文章属性•【案由】侵害集成电路布图设计专有权纠纷•【案号】（2019）最高法知民终490号•【审理法院】最高人民法院•【审理程序】二审裁判规则集成电路布图设计的保护对象是为执行某种电子功能而对于元件、线路所作的具有独创性的三维配置。

权利人主张其布图设计的三维配置整体或者部分具有独创性的，应当对其独创性作出合理的解释或者说明，被诉侵权人不能推翻权利人的解释或者说明的，应当认定该布图设计具备独创性。

正文上诉人深圳裕昇科技有限公司、户某某、黄某3、黄某4与被上诉人苏州赛芯电子科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案中华人民共和国最高人民法院民事判决书（2019）最高法知民终490号上诉人（原审被告）：深圳裕昇科技有限公司。

住所地：广东省深圳市福田区彩田路彩福大厦**聚福阁18F。

法定代表人：黄某3，该公司总经理。

委托诉讼代理人：崔军，北京德恒（深圳）律师事务所律师。

委托诉讼代理人：雷周，北京德恒（深圳）律师事务所律师。

上诉人（原审被告）：户某某，男，1988年7月7日出生，汉族，住江西省九江市庐山区。

上诉人（原审被告）：黄某3，男，1966年2月22日出生，汉族，住浙江省瑞安市。

上诉人（原审被告）：黄某4，男，1991年2月16日出生，汉族，住浙江省瑞安市。

三上诉人共同的委托诉讼代理人：王厚盛，北京德恒（深圳）律师事务所律师。

三上诉人共同的委托诉讼代理人：谢肖雄，北京德恒（深圳）律师事务所律师。

被上诉人（原审原告）：苏州赛芯电子科技有限公司。

住所地：江苏省苏州工业园区金鸡湖大道**国际科技园**。

法定代表人：谭健（TANJIAN），该公司总经理。

委托诉讼代理人：朱爱军，广东君龙律师事务所律师。

委托诉讼代理人：丁建春，广东君龙律师事务所律师。

上诉人深圳裕昇科技有限公司（以下简称裕昇公司）、户某某、黄某3、黄某4因与被上诉人苏州赛芯电子科技有限公司（以下简称赛芯公司）侵害集成电路布图设计专有权纠纷一案，不服广东省深圳市中级人民法院于2019年6月19日作出的（2015）深中法知民初字第1106号民事判决，向本院提起上诉。

集成电路布图设计的知识产权性质和特点集成电路布图设计的知识产权性质和特点[摘要]集成电路布图设计不同于发明，不同于作品，不同于技术秘密，它是智力劳动的成果，是无形的、具有创造性和实用性以及独立的知识产权客体。

我国目前还没有保护集成电路布图设计的单行法规，只能将其纳入知识产权法的保护范围。

一俟条件成熟，便可制定集成电路保护法。

[关键词]集成电路，布图设计，知识产权，集成电路保护法集成电路是微电子技术的核心，是现代电子信息技术的基础。

集成电路的应用极为广泛，计算机、通讯设备、家用电器等几乎所有的电子产品都离不开集成电路。

自20世纪后半叶以来，集成电路工业在许多国家的国民经济中发挥着越来越重要的作用。

我国当前也十分重视集成电路工业的发展。

2000年6月27日，国务院颁布的《鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》提出：“集成电路设计产品视同软件产品，受知识产权方面的法律保护。

”①但我国现在还没有类似《计算机软件保护条例》那样的单行法规用来保护集成电路设计产品。

而利用现有的知识产权法律，是将集成电路设计产品作为作品用着作权法来保护，还是将之作为发明用专利法来保护？这个问题我国尚无明确规定，还需要根据集成电路设计产品的性质和特点，来确定其应适用的法律。

本文对集成电路设计产品的性质和特点进行分析，不仅符合我国当前大力发展集成电路工业及即将加入世界贸易组织的形势需要，也希望能为我国制订集成电路保护法提供一些立法参考。

