KI KL
=
(W/L)I (W/L)L
有比电路
27
5.2.4自举负载NMOS反相器 1. 结构和自举原理(续)
VDD
自举过程:
Vi 变为VOL ,MI截止,Vo上升,
MB
VGL随Vo上升(电容自举),
VGL ML
MB截止,ML逐渐由饱和进入
CB Vo 非饱和导通,上升速度加快。
自举结果:
Vi
MI
tr缩短,VOH可达到VDD。
18
思考题
1. 各种MOS反相器的结构有何不同?各 自的优缺点是什么? 2.各种MOS反相器的输出高低电平是多少? 分别受什么因素影响? 3.什么叫有比电路?什么叫无比电路? 4.各种MOS反相器的速度、功耗、噪声容 限分别受哪些因素影响?
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5.2.1 电阻负载NMOS反相器
1. 结构和工作原理
VDD MD
(1)VOH比可达到电源电压VDD (2)VOL与R有关,但是VTD是 关键的因素,近似于无比电路,
面积小。
Vi
Vo ME
(3)上升过程由于负载管由饱和
逐渐进入非饱和, tr缩短,速
度快。
33
5.2.6 CMOS反相器
1. 结构和工作原理 MP 为PMOS,VTP <0, MN 为NMOS,VTN >0
28
5.2.4自举负载NMOS反相器 2. 寄生电容与自举率
VDD
MB
VGL
ML
CO CB Vo
Vi
MI
由于寄生电容CO的存在:
VGL CO = VGSL CB
VGL = VGSL + Vo
自举率定义:
=
VGL Vo