光学技术专利

专利名称：一种具有光学衍射层析成像功能的激光加工系统专利类型：发明专利
发明人：贾宝华,姚涛
申请号：CN202010876885.7
申请日：20200827
公开号：CN112008237A
公开日：
20201201
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供了一种具有光学衍射层析成像功能的激光加工系统，包括：集一体化设置的成像光路和加工光路；所述成像光路用于对待加工器件进行光学衍射层析成像；所述加工光路用于对所述待加工器件进行加工处理。

并且，介绍了具体的光路结构，该激光加工系统在对待加工器件进行加工的过程中，在不需要对待加工器件进行移位的情况下，还可以对待加工器件进行实时成像，也就是说，在一套激光加工系统中就可以同时实现对待加工器件的激光加工处理和成像处理。

申请人：伊诺福科光学技术有限公司
地址：澳大利亚维多利亚州博文北费迪南德大道38号
国籍：AU
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
代理人：李晓光
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基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述随着现代光学技术的日益发展，光学元件在各个领域中的应用越来越广泛，而光学元件表面质量对其性能和精度有着至关重要的影响。

传统的光学元件抛光方法一般使用研磨、抛光材料、气雾抛光等手段，这些方法不仅效率低、成本高，而且可能会对元件表面造成一定的伤害。

为了解决这些问题，磁流变抛光法应运而生。

本文将对基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术进行综述。

磁流变性材料又称磁流变液，是一种可以随着磁场强度变化而改变粘度的材料。

利用磁流变效应可以实现在磁场作用下松散的粘合剂或清洗剂与光学元件表面之间产生接触力，从而实现光学元件表面的抛光。

基于磁流变抛光法的光学元件抛光技术是利用磁流变性材料产生摩擦力来实现抛光的。

下面介绍几种基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术。

2. 磁流变复合抛光技术：该专利通过采用组合的方式，将磁流变液体与其他微粒材料（如氧化铝、碳化硅等）混合使用，在磁场的作用下，实现了对光学元件表面的抛光。

这种方法可以有效地规避单一磁流变液体对光学元件表面的轻微划痕，同时又能够维持磁流变液体的流动性，提高抛光效率和表面光洁度。

3. 磁流变加热（冷却）抛光法：该专利通过在磁流变液体中加入热敏性材料，利用材料在高温条件下产生凝胶状态，使磁流变液体具有更高的粘度，在磁场的作用下加热至一定温度下，实现对光学元件表面的抛光。

同时该专利还提出了将光学元件表面冷却至一定温度下进行抛光的方法，来实现更高的表面平整度和光洁度。

4. 磁流变抛光测控实时反馈系统：该专利提出了一种基于磁流变抛光的实时测控反馈系统，用于控制抛光机构的磁场强度和位置，以实现光学元件表面的实时抛光过程监控和调整。

系统采用了高精度的传感器和信号处理器来实现对光学元件表面形貌、表面粗糙度等参数的实时监测和调整，提高了抛光精度和效率。

总之，基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术具有抛光精度高、效率高、环保等优点，为光学元件制造提供了一种新的解决方案。

基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述磁流变抛光（MRF）是一种基于磁流变流体的技术，用于光学元件的抛光和表面改善。