一、集成电路布图设计的知识产权性质和特点集成电路设计产品，指的是集成电路生产过程中的布图设计这一中间产品。

布图设计是制造集成电路产品中非常重要的一个环节，它的开发费用一般要占集成电路产品总投资的一半以上。

不法厂商抄袭他人的布图设计，就能仿造出相同的集成电路产品，而其成本却比原开发者的少得多。

这种抄袭行为严重损害了产品开发者的利益，而传统的物权法却对之束手无策。

这是因为布图设计具有无形财产的性质特点，必须利用知识产权法予以保护。

西交《知识产权法学》在线作业
我国对集成电路布图设计专有权的保护期限是( )
A:10年
B:10年可以续展
C:制造权10年，销售权15年
D:20年
答案：A
注册不当的商标被撤销后，因商标权人的下列行为给他人造成损失的，应当予以赔偿（）。

A:恶意行为
B:善意行为
C:一切行为
D:事实行为
答案：A
著作权自动取得原则也称为( )。

A:注册主义原则
B:登记主义原则
C:创作主义原则
D:手续主义原则
答案：C
假冒他人专利的行为是指( )
A:未经专利权人许可，制造专利产品
B:未经专利权人许可，销售专利产品
C:在非专利产品上标注他人专利号
D:在非专利产品上标注虚构的专利号
答案：C
世界上第一部具有现代意义的商标法为（）。

A:法国1857年商标法
B:英国的《商标注册法》
C:美国的李《联邦商标条例》
D:德国的《商标保护法》
答案：A
下列不受著作权法保护的是( )
A:新闻评论。

集成电路布图设计保护条例Regulations for the Protection of Layout-design of Integrated Circuits第一章总则Chapter I General Provisions第一条为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，制定本条例。

Article 1 With a view to protecting the exclusive right of layout-design of integrated circuits, encouraging the innovation of integrated circuit technology and boosting the development of science and technology, the Regulations are hereby formulated as follows.第二条本条例下列用语的含义：Article 2 For the purpose of the Regulations:（一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；(1) Integrated circuit means a semi-conductor integrated circuit, namely a product, in an intermediate form or its final form, in which the elements, at least one of which is an active element, and two or more of the interconnections are integrally formed in and/or on a piece of material and which is intended to perform an electronic function;（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；(2) Layout-design of integrated circuits (hereinafter referred to as layout-design) means thethree-dimensional disposition of the elements, at least one of which is an active element, and two or more of the interconnections of an integrated circuit, or such a three-dimensional disposition prepared for an integrated circuit for manufacture;（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；(3) Holder of right of layout-design means the natural person who, or the legal entity or any other organisation which, according to the provisions of the Regulations, enjoys the exclusive right in alayout-design;（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；(4) Reproduction means an act to repetitively produce a layout-design or integrated circuit incorporating the layout-design; and（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

