苏大维格 纳米压印

纳米压印工艺纳米压印工艺简介及应用前景纳米压印工艺是一种高精度的纳米制造方法，通过利用压印模板将其表面的纳米结构复制到另一个材料表面上。

这种工艺具有高效、低成本、高度可扩展性等特点，被广泛应用于纳米光学、纳米电子、光伏电池等领域。

纳米压印工艺最早起源于发展于1977年的微观加工技术，其最初应用于说明电子工艺中的半导体制作过程。

然而，随着纳米科技的兴起，纳米压印工艺被迅速发展和应用于纳米尺度的领域。

这种工艺主要通过两个步骤实现：压印和复制。

原材料（通常是聚合物或金属）被涂覆在基底上，形成一个相对较厚的涂层。

纳米结构的模板被放置在涂层上，并施加压力使其与模板的表面接触。

在这个过程中，纳米结构的模板上的图案将被压印到涂层上。

涂层被固化或通过其他手段凝固，从而保留模板上的纳米结构。

纳米压印工艺的应用领域非常广泛。

在纳米光学方面，它可以用于制造高效率的纳米结构表面，如纳米光栅、纳米棒和纳米孔等，用于改善光传输和收集效率。

这在太阳能电池、光传感器、光学通信等领域中具有重要应用。

纳米压印工艺也可以用于制造微电子器件。

通过在纳米压印过程中，将纳米材料压印到硅基底上，可以制作出高度集成的纳米电子器件，如纳米晶体管和纳米电路。

在生物医学领域，纳米压印工艺也发挥着重要作用。

例如，通过使用纳米压印工艺制作仿生结构模板，可以制造出高度仿真的体外组织模型，用于药物筛选和疾病治疗研究。

纳米压印工艺还可以制作纳米结构表面，用于细胞定位和生物分子识别。

纳米压印工艺的应用前景非常广阔。

随着纳米科技的不断发展，对高精度、低成本的纳米制造需求将不断增加。

纳米压印工艺的高效、精确和可扩展性使其成为满足这一需求的理想选择。

未来，随着制造技术的进一步改进和创新，纳米压印工艺有望在更多领域发挥作用，推动纳米科技的发展。

总之，纳米压印工艺是一种高精度、低成本、可扩展性强的纳米制造方法。

它在纳米光学、纳米电子、生物医学等领域都具有重要应用。

随着纳米科技的不断进步，纳米压印工艺的应用前景广阔。

引言——苏大维格技术创新进入“无人区”中国科技创新一直以来都是“有人区”复制太多，成本竞争激烈，而“无人区”真正的开拓创新太少。

苏大维格上市以来依托完全自主搭建的微纳制造平台，持续不断的通过技术创新进行“无人区”，光学防伪技术用于身份证，打破我国对国外技术依赖，在全球范围内率先实现Metalmesh导电膜量产，创造性的开发了纳米指向性背光膜。

公司的微纳制造技术是指精度在微米（1um=10-3毫米）、纳米（1nm=10-3um）级的超细微加工极端制造技术。

微纳制造是超材料研发生产的核心技术，超材料具备天然材料所不具备的特殊性质，而且这些性质主要来自人工设计的微纳结构。

图：微纳结构应用领域苏大维格的微纳制造创新平台，占据了全球下一代材料加工、制造创新的制高点，该技术应用范畴众多，平台将产生大量的创新应用、创新产品。

公司构建的多元技术壁垒国内其他企业难以跨越，其核心设备自主研发，不受制于国外的装备及零部件，并且技术与国际先进企业处于同一水平。

经过近几年的开拓创新，公司目已经在包装材料、公共防伪、导光膜、导电膜等四个领域形成了完整的产业化布局，并且在特种功能膜材料（热烫印膜）、LED纳米图形化衬底、OLED掩膜版、裸眼3D等领域拥储备了完善的技术。

公司现凭借NanoCrystal200纳米光刻设备，已经开始布局“超材料”领域的研发，其中基于NanoCrystal200生产的“纳米指向性背光膜”将应用于全息裸眼3D领域，解决百年来3D显示未解的视觉疲劳课题。

图：公司技术应用领域1.以超材料为基础的光场裸眼3D1)裸眼3D显示发展现状近年来VR/AR受到业界关注，Google、Facebook、微软等、阿里巴巴等巨头均重兵投入。