它以其高效、精确和可控的特点，成为光学加工中不可或缺的一种手段。

本文将对磁流变抛光法的相关专利技术进行综述。

磁流变抛光法的原理是利用磁流变流体的流变特性实现对光学元件表面的精密抛光。

磁流变流体是一种可以根据外加磁场的强度和方向改变其流变特性的流体。

当磁场施加到磁流变流体上时，它的黏度和流动性会发生变化，从而可以实现对光学元件表面的精细抛光。

这种抛光方法既可用于玻璃、陶瓷等硬质材料的抛光，也可以用于软性材料的抛光。

磁流变抛光法的专利技术主要包括以下几个方面：1. 磁流变流体的制备技术：磁流变流体是磁流变抛光法的核心。

专利技术中涉及了磁流变流体的成分、比例和制备方法等。

一些专利技术提出了采用特定的胶体颗粒和稳定剂来制备高性能的磁流变流体。

2. 磁流变抛光机械装置：磁流变抛光需要一定的机械装置来施加磁场和控制磁流变流体的流动。

专利技术中提出了各种不同的磁流变抛光机械装置，如采用永磁体或电磁铁制造的磁极等。

3. 光学元件的抛光方法：磁流变抛光法可以用于不同类型的光学元件的抛光，如透镜、棱镜、反射镜等。

专利技术中介绍了不同的抛光方法，包括逐点抛光、逐面抛光、全表面抛光等。

这些方法在实际加工中可以根据元件的形状和要求进行选择。

4. 磁流变抛光工艺参数的优化：专利技术中还涉及了磁流变抛光的工艺参数的优化方法。

这些参数包括磁场强度、磁场方向、磁流变流体流量和压力等。

通过优化这些参数，可以实现对光学元件表面的高效、精确抛光。

磁流变抛光法的专利技术不仅应用于光学元件的抛光，还可以用于其他领域的表面改善。

磁流变抛光法可以用于金属材料的抛光、半导体材料的抛光和微机电系统(MEMS)器件的抛光等。

这些应用拓宽了磁流变抛光法的应用领域，也促进了磁流变抛光技术的持续发展和改进。

基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述磁流变抛光是一种采用磁流变液体作为磨料，在磁场作用下，通过改变磁场的强度和方向，实现对光学元件表面进行高效抛光的方法。

磁流变抛光技术在光学元件的制备过程中具有很大的潜力，并且在实际应用中已取得了显著的成果和效益。

本文将对基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术进行综述。

磁流变抛光技术的基本原理是利用磁场控制磁流变液体中磨料的分布和流动状态，从而实现对光学元件表面的抛光。

磁流变制动原理是通过施加磁场改变磁流变液体中磨料的粘度，从而实现对磨料的控制。

当施加磁场时，磁流变液体中的磨料会由于磁场的作用形成聚集区，实现对光学元件表面的高效抛光。

磁流变抛光技术在光学元件制备过程中具有很多优势。

磁流变抛光技术可以实现对光学元件表面的全面抛光，不仅可以去除表面的划痕和瑕疵，还可以改善表面的光洁度和平滑度，提高光学元件的质量。

磁流变抛光技术具有高效、快速的特点，可以在短时间内完成对光学元件的抛光，提高制造效率。

磁流变抛光技术还可以实现对光学元件的局部精密抛光，可以根据光学元件表面的不同要求进行定制化抛光，提高抛光的精度和一致性。

磁流变抛光技术已经得到了广泛的应用，并且在实际应用中取得了显著的成果。

我们可以在专利数据库中找到大量关于基于磁流变抛光法的光学元件抛光的专利技术。

这些专利技术涉及到了光学元件的种类、抛光方法和磁流变液体的配方等方面的内容。

一种基于磁流变抛光法的激光器光学元件抛光方法专利（专利号：CN110526314A）公开了一种基于磁流变抛光法的激光器光学元件抛光方法，该方法包括以下步骤：将磁流变液体倒入抛光设备中；将光学元件放置在磨盘上；施加磁场使磁流变液体产生磁流变效应；在磁场作用下，通过磨盘对光学元件进行抛光。