6种知识产权类型知识产权是指人们创造和拥有的智力成果所享有的权利，它保护了创新和创作的努力，并为创造者提供了应得的回报。

在现代社会中，知识产权的保护和运用对于创新和经济发展至关重要。

本文将介绍六种常见的知识产权类型，包括专利、商标、著作权、工业设计、集成电路布图和商业秘密。

一、专利专利是指为新发明、实用新型和外观设计颁发的一种独占权。

新发明专利是对于新颖、有可行性和有创造性的新技术发明的保护。

实用新型专利是针对某种实用新型产品或者改进的技术方案的保护。

外观设计专利则是对于外观形状、图案等工业设计的保护。

专利保护确保了创新者在一定时间内拥有独占销售和生产的权利，并鼓励创新。

二、商标商标是指用于标识商品或服务来源的图形、文字、符号等标识。

商标的注册能够确保拥有者在相同或类似商品或服务领域中独占使用该商标，并防止他人误用或侵害商标权益。

一个独特和容易识别的商标能够帮助企业建立品牌形象，并获得消费者的信任和忠诚度。

三、著作权著作权是指对作品的独占权，包括文学、艺术、科技等领域的创作作品。

这些作品可以是文学作品、音乐作品、电影、软件等。

著作权保护确保了作品的创作者在一定时间内对其作品的独占使用权，并能够从中获取经济利益。

著作权的保护也鼓励了文化和艺术的创作和传播。

四、工业设计工业设计是指对于产品外观形状、结构等方面的设计活动。

工业设计的创新能够提高产品的竞争力，并通过吸引消费者的视觉和审美享受来增加销售额。

工业设计的保护可以通过专利和外观设计专利来实现，确保设计者能够独占自己的设计，并防止他人的侵权行为。

五、集成电路布图集成电路布图是指用于制造集成电路的电子元器件的布线结构和互连关系的图形表示。

集成电路布图的保护可以确保设计者在一定时间内对其布图的独占使用权，并为设计者提供了合理的回报。

集成电路布图的保护也可以鼓励相关技术的创新和发展，推动电子产业的进步。

六、商业秘密商业秘密是指企业拥有的经济价值的信息，包括技术、经营信息、客户列表等，如制造工艺、销售策略、核心技术等。

集成电路布图设计解答1、什么是集成电路布图设计专有权？集成电路布图设计专有权是根据《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）对具有独创性的集成电路布图设计进行保护的一种知识产权。

它与专利权、著作权等一样，是知识产权的分支。

2、获得集成电路布图设计专有权有什么好处？获得集成电路布图设计专有权后，未经布图设计权利人许可，他人不得：（一）复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分；（二）为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。

有上述行为之一的，被认为侵犯布图设计专有权。

行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。

3、集成电路布图设计专有权的保护期限？布图设计专有权的保护期为10年，起算日是布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日，以较前日期为准。

但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《条例》保护。

4、哪些产品可以获得集成电路布图设计专有权？《集成电路布图设计保护条例》中对集成电路的定义仅限于芯片（IC芯片）的布图设计，电路板（PCB板）设计不属于《条例》保护的范围。

5、如何获得集成电路布图设计专有权？集成电路布图设计专有权经国家知识产权局登记产生。

要想获得布图设计专有权，需向国家知识产权局提出登记申请并办理相关手续。

6、申请人办理集成电路布图设计登记时应提交哪些文件？（-）必须提交的文件：①集成电路布图设计登记申请表一份（相关表格可登录国家知识产权局网站下载）。

②图样一份。

③图样的目录一份。

（-）可能需要提交的文件：①布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件样品。

②申请人委托代理机构的，还应提交集成电路布图设计登记代理委托书。

(三)此外，申请人还可以提交：①包含该布图设计图样电子件的光盘。

②布图设计的简要说明。

7、申请文件的形式要求(1)图样：包括该布图设计的总图和分层图，以适合A4纸的大小打印在A4纸上；每页纸打印一幅图；当图纸有多张时，应顺序编号。

集成电路布图设计专有权归谁所有集成电路布图设计是属于知识产权的范畴，具有专有性，集成电路布图设计是属于多人参与的一个涉及，因为参与人比较多的原因，所以对于他的所有权就会有一定的界定，法律对于他的专有权归谁所有有一个专门的法律规定，跟着我一起看看吧。

集成电路布图设计专有权归谁所有布图设计专有权通常由布图设计的创作人，即由完成布图设计的人享有。

如果由多人共同完成，我们国家的法律规定其专有权的归属由合作者约定；未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。

受委托创作的，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定；未作约定或者不明的，其专有权由受托人享有。

集成电路布图设计，根据《集成电路布图设计保护条例》是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

集成电路布图设计专有权，根据《集成电路布图设计保护条例》第7条，是指布图设计权利人享有的下列专有权：(1)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；(2)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投人商业利用。

【管辖】对于集成电路布图设计专有权权属纠纷案件的管辖，应当区别权属争议发生的原因即合同关系还是侵权行为，分别根据《民事诉讼法》及其司法解释有关合同和侵权案件的管辖规则来确定案件管辖。

如果由多人共同完成，我们国家的法律规定其专有权的归属由合作者约定；未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。

《集成电路布图设计保护条例实施细则》第十二条申请文件以书面形式申请布图设计登记的，应当向国家知识产权局提交布图设计登记申请表一式两份以及一份布图设计的复制件或者图样。

以国家知识产权局规定的其他形式申请布图设计登记的，应当符合规定的要求。

申请人委托专利代理机构向国家知识产权局申请布图设计登记和办理其他手续的，应当同时提交委托书，写明委托权限。

5.3.1集成电路布图设计专有权的内容与限制集成电路是一种微型电子器件或部件IC 芯片半导体芯片······集成电路：指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。