如果未来有什么技术可以颠覆现有显示形态，改变现有互联网生态，那就是VR/AR技术。

3D显示作为AR应用的关键技术，一直以来都受到业界高度关注，国际着名大学和企业不断加大了研发投入，在解决方案、关键材料、光学部件和视觉跟踪技术等方面，取得重要进步。

苏州大学信息光学工程研究所研究情况介绍苏州苏大维格光电科技股份有限公司（SVG Optronics）是在苏州大学信息光学工程研究所的基础上组建的企业，是苏州大学的下属企业。

即将于2010年10正式登陆创业板。

维格光电科技股份有限公司（SVG Optronics）作为世界上“干涉光刻”、“卷对卷纳米压印”技术的领先者，致力于微纳光学结构制造设备的生产、行业应用以及激光直写光刻技术的研发。

产品应用领域包括: 高级印刷包装、微光学应用、Displays、光学防伪、微米与纳米技术、MEMS 以及许多相关领域。

我公司现已发展成为集研发和制造并举的基于干涉光刻、精密图形化直写、微纳结构压印方面的领军型企业。

拥有行业最先进的研发条件、生产设施和一流的人才团队。

在微纳光学应用做出开创性工作：在定制化镭射薄膜材料、高端光学防伪器件、微纳光学制造设备和激光干涉光刻设备方面，形成规模化制造能力，成为中国具有自主知识产权的创新企业。

我公司的客户包括了全球以微米与纳米技术为研究方向的科技公司，以及在电子、防伪、信息技术和高档印刷包装方面最前沿的企业。

苏州苏大维格光电科技股份有限公司（SVG Optronics）是中国从事微纳光学制造、激光图像与全息包装、微光学薄膜产业化领域的技术领先性公司，也是中国规模最大的“定制化镭射转移材料”研发者和制造商。

拥有自主研发的激光干涉制版系统，掩膜制造设备、精密电铸制版系统，精密镭射图形模压，薄膜PMMA 涂层涂布，薄膜真空镀膜（金属化、介质），UV 纳米压印系统和激光转移（复合）纸张的设备。