该方法可以实现对激光器光学元件表面的高效抛光，提高光学元件的质量和整体性能。

可见光红外光学系统的制作方法专利【导语】可见光红外光学系统在众多领域都有广泛应用，如天文学、遥感探测、军事观察等。

这类系统的制作方法涉及到精密的工艺和专利技术。

以下将详细介绍一种可见光红外光学系统的制作方法，供大家参考。

【正文】一、可见光红外光学系统的定义可见光红外光学系统是一种能够同时探测可见光和红外光的光学系统。

它通常由光学镜头、探测器、信号处理单元等部分组成。

二、制作方法1.设计光学系统根据应用需求，设计合适的光学系统。

光学系统应包括以下部分：（1）可见光通道：采用高折射率玻璃材料，设计为反射式或折射式光学系统。

（2）红外通道：采用低折射率玻璃材料，设计为反射式光学系统。

2.制造光学元件根据设计图纸，采用以下方法制造光学元件：（1）熔融石英铸造法：用于制造可见光和红外光学元件。

（2）金刚石车削法：用于制造高精度非球面光学元件。

（3）光学镀膜技术：在光学元件表面镀上一层或多层光学薄膜，以满足特定波长范围内的光学性能要求。

3.组装光学系统将制造好的光学元件按照设计要求组装成光学系统。

具体步骤如下：（1）清洁光学元件表面，确保无尘、无污染。

（2）采用光学粘合剂或机械固定方式，将光学元件组装成一体。

（3）调整光学系统，使其满足预定的光学性能指标。

4.调试与检测（1）对光学系统进行调试，确保其在可见光和红外波段都能正常工作。

（2）利用光学检测设备，如干涉仪、光栅光谱仪等，对光学系统进行性能检测。

（3）根据检测结果，对光学系统进行调整，直至满足应用要求。

三、专利技术本制作方法涉及以下专利技术：1.光学设计方法：采用优化算法，实现可见光和红外光的高效耦合。

2.光学元件制造技术：采用金刚石车削法制造高精度非球面光学元件。

3.光学镀膜技术：研发适用于可见光和红外波段的光学薄膜。

4.光学系统调试与检测技术：确保光学系统在可见光和红外波段具有优异性能。

四、应用领域本可见光红外光学系统制作方法可应用于以下领域：1.天文观测：用于探测宇宙中的可见光和红外辐射。

基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述
磁流变抛光（MRF）技术是一种利用磁流变液体对光学元件进行抛光的方法。

该方法在光学制造领域具有广泛的应用，可以用于抛光各种形状和材料的光学元件，如透镜、棱镜、平板等。

本文将综述基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术。

目前，磁流变抛光技术在光学元件抛光领域已经形成了一系列的专利技术。

这些专利
技术涉及到磁流变液体的制备方法、磁流变液体与光学元件的接触方式、磁流变液体的应
用压力控制等方面。

下面将分别介绍几个代表性的专利案例。

专利案例一：一种基于磁流变抛光法的平板光学元件抛光装置及方法。

该专利技术提
出了一种用于平板光学元件抛光的装置和方法。

该装置包括磁流变液体供给装置、磁场装
置和支撑平台等组件。

该方法通过控制磁流变液体的流动和磁场的作用，实现对平板光学
元件表面的抛光。

除了上述专利案例，还存在很多其他基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术。

这
些技术在提高光学元件制造效率、减小表面光学散射等方面具有重要的应用价值。

磁流变
抛光技术在实际应用中还存在一些需要解决的问题，如磁流变液体的稳定性、磁场的加工
精度等。

对于这些问题的解决将进一步推动磁流变抛光技术在光学制造领域的应用。

基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述随着光电子科技的迅猛发展，光学元件的制造技术也在不断向前发展。

在光学元件的制造过程中，抛光是一个非常重要的工艺步骤，影响着光学元件的表面质量、形状精度和光学性能。

传统的光学元件抛光方法存在着一定的局限性，而磁流变抛光法则是一种新型的抛光技术，其基于磁流变效应，可以实现对光学元件的高效抛光。

本文将从磁流变抛光技术的基本原理、应用现状以及相关专利技术进行综述，以期为相关领域的研究提供一定的参考和借鉴。

一、磁流变抛光技术的基本原理磁流变效应是指在磁场的作用下，磁流变材料的流变应力发生变化的效应。

磁流变材料是一类特殊的材料，当它处于磁场中时，可以通过改变磁场的强度和方向来控制其流变应力的大小和方向。

磁流变材料具有较高的灵活性和可调节性，因此在光学元件抛光中引入磁流变材料可以实现对抛光过程的精确控制。

磁流变抛光技术主要包括以下几个步骤：首先是将磁流变材料与磨削磨粉混合物混合，形成磨削液；然后将光学元件与磨削液放置在磁场中进行抛光，通过改变磁场的强度和方向来调节磁流变材料的流变应力，从而控制抛光过程中磨损的形态和速度；最后是清洗和表面处理，以获得最终的光学元件。