集成电路产业值1.5万亿美元，占比1.8% 全球GDP总额约83万亿美元＞$1000亿核心电子器件、高端通用芯片及基础软件产品集成电路中国制造2025集成电路布图设计：指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

集成电路布图设计开发费用一般要占到集成电路产品总投资的一半以上。

对于设计者来说，将巨量的电子元件布置在一小片半导体基片上，需要付出一定的创造性劳动。

搭便车者通过抄袭他人的布图设计，就能仿造出相同的产品，而其成本却比开发者要低得多。

《集成电路保护条例》：2001年3月通过；保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新。

集成电路布图设计权客体著作权客体—作品集成电路布图设计权客体不表现任何思想，同时也不以其艺术性作为法律保护的条件，因此不是著作权法意义上的图形作品或模型作品。

集成电路布图设计权客体专利权客体绝大部分集成电路产品缺乏作为专利保护的技术方案所必须的创造性。

只有极少数的集成电路产品能够获得专利权。

权利主体自然人法人其他组织权利主体自然人法人其他组织中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，或外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依法享有布图设计专有权。

外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，也可以享有布图设计专有权。

权利归属：布图设计专有权一般情况下属于布图设计创作者，但由法人或者其他组织主持，依据法人或者其他组织的意志而创作，并由法人或者其他组织承担责任的布图设计，该法人或者其他组织是创作者。

集成电路布图设计保护条例集成电路布图设计保护条例2001年3月28日国务院第３６次常务会议通过,2001年4月19日公布第一章总则第一条为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，制定本条例。

第二条本条例下列用语的含义：（一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

第三条中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。

外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。

第四条受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。

第五条本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。

第六条国务院知识产权行政部门依照本条例的规定，负责布图设计专有权的有关管理工作。

第二章布图设计专有权第七条布图设计权利人享有下列专有权：（一）对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；（二）将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。

1.简述集成电路设计的原创性要求。

（1）布图设计是其创造者⾃⼰的智⼒劳动成果，并且在其创作时在布图设计的创作者和集成电路制造者中不是常规的设计。

（2）由常规的多个元件和互连组合⽽成的布图设计，只有在其组合作为⼀个整体。

2.简述集成电路设计不能适⽤专利法保护的原因。

答：集成电路布图设计实质上是⼀种图形设计，但并⾮是⼯业品外观设计，不能适⽤专利法的保护。

其原因如下（1）布图设计并不取决于集成电路的外观，⽽决定于集成电路中具有电⼦功能的每⼀元件的实际位置。

（2）布图设计尽管需要专家的⼤量劳动，但设计⽅案不会有多⼤改变，其设计的主旨在于提⾼集成度、节约材料、降低能耗：，因此不具备创造性的专门要求。

（3）集成电路技术发展迅速，产品更新换代很快，其布图设计不适宜采⽤耗费时间较多的专利审批程序。

3.为什么说集成电路的布图设计不是著作权法意义上的图形作品或者造型艺术作品？ 答：集成电路布图设计是⼀种三维配置形态的图形设计，但不属于著作权法意义上的图形作品或造型艺术作品，因为：（1）图形作品是由⽂字、图形或符号构成的，‘是⼀定思想的表现形式，⽽布图设计则由电⼦元件及其连线所组成，它执⾏着某种电⼦功能，⽽不表现任何思想。

？（2）造型艺术作品基于其“艺术性D-⽽⾮”实⽤性“才受到著作权的保护，⽽布图设计是多个元件合理分布并相互关联的三维配置，是⼀种电⼦产品，不以其”艺术“性作为法律保护的条件。

（3）著作权保护期较长，如果将布图设计作为⼀般作品保护，不利于集成电路产业的发展。

4.简述布图设计专有权的权项。

答：根据国际条约及⼀些国家的⽴法来看，关于集成电路布图设计专有权的权项主要包括：①复制权，即专有权⼈重新制作含有布图设计的集成电路的权利；：它是布图设计专有权的⼀项最主要的权项。