目前，建成的定制化微结构光学薄膜的产能（1500 万平方米/月），通过ISO9001：2000 质量管理体系认证。

产品与业务领域：1、新型镭射转移材料（膜、纸）规模化与市场推广。

•定制化镭射薄膜（转移、烫金）•无缝镭射与光学转移薄膜•微纳光学薄膜2、光学防伪：中国高端安全防伪解决方案提供者。

•法律证卡系统•交通安全系统•金融安全系统3、微纳光学在先进显示与照明：具有表面微纳结构制造设备等完整研发、设计、打样和规模生产。

苏大维格光刻机的原理引言：苏大维格光刻机是一种常用于半导体制造工艺中的关键设备，它通过光刻技术实现对硅片上微米级结构的精确制作。

本文将介绍苏大维格光刻机的原理及其在半导体工艺中的应用。

一、光刻技术概述光刻技术是一种通过光敏感物质的光化学反应来制作微米级结构的方法。

在光刻过程中，光刻胶被涂覆在硅片表面，然后使用光刻机将光刻胶上的图案通过光源的照射进行显影、暴光、退火等处理，最终形成所需的微米级结构。

二、苏大维格光刻机的基本原理苏大维格光刻机采用的是投影式光刻技术，它的基本原理是通过将掩模上的图案投影到硅片上，利用光刻胶的光敏化反应将图案转移到硅片上。

1. 光源系统苏大维格光刻机采用的是紫外光源，通常使用的是高压汞灯。

高压汞灯的特点是光谱范围广，适用于不同的光刻胶材料。

2. 掩模系统掩模是光刻过程中起到图案传输作用的关键部件，它上面刻有所需的微米级图案。

苏大维格光刻机的掩模系统采用了高精度的掩模台，能够对掩模进行精确的定位和对准。

3. 投影系统苏大维格光刻机的投影系统采用了光学透镜和反射镜的组合，通过将掩模上的图案投影到硅片上。

投影系统的关键是保证光学系统的分辨率和光学畸变控制。

4. 显影系统在光刻胶上暴光后，需要进行显影处理。

苏大维格光刻机的显影系统采用了旋涂式显影装置，通过旋转硅片来实现显影剂的均匀覆盖和显影。

5. 定位系统苏大维格光刻机的定位系统采用了双重定位技术，即通过视觉定位和机械定位相结合的方式来实现对硅片和掩模的精确定位。

三、苏大维格光刻机在半导体工艺中的应用苏大维格光刻机在半导体工艺中有着广泛的应用，主要包括以下几个方面：1. 制作光刻胶图案苏大维格光刻机能够将掩模上的图案投影到光刻胶上，并通过显影、暴光等处理形成所需的微米级结构。

这些结构可以用于制作晶体管、电容器等微电子器件。

2. 制作光掩膜光掩膜是半导体工艺中常用的掩模，用于传输图案到硅片上。

苏大维格光刻机能够将掩模上的图案进行投影，通过显影、暴光等处理形成所需的图案。

纳米光波导苏大维格
纳米光波导是一种基于纳米尺度的光学器件，它可以将光束引导到非常小的空间范围内，从而实现高密度的光学集成和高速光通信。

苏大维格是一种特殊的纳米光波导，它是由苏联科学家苏大维格于1971年首次提出的。

苏大维格的基本结构是由两个平行的金属板之间夹着一层绝缘材料形成的。

当电磁波在这个结构中传播时，它会被限制在金属板之间的空间内，从而形成一个纵向的电磁场分布。

这个电磁场分布可以被看作是一种纵向的波导模式，因此苏大维格也被称为“平行板波导”。

苏大维格的优点是具有非常低的传输损耗和高的光场集中度，因此它可以用于光学传感、光学调制、光学存储等应用。

同时，苏大维格还可以与其他光学器件集成，形成复杂的光学系统，从而实现更加复杂的光学功能。

苏大维格的发明对于纳米光学的发展有着重要的意义，它为后来的纳米光波导的研究提供了基础和启示。

同时，苏大维格的研究也为光学器件的微纳加工提供了新的思路和方法。

一、引言2024年，苏大维格在微纳光学领域持续深耕，以技术创新为驱动力，实现了业绩的稳健增长。

本报告将对公司2024年度的经营情况、技术创新成果、市场拓展、未来发展规划等方面进行全面总结。

二、经营概况2024年，苏大维格实现营业收入1,523,328.35万元，同比增长约28.97%；归属于上市公司股东的净利润为74,562.47万元，同比增长约58.92%。