磁流变抛光技术的核心在于对磁流变材料的流变特性进行精确控制，在磁场的调节下实现对光学元件表面的高效抛光。

这种技术不仅可以有效减小表面的粗糙度，提高光学元件的光学性能，而且可以实现对光学元件形状的精确修整，满足不同光学器件对表面质量和形状精度的要求。

目前，磁流变抛光技术已在光学元件制造领域得到了较为广泛的应用。

以抛光镜片为例，磁流变抛光技术可以用于调整镜片的表面形貌、提高其光学性能，使得镜片在激光器、望远镜、测量仪器等领域具有更为优越的应用价值。

磁流变抛光技术还可用于对光学晶体的表面进行抛光。

晶体制品由于材料本身的特殊性，通常具有较强的吸湿性和易溶性，采用传统的抛光方法往往难以获得理想的抛光效果，而磁流变抛光技术的可控性可以在一定程度上解决这一难题，使得晶体表面的抛光更为精细。

光学频率梳专利技术简述0 前言光频梳的出现是超快光学与精密光谱学完美结合的产物，早在上世纪70年代，德国科学家T. W. H？覿nsch等人就提出了光频梳的概念，他们应用锁模染料激光器进行光谱学研究，发现该脉冲激光器能够共振激发出钠离子4d能级跃迁的精密谱线，进而验证锁模激光器的纵模是由一系列窄带频率梳齿所构成。

在此后的三十年里，基于超短脉冲的激光物理技术与基于窄线宽激光器的激光光谱学技术向着似乎不相关联的两个学科方向发展。

光频梳是一种由众多分立、频率间隔严格相等的频谱所组成的宽带光谱光源，它类似于一把剂量频率的尺子，因此也被成为光学频率尺。

基本原理是：脉冲激光器的输出在时域上为一系列等间隔的超短脉冲，脉冲宽度一般为几到几十飞秒，重复频率为MHz到GHz，由一系列等间隔光谱线组成的光梳，每个梳齿之间的间隔等于飞秒激光器的重复频率。

锁模激光器的输出脉冲可以看作是能量高度集中的波包，而且激光器锁定的纵模越多，脉冲宽度越窄。

由于激光腔内存在色散，导致载波在腔内往返一次后不能重现它与包络间原有的相对位相关系，因此相邻两个脉冲的载波与包络之间呈现相对位相差ΔΦ。

这个相移在频域上就对应于理想频梳的频率漂移δ=ΔΦfr/2π，根据频率梳的原理，每个梳齿对应的频率可以表示为：fn=nfr+δ。

1 专利统计分析1.1 全球和中国专利申请量趋势1990年之前，光频梳领域的专利申请量还比较少，美国国家标准技术研究院（NIST）的霍尔教授J. L. Hall和德国马普量子光学所（MPQ）的亨施教授T. W. H？覿nsch于2021年被授予了的诺贝尔物理学奖章，而逐渐开启了对光频梳的研究，全球专利申请量大幅增长，并呈现迅猛的递增趋势，上世纪90年代末，基于飞秒掺钛蓝宝石的激光频率梳的提出和实现使光频梳发生了革命性进展。

1.2 全球主要申请人及申请人分布区域国内光频梳的研究略晚于国际水平，约从2021年起申请量呈稳健递增模式，分析原因，因早起飞秒激光领域在国内发展并不是很成熟，近几年开始，国内的高校、研究所及相关企业的申请量日渐增多，在产生方法和应用领域上也逐渐多样化，到目前为止，我国有关光频梳领域的申请量已经居于世界前位，约占37%，其次是美国的18%和日本的16%。

专利名称：一种衍射光学元件及其制作方法、显示装置专利类型：发明专利
发明人：赵宇暄,张自应,孟祥峰,冒新宇
申请号：CN202010404790.5
申请日：20200514
公开号：CN111308598A
公开日：
20200619
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种衍射光学元件及其制作方法，用于将波导内传播的光线耦合出波导外，所述衍射光学元件包括本体，本体包括第一区域和第二区域，第一区域和第二区域间隔排布，第一区域使光线发生衍射而向波导外耦合出光，第二区域不使光线发生衍射，第二区域沿第一区域和第二区域排布方向的宽度小于传播光线沿该排布方向的光束宽度。

本衍射光学元件应用于将波导内传播的光线耦合出波导外，能够提高由波导不同位置耦合出光线能量的均匀性。

本发明还公开一种显示装置。

申请人：北京至格科技有限公司
地址：100700 北京市延庆区中关村延庆园风谷四路8号院27号楼2481
国籍：CN
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
代理人：王雨
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专利名称：光学镜头
专利类型：发明专利
发明人：王东方,姚波,谢前森申请号：CN201710637073.5申请日：20170731
公开号：CN109324384A
公开日：
20190212
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供了光学镜头。