⑧商业利⽤权，即专有权⼈为商业⽬的⽽利⽤布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。

它包括为商业⽬的的进⼝、销售或者以其他⽅式供销受保护的布图设计或者其中含有受保护的布图设计的集成电路，以及对含有布图设计的集成电路所构成物品的商业 5.简述布图设计专有权的取得⽅式。

集成电路典型案例
以下是一个关于集成电路的典型案例：
布图设计权纠纷案：
根据我国现行的《集成电路布图设计保护条例》及其实施细则，集成电路布图设计专有权人登记时应提交的材料包括布图设计的复制件或者图样及样品（已投入商业利用的）。

然而，条例并未明确规定三者之间的关系，也未要求专有权人明确其独创性的具体内容。

在一个具体的案例中，涉案专有权人登记时提交了样品，但其提交的复制件仅有两层金属层的图样。

这就引发了一个问题：如何确定涉案布图设计专有权的保护内容，是以图样为准还是以样品为准？
一审法院经过反复调研、论证得出的结论是，布图设计的保护方式虽然采取类似于版权保护独创性的制度设计，但由于其在本质上是一种技术方案，因而其保护内容应当体现促进技术公开的原则精神。

以上案例仅供参考，建议查阅关于集成电路的文献资料获取更多信息。

在立法、授权确权、行政保护、司法保护等方面的比较，结合相关数据和案例分析得知，我国集成电路布图设计法律保护存在立法位阶偏低、已有法律规范修订滞后，行政授权确权机制不健全，行政执法力量单一、行政制裁力度不够和刑事处罚措施缺失等问题。

从立法上提出制定单行法律、建立无效宣告制度、拓展行政执法管辖权、增加刑事处罚规定等建议，希望以此优化我国集成电路产业的发展环境、提升集成电路产业的创新能力和发展质量。

关键词：集成电路布图设计专有权授权确权行政保护司法保护建议中图分类号： G306 文献标识码：A0序言集成电路是当今信息技术产业高速发展的基础，已高度渗透到国民经济和社会发展的各个领域，其技术水平和发展规模已经成为衡量国家科技实力和综合国力的重要标志。

自国务院在2014年发布《国家集成电路产业发展推进纲要》以来，各项利好政策相继出台，我国集成电路产业快速发展。

据中国半导体行业协会统计，2020年我国集成电路产业销售额为8848亿元，同比增长17%1。

随着我国集成电路产业规模的不断扩大和研发水平的显著提升，集成电路仿制侵权现象越来越普遍，集成电路布图设计专有权权属纠纷、侵权纠纷等逐步增多，实践中集成电路布图设计权利人在维权时存在渠道少、成本高、效果差等困难，反映出长期以来我国集成电路布图设计保护机制的不健全。

在我国集成电路设计、制造等技术水平与国际先进水平存在较大差距、集成电路相关核心技术还存在“卡脖子”痛点的现实状况下，全面加强对集成电路布图设计的保护，以此优化我国集成电路产业的发展环境、提升集成电路产业的创新能力和发展质量实属刻不容缓。

2019年11月中共中央办公厅、国务院办公厅发布《关于强化知识产权保护的意见》（以下简称两办《意见》），明确提出要研究制定知识产权基础性法律的必要性和可行性，通过加大行政处罚力度和刑事打击力度等措施全面加强对包括集成电路布图设计专有权在内的知识产权侵权行为的惩戒力度。

基于两办《意见》的精神和我国集成电路产业创新发展的迫切需要，本文在将集成电路布图设计专有权与专利权保护制度进行比较的基础上，结合相关数据和案例分析我国集成电路布图设计法律保护存在的问题，并针对性地提出制定单行法律、建立无效宣告制度、拓展行政执法管辖权、增加刑事处罚规定等建议，希冀对我国集成电路布图设计法律保护制度的完善提供借鉴。

集成电路布图设计专有权保护范围的确定——“锂电池保护芯片”集成电路布图设计侵权案锂电池保护芯片是近年来电池行业重要组成部分之一，其保护性能直接关系到锂电池的使用寿命和安全性。