公司经营现金流净额为197,123.64万元，同比增长约57.84%。

这些成绩的取得，得益于公司全体员工的共同努力，以及市场对苏大维格品牌和产品的认可。

三、技术创新1. 核心设备研发：苏大维格持续加大研发投入，成功研发了激光直写光刻机和纳米压印光刻机等核心设备。

这些设备为公司构建了微纳光学研发与生产制造的技术平台体系，提高了生产效率和产品质量。

2. 产品创新：公司紧贴市场需求，推出了一系列创新产品，包括公共安全材料、新型印刷材料、高效导光材料、柔性透明导电膜、中大尺寸电容触控模组及纳米纹理光学材料等。

这些产品在多个应用领域实现了重大突破，进一步巩固了公司的市场地位。

3. 技术专利：公司高度重视知识产权保护，截至2024年底，已获得多项专利授权，为公司的技术创新提供了有力保障。

四、市场拓展1. 国内外市场：苏大维格积极拓展国内外市场，产品已广泛应用于消费电子、汽车、医疗、航空航天等领域。

在国内市场，公司已与多家知名企业建立了长期合作关系；在国际市场，公司产品已远销欧洲、美洲、亚洲等多个国家和地区。

2. 产业链上下游：公司积极拓展产业链上下游，与上游原材料供应商、下游客户建立了紧密合作关系，实现了产业链的协同发展。

五、社会责任1. 绿色发展：苏大维格高度重视环保和可持续发展，积极履行社会责任。

公司通过优化生产工艺、提高资源利用率等措施，降低了对环境的影响。

2. 员工关怀：公司关心员工成长，为员工提供良好的工作环境和福利待遇。

同时，公司注重员工培训，提高员工的综合素质。

纳米压印模板的制备方法和制备过程1. 简介纳米压印技术是一种将纳米级图案转移到基底上的方法，广泛应用于纳米电子学、光学、生物医学等领域。

纳米压印模板的制备是纳米压印技术的关键步骤之一，本文将介绍纳米压印模板的制备方法和具体制备过程。

2. 制备方法纳米压印模板的制备方法主要有两种：直接写入法和间接写入法。

2.1 直接写入法直接写入法是指通过电子束曝光或激光束曝光等直接将图案写入到模板材料上。

这种方法具有高分辨率和高精度的优点，适用于制备高质量的纳米压印模板。

2.1.1 电子束曝光法电子束曝光法是利用电子束照射模板材料表面，通过控制电子束的位置和强度来形成所需图案。

具体步骤如下： - 准备好待曝光的模板材料。

- 将模板材料放置在电子束曝光机中。

- 设计并输入图案信息到电子束曝光机中。

- 调整电子束的位置和强度，进行曝光。

- 完成曝光后，对模板材料进行显影、蚀刻等处理，得到最终的纳米压印模板。

2.1.2 激光束曝光法激光束曝光法是利用激光束照射模板材料表面，通过控制激光束的位置和强度来形成所需图案。

具体步骤如下： - 准备好待曝光的模板材料。

- 将模板材料放置在激光束曝光机中。

- 设计并输入图案信息到激光束曝光机中。

- 调整激光束的位置和强度，进行曝光。

- 完成曝光后，对模板材料进行显影、蚀刻等处理，得到最终的纳米压印模板。

2.2 间接写入法间接写入法是指通过制备一个原始模板，然后利用该原始模板制备出多个复制品作为纳米压印模板。

这种方法适用于大面积生产，并且可以降低制备成本。

2.2.1 纳米球自组装法纳米球自组装法是利用纳米颗粒在表面张力作用下自行排列成有序结构的方法。

具体步骤如下： - 准备好基底材料。

- 在基底上涂覆一层可溶于溶剂的聚合物薄膜。

- 将纳米颗粒悬浮液滴在聚合物薄膜上，使其自行排列成有序结构。

- 固化聚合物薄膜，形成原始模板。

- 利用原始模板制备出多个复制品作为纳米压印模板。

随着科技的进步和发展，人们从理论和实验研究中发现，当许多材料被加工为具有纳米尺度范围的形状时，会呈现出与大块材料完全不同的性质。

这些特异的性质向人们展现了令人兴奋的应用前景。

而在开发超大规模集成电路工艺技术的过程中，人们已经开发了一些能够进行纳米尺度加工的技术，例如电子束与X射线曝光，聚焦离子束加工，扫描探针刻蚀制技术等。

但这些技术的缺点是设备昂贵，产量低，因而产品价格高昂。

商用产品的生产必须是廉价的、操作简便的，可工业化批量生产的、高重复性的；对于纳米尺度的产品，还必须是能够保持它所特有的图形的精确度与分辩率。

针对这一挑战，美国“明尼苏达大学纳米结构实验室”从1995年开始进行了开创性的研究，他们提出并展示了一种叫作“纳米压印”(nanoimprint lithography) 的新技术[1]。

纳米材料在电子、光学、化工、陶瓷、生物和医药等诸多方面的重要应用而引起人们的高度重视.一纳米材料的概述：从分子识别、分子自组装、吸附分子与基底的相互关系、分子操作与分子器件的构筑，并通过具体的例证加以阐述，包括在STM 操作下单分子反应有机小分子在半导体表面的自指导生长; 多肽-半导体表面特异性选择结合.生物分子/无机纳米组装体、光驱动多组分三维结构组装体、DNA 分子机器。

所谓纳米材料指的是具有纳米量级从分1~100 nm 的晶态或非晶态超微粒构成的分子识别走向分子信息处理和自组织作用的固体物质。

纳米压印技术具有产量高、成本低和工艺简单的优点，是纳米尺寸电子器件的重要制作技术。

纳米压印技术主要包括热压印、紫外压印(含步进—闪光压印)和微接触印刷等。

本文首先描述了纳米压印技术的基本原理，然后介绍了传统纳米压印技术的新进展，如气压辅助纳米压印技术、激光辅助压印技术、静电辅助纳米压印技术、超声辅助纳米压印技术和滚轴式纳米压印技术等。