该光学镜头从物侧到像侧依次包括：第一透镜，具有负光焦度和弯月形状，物侧面为凸面、像侧面为凹面；第二透镜，具有负光焦度和弯月形状，物侧面为凸面、像侧面为凹面；第三透镜，与第二透镜为胶合透镜，具有正光焦度和弯月形状，物侧面为凸面、像侧面为凹面；第四透镜，具有正光焦度和双凸形状，物侧面为凸面、像侧面为凸面；第五透镜，具有正光焦度和双凸形状，物侧面为凸面、像侧面为凸面；和第六透镜，具有负光焦度的弯月形状，物侧面为凹面、像侧面为凸面。

本发明提供的光学镜头通过优化设置各个透镜的形状并合理分配各个透镜的光焦度，可以在保持镜头小型化的同时实现高解像力、低像差、低成本以及较好的温度性能。

申请人：宁波舜宇车载光学技术有限公司
地址：315400 浙江省宁波市余姚市舜宇路66-68号
国籍：CN
代理机构：宁波理文知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
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专利名称：光学铰链
专利类型：发明专利
发明人：高天元,王志坚,陈智强,王晓曼申请号：CN200810051454.6
申请日：20081121
公开号：CN101408667A
公开日：
20090415
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：光学铰链属于光学检测技术领域。

现有多光轴检测技术必须使自准直平行光管的口径大于被检测的光轴之间距离，由于火炮身管与观瞄系统之间都有一定的距离，这就要求自准直平行光管的口径随光轴距离的增大而增大。

然而，平行光管的制造成本与口径之间呈三次方至四次方的正比关系，并且，当平行光管的口径增大到500mm时，加工难度非常高，制造过程复杂，周期长。

本发明之光学铰链结构为，由两节或者两节以上的直角棱镜组成，一节直角棱镜的出射面与下一节直角棱镜的入射面相对并光学同轴，两节相邻的直角棱镜彼此能够绕所述共同的光轴扭转，入射光的光轴与出射光的光轴平行。

本发明之光学铰链可以标定不同位置、不同间距、两条或者多条轴线之间的平行精度。

申请人：长春理工大学
地址：130022 吉林省长春市朝阳区卫星路7186号
国籍：CN
代理机构：长春科宇专利代理有限责任公司
代理人：曲博
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专利名称：自由曲面离轴三反光学系统专利类型：发明专利
发明人：侯威,朱钧,金国藩,范守善
申请号：CN201410756284.7
申请日：20141211
公开号：CN105739073A
公开日：
20160706
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明涉及一种自由曲面离轴三反光学系统，包括一主反射镜，设置在物方光线的出射光路上，用于将所述物方光线反射，形成一第一反射光；一次反射镜，设置在所述主反射镜的反射光路上，用于将所述第一反射光二次反射，形成一第二反射光，该次反射镜的反射面为一光阑面；一第三反射镜，设置在所述次反射镜的反射光路上，用于将所述第二反射光再次反射，形成一第三反射光；以及一图像传感器，位于所述第三反射镜的反射光路上，用于接收所述第三反射光，所述主反射镜以及第三反射镜的反射面均为一6次的xy多项式自由曲面，所述次反射镜为一球面，所述自由曲面离轴三反光学系统在y轴方向的视场角大于等于65°，在x轴方向的视场角大于等于0.8°。

申请人：清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
地址：100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
国籍：CN
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专利名称：微透镜及滤光片阵列的一体化集成光学元件及制作方法
专利类型：发明专利
发明人：赵嘉学,贺瑛攀,梁志清,刘子骥,郑兴,蒋亚东
申请号：CN202010455169.1
申请日：20200526
公开号：CN111562633A
公开日：
20200821
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了微透镜及滤光片阵列的一体化集成光学元件，包括依次设置的微透镜阵列、玻璃基板和滤光片阵列，微透镜阵列中的微透镜与滤光片阵列中的滤光片一一对应布置，微透镜阵列、玻璃基板和滤光片阵列一体成型。

本发明光学元件微透镜阵列和滤光片阵列直接一体成型的制备方式，不需要粘接，避免了因粘接造成的元件的损伤，并且不需要粘接对准这一工艺要求，让微透镜阵列和滤光片阵列直接一体成型，能省略现有技术中基板对准这一工艺步骤，提高了制备效率。

