(2)运动控制系统 Z轴上下移动机构
作用:改变作用及光强度和光斑直径
X/Y向移动和机构
作用:实现整个板面上孔的加工
(3)CO2激光钻孔光学系统
传递光路
反射镜 透镜
光阑(光圈) 半反半透镜X/YFra bibliotek向扫描用光学摆镜
远心物镜
(A)传递光路
☺多孔光阑
入射光线
多孔光阑
出射光线
(B)X/Y方向扫描用光学摆镜
2.各参数设定意义
(1)APERTURE(光径)/MASK(光圈)
定义: 光在进入扫描镜摆镜前经过一光阑盘,该盘上沿旋转中心等 距离但不同转动角度位置处分布有不同直径的光阑孔,通过转动光阑不 同直径的孔对准入射光束,达到输出不同直径大小光斑的目的.
(2) PULSEWIDTH(脉冲宽度) 定义:激光脉冲宽度表明激光波峰时间持续长短
525mm*95mm*3mm
HITACHI MITSUBISHI
四、镭射钻孔工艺操作及控制条件
1.镭射钻孔主要参数
(1)HITACHI
APERTURE(光径) PULSEWIDTH(脉冲宽度) SHOT(枪数) MODE(模式)
(2)MITSUBISHI
MASK(光圈) PULSEWIDTH(脉冲宽度) SHOT(枪数) B/C(模式)
材料逸出
3.UV成孔
利用紫外光线激光的化学能去破坏有机分子的分子键、 金属晶体的金属键和无机物的离子键,形成悬浮颗粒或原
子团、分子团或原子分子,在局部发生蓬松,配合真空吸 气作用,使小微粒极力从孔中逃逸,或被强制吸走形成孔。
激
激
激
光
光
光
激光照射
化学键撕裂
材料逸出