最后特别强调了纳米压印的产业化问题。

我们希望这篇综述能够引起国内工业界和学术界的关注，并致力于在中国发展纳米压印技术。

纳米光波导简介纳米光波导是一种新兴的光学技术，利用纳米级材料来传输和控制光信号。

它在信息传输、光电子学和传感器等领域具有广泛的应用前景。

本文将对纳米光波导的原理、制备方法以及应用进行全面、详细、完整和深入的探讨。

原理纳米光波导的工作原理是基于光的全反射现象。

当光从一个介质传输到另一个折射率较低的介质时，发生折射现象，而当入射角超过临界角时，光将完全反射回原介质中。

当折射率较低的介质尺寸缩小至纳米级别时，便可实现纳米光波导。

制备方法纳米光波导的制备方法多种多样，下面列举了几种常见的方法：1.光刻技术：通过光刻技术在介质表面制作纳米级别的结构，如微细凹槽或微孔，来实现纳米光波导。

2.拉伸法：将光纤或波导材料拉长，使其尺寸缩小至纳米级别。

这种方法可以在光波导材料的两端拉伸或是在中间引入局部收缩。

3.蒸镀法：通过蒸镀技术在纳米级基底上沉积薄膜，形成纳米光波导。

这种方法适用于制备金属、半导体或绝缘体的纳米光波导。

4.电子束曝光法：利用电子束的细微控制，在光敏材料表面制作微小的结构，从而实现纳米光波导。

应用纳米光波导具有广泛的应用领域，下面列举了几个常见的应用案例：1.光通信：纳米光波导可以实现高速、低损耗的光信号传输，可用于光纤通信系统中，提高数据传输速率和距离。

2.生物传感器：纳米光波导可以用于制备生物传感器，用于检测生物分子的存在和浓度。

通过改变纳米光波导表面的生物识别层，可以实现对特定生物分子的选择性检测。

3.光子集成电路：纳米光波导可以制作在芯片上，实现光子集成电路。

与传统的电子集成电路相比，光子集成电路具有更高的集成度和更快的数据传输速率。

4.激光器与光放大器：纳米光波导可以用于制备激光器和光放大器，用于光通信、光纤传感器等领域。

结论纳米光波导是一种新兴的光学技术，具有广泛的应用前景。

通过研究纳米光波导的原理和制备方法，可以更好地应用于光通信、生物传感器、光子集成电路和激光器等领域。

未来，纳米光波导技术还将不断发展，为我们的生活带来更多的便利和创新。

1.引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。

由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。

通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光刻比传统光刻方法大大降低了成本。

纳米压印光刻技术的研究始于普林斯顿大学纳米结构实验室Stephen Y.Chou教授，将一具有纳米图案的模版以机械力（高温、高压）在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案，其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关，而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制，目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。

由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设备的成本。

因此NIL技术具有低成本、高产出的经济优势。

此外，NIL 技术可应用的范围相当广泛，涵盖纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置（微混合器、微反应器），超高存储密度磁盘、微光学元件等领域。

2.纳米压印技术的基本原理和工艺近十年间，各种创新的NIL工艺的研究陆续开展，其实验结果越来越令人满意，目前大概可以归纳出四种代表技术：热压印光刻技术、紫外硬化压印光刻技术、软压印、激光辅助直接光刻技术。

2.1 热压印（HE－NIL）热压印的工艺包含下列步骤：①首先，利用电子束直写技术（EBDW）制作一片具有纳米图案的Si或SiO2模版，并且准备一片均匀涂布热塑性高分子光刻胶（通常以PMMA为主要材料）的硅基板。

②将硅基板上的光刻胶加热到玻璃转换温度（Glass Transfer Temperature）以上，利用机械力将模版压入高温软化的光刻胶层内，并且维持高温、高压一段时间，使热塑性高分子光刻胶填充到模版的纳米结构内。

③待光刻胶冷却固化成形之后，释放压力并且将模版脱离硅基板。

④最后对硅基板进行反应离子刻蚀（Reactive Ion Etching）去除残留的光刻胶，即可以复制出与模版等比例的纳米图案。