申请人：电子科技大学
地址：610000 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
国籍：CN
代理机构：成都行之专利代理事务所(普通合伙)
代理人：张超
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专利名称：光学元件制造方法、光束合成器制造方法及波导型光学组件
专利类型：发明专利
发明人：杨鑫,黄正宇
申请号：CN201910734651.6
申请日：20190809
公开号：CN112346246A
公开日：
20210209
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本公开涉及一种光学元件的制造方法，包括：提供一波导；利用激光器发射出激光；将所述激光分束成第一激光光束和第二激光光束；使所述第一激光光束汇聚到所述波导外的第一点，并出射到所述波导的耦入面上，进入所述波导内部；使所述第二激光光束穿过所述感光膜或感光板后汇聚到所述波导外的第二点；被汇聚到第一点并在波导内部全反射的第一激光光束与被汇聚到所述第二点的第二激光光束在所述感光膜或感光板的感光材料内部产生干涉曝光，获得体全息光学元件。

本公开的技术方案，针对传统视网膜成像光学显示技术中复杂的大体积光学组件问题，通过波导与体全息光学元件的组合，实现了紧凑的显示模组，在近眼AR和VR显示领域，具有重要的应用价值。

申请人：蒋晶
地址：102200 北京市昌平区中海尚湖世家A5-2-102
国籍：CN
代理机构：北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙)
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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201911310864.2(22)申请日 2019.12.18(71)申请人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所地址 130033 吉林省长春市东南湖大路3888号(72)发明人 金光　岳炜　徐伟　李宗轩　杨秀彬　陈高杰　(74)专利代理机构 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214代理人 朱红玲(51)Int.Cl.G02B 17/06(2006.01)G02B 17/02(2006.01)G02B 15/04(2006.01)G02B 26/00(2006.01)(54)发明名称一种共光路柔性离轴四反变焦距光学系统(57)摘要一种共光路柔性离轴四反变焦距光学系统，涉及航天光学遥感器技术领域，解决现有空间遥感相机对地观测的技术瓶颈，包括主镜、次镜、三镜和四镜；所述主镜作为固定镜相对于系统光轴固定，述次镜、三镜和四镜为三个可移动镜组成的全反射变焦系统；次镜为负光焦度反射镜，移动次镜，使次镜位于卡塞格林光学结构中；次镜为柔性变形镜，次镜的顶点沿系统的光轴方向移动；所述三镜和四镜均为正光焦度反射镜，三镜和四镜的顶点沿系统的光轴移动；光线依次经过主镜、次镜、三镜和四镜，最终在探测器的像面上成像。

本发明的全反射变焦系统实现光路共用。

并结合柔性变形镜校正系统像差，实现多通道光学系统的超轻量化。

权利要求书1页 说明书4页 附图3页CN 110989152 A 2020.04.10C N 110989152A1.一种共光路柔性离轴四反变焦距光学系统，该光学系统包括主镜、次镜、三镜和四镜；其特征是：所述主镜作为固定镜相对于系统光轴固定，所述次镜、三镜和四镜为三个可移动镜组成的全反射变焦系统；所述次镜为负光焦度的柔性变形镜，次镜的顶点沿系统的光轴方向移动；使所述次镜位于卡塞格林光学结构中；所述三镜和四镜均为正光焦度反射镜，所述三镜和四镜的顶点沿系统的光轴移动；光线依次经过主镜、次镜、三镜和四镜，最终的探测器的像面上成像。

专利名称：一种长焦距无热化星敏感器光学系统专利类型：实用新型专利
发明人：伍雁雄,谭海曙,曾亚光,王茗祎
申请号：CN201821651454.5
申请日：20181011
公开号：CN208937817U
公开日：
20190604
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本实用新型公开了一种长焦距无热化星敏感器光学系统，包括：孔径光阑、前透镜组、中透镜组、后透镜组和像平面，前透镜组包括第一透镜，孔径光阑位于第一透镜的前表面上，中透镜组包括第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜和第六透镜，后透镜组包括第七透镜和第八透镜，所述第一透镜、第三透镜、第六透镜和第八透镜的材质均为重火石玻璃，所述第二透镜、第四透镜和第五透镜的材质均为重冕玻璃，所述第七透镜的材质为冕牌玻璃；本实用新型采用常规玻璃材料实现不同温度下的像差平衡与设计，解决了长焦距光学系统容易受到温度变化产生热离焦像质下降的问题，成像质量良好，满足空间环境温度使用要求，降低了对星敏感器光学系统温度控制的要求。