因此，锂电池保护芯片的布图设计被视为一项重要的技术创新和行业贡献。

然而，随着市场的竞争日益激烈，一些企业未经授权就利用他人的锂电池保护芯片布图设计进行生产和销售，侵犯了布图设计的专有权。

为保护创新和公平竞争，法律对集成电路布图设计的专有权进行规定，下面将以锂电池保护芯片布图设计侵权案为例，探讨其专有权保护范围的确定。

首先，根据《著作权法》和《集成电路布图设计条例》的规定，布图设计的保护范围应包括布图设计本身以及对其应用的实际电路，在理论功能和实际应用上均受到法律保护。

对于锂电池保护芯片布图设计，其保护范围应包括以下几方面：一、布图设计本身的保护锂电池保护芯片布图设计包括了电路结构、线路连接、元器件排布等多个方面，是一种抽象的设计方案。

它具有一定的创造性和智力成果，因此应享有版权保护。

与此同时，根据《集成电路布图设计条例》的规定，布图设计的保护范围应包括以下几个方面：电路结构的拓扑形状、元器件的排列组合、电路阻抗的调节、电路可靠性的改进等。

这些元素合起来构成布图设计的本质特征，是其享有版权保护的主要内容。

在准确界定保护范围时，应结合具体案例进行分析。

比如，若一家企业复制了另一家企业的锂电池保护芯片布图设计，并进行了一定的变形和修改，但其实际应用电路与原设计无异，那么其行为仍应视为侵权。

因为这种侵权行为已经涉及到了布图设计的实际应用，而不仅仅是在设计图纸上的复制行为。

因此，对于锂电池保护芯片布图设计的专有权保护，应综合考虑其理论创新和实际应用，避免过于僵硬划分保护范围而影响正常的技术交流和创新。

二、对其应用的实际电路的保护锂电池保护芯片的布图设计是为实际电路服务的，因此其保护范围也包括电路的实际应用。

具体来说，就是指在产品制造过程中所需要的电路信息，如板子的尺寸、元器件的型号和参数、线路的走向等，这些都由锂电池保护芯片的布图设计提供。

集成电路布图设计专有权保护的期限是多久
在现在关于集成电路也是有很多的保护政策的，在关于集成电路布图设计专有券商就有相关期限内收到保护的说法，所以，关于集成电路这⼀块我们还是要了解清楚了之后才能进⾏⾏事，下⾯就有店铺⼩编来为⼤家解决⼀下相关集成电路布图设计专有权的期限保护把，希望能够帮助到⼤家
集成电路布图设计专有权保护的期限是多久
布图设计专有权的保护期为10年，⾃布图设计登记申请之⽇或者在世界任何地⽅⾸次投⼊商业利⽤之⽇起计算，以较前⽇期为准。

《集成电路布图设计保护条例》第⼗⼀条　受委托创作的布图设计，其专有权的归属由委托⼈和受托⼈双⽅约定;未作约定或者约定不明的，其专有权由受托⼈享有。

第⼗⼆条　布图设计专有权的保护期为10年，⾃布图设计登记申请之⽇或者在世界任何地⽅⾸次投⼊商业利⽤之⽇起计算，以较前⽇期为准。

但是，⽆论是否登记或者投⼊商业利⽤，布图设计⾃创作完成之⽇起15年后，不再受本条例保护。

第⼗三条　布图设计专有权属于⾃然⼈的，该⾃然⼈死亡后，其专有权在本条例规定的保护期内依照继承法的规定转移。

布图设计专有权属于法⼈或者其他组织的，法⼈或者其他组织变更、终⽌后，其专有权在本条例规定的保护期内由承继其权利、义务的法⼈或者其他组织享有;没有承继其权利、义务的法⼈或者其他组织的，该布图设计进⼊公有领域。

在很多时候我们进⾏设计⼀向东西都是有相关设计权的，所以在进⾏设计的时候⼀定要关注涉及全，这些涉及全友的是受到保护的，有的没有受到保护，只有了解好了才能保护我们⾃⾝，以上就是店铺⼩编为⼤家在⽹上找到的相关知识了，如果您还有任何疑问，欢迎在本⽹进⾏律师咨询。