申请人：佛山科学技术学院
地址：528000 广东省佛山市南海区狮山镇仙溪水库西路佛山科学技术学院
国籍：CN
代理机构：广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人：王国标
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专利名称：光学防抖音圈马达专利类型：发明专利
发明人：严振华
申请号：CN201810171148.X 申请日：20180301
公开号：CN108153081A
公开日：
20180612
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明涉及一种光学防抖音圈马达，其特征是：包括对焦线圈和主磁铁，主磁铁镶嵌在镜筒架的四边，主磁铁内侧面置有对焦线圈，构成沿光轴纵向运动的对焦驱动机构，所述对焦驱动机构连接有抖动补偿驱动机构，主磁铁与对焦线圈之间置有X轴防抖线圈和Y轴防抖线圈，X轴磁铁及Y轴磁铁共用主磁铁，两只X轴防抖线圈或两只Y轴防抖线圈相对设置，并串联构成X轴防抖线圈组或Y轴防抖线圈组，X轴防抖线圈组或Y轴防抖线圈组分别与对应的X轴磁铁组及Y轴磁铁组构成抖动补偿驱动机构。

有益效果：本发明以现有对焦功能的音圈马达的尺寸实现对焦功能及光学防抖功能于一体的相机模块，具有抗磁干扰能力强的特点，尤其适合于采用双摄像头，怕摄像头之间磁场干扰的情况。

申请人：天津迪思科博科技发展有限公司
地址：300222 天津市滨海新区(空港经济区)保航路1号航空产业支持中心645UU23房间
国籍：CN
代理机构：天津市三利专利商标代理有限公司
代理人：杨红
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专利名称：光学系统公差分析方法
专利类型：发明专利
发明人：吴洪波,张新,张建萍,王灵杰,史广维,赵尚男,付强申请号：CN202111553622.3
申请日：20211217
公开号：CN114326098A
公开日：
20220412
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供一种光学系统公差分析方法，包括以下步骤：S1、计算光学系统的PSF椭率；S2、根据PSF椭率对公差灵敏度进行分析，并完成公差分配；S3、生成M个含公差的光学系统随机样本；S4、分别计算每个随机样本中N个特征视场的PSF椭率，获得M×N个PSF椭率的计算结果；S5、对M个样本通过统计方法计算N个视场的PSF椭率的变化量；S6、根据所述PSF椭率的变化量对成像稳定性公差进行评价。

本发明构建的基于PSF椭率样本统计的公差分配评价方法，实现了基于PSF椭率的光学系统公差分析和分配，提高了光学系统公差分配精度和准确性。

申请人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
地址：130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
国籍：CN
代理机构：长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：郭婷
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专利名称：一种基于超构表面的超薄衍射光学元件专利类型：发明专利
发明人：张满,付小芳,唐勇,邓启凌,史立芳
申请号：CN201810464764.4
申请日：20180516
公开号：CN108646427A
公开日：
20181012
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种基于超构表面的超薄衍射光学元件，包括衍射光学元件本体，所述衍射元件本体为超薄平面结构，所述超薄平面结构的基底是玻璃材料，一面有二维纳米结构，所述二维纳米结构是不同方向排布的金属纳米棒，所述纳米棒的尺寸是纳米量级，方向角决定了纳米棒对光的相位调制，所述纳米棒的方向角对光相位的调制满足相位方程相位Φ在0～2π内发生变化，正负由入射光和透射光的偏振方向决定，入射光和出射光分别为右旋圆偏振和左旋圆偏振，则相位为正，入射光和出射光分别为左旋圆偏振和右旋圆偏振，则相位为负。

在相同衍射效果下，本发明的衍射光学元件的结构是二台阶的，元件更薄更简单，消除对称像，实现宽带成像。

申请人：中国科学院光电技术研究所
地址：610209 四川省成都市双流350信箱
国籍：CN
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