这是本人在三年前从事药物分析工作时，根据丁香园等各学术论坛总结的质量研究过程常遇到的问题及解决办法，并依据个人理解进行整理和修改。
现有技术指导可能会有变化，目的为提供给质量研究、注册、项目管理人员一些工作思路，整理人：郭晶涛整理时间：2013年1、我正在做一个胶囊的溶出度，初步确定用药典第三法，请问各位战友，药典第三法规定了仪器装置为搅拌浆，不可以改为转篮么？原因何在？取样点怎么确定？在设计时间点取溶出液时，吸取量有明确规定么？另外，药典规定“除另有规定，取样时间为45分钟，限度（Q）为标识量的70％”，如果达不到怎么办？谢谢！1、用转篮测定时，胶囊漂浮在转篮上面，利用桨法时，可以将胶囊固定在桨上（一般用细铁丝或细绳）；2、取样时间可以设为5、10、15、30、45、60分钟，吸取量根据你的溶出介质量定，一般取2ml或5ml；3、如果容出达不到限度要求，可以从溶出介质和制备工艺及处方因素考虑，一般可在溶出介质中加入表面活性剂（如十二烷基磺酸钠）。
因为胶囊都有上浮的现象,如果用转篮的话,胶囊回顶在转篮顶部不利于胶囊的崩解溶出,且,浆的转动力也比转篮的转动力强, 这样有利于胶囊的溶出.另外, 个人认为,胶囊崩解后,在沉降篮低部会出现辅料堆积, 浆叶转动产生的液体运动带动不了这些辅料的运动, 也许会影响溶出吧!2、在做溶出度试验时，检测方法为液相法，对照只配一个样品，共进两针，样品是每个溶出杯的一个样品，各进2针，这样算出每个杯的溶出度，可以吗？对照应配2个平行样，进样精密度好的话，可以双样单针。
样品只需要进单针就行了3、请教一下，现在做溶出均一性和溶出重现性有什么新要求吗？是不是均一性用一批做6片溶出曲线，重现性用3批每批6片做溶出曲线即可？对于仿制品，在处方工艺研究时，为了和对照药在各溶出介质下的溶出（或释放）曲线做f2因子比较时需做12片。
对均一性和重现性试验：均一性取某一批号下的样品6片进行试验，重现性取三个批号下的样品，每个批号各取6片进行试验。
4、各位战友：最近做的有几个品种的起始原料的有关物质分析方法开发时遇到几个问题，需请教：已知杂质不管色谱条件如何调整（现为纯水相，也试过加离子对试剂，调节pH等），都出在2-3分钟之间，空白溶剂基本无溶剂峰。
和其它各已知杂质及主峰均能良好分离。
峰型等也比较合适。
问题在：破坏试验时，酸碱氧的溶剂峰也都出在2-3分钟。
这样就会影响破坏时的回收计算等。
我想表达的是：找的条件必须要把破坏条件的溶剂峰避开吗？（当然，如果能避开的话我坑定避了，但现在这个确实有点难度对我来说），我实际在检样的时候是不加酸碱氧的，只有破坏时才涉及到。
破坏时候的酸碱中和后还有很大的溶剂峰？不太可能吧？顶多出现一点点，应该是可以带入计算的（除非是特别的检测器？）氧化确实会产生较大的溶剂峰，你可以采用硫代硫酸钠取中和过氧化氢（这样还能保护色谱柱）或者水浴破坏过氧化氢试试。
当然最好是能延长已知杂质的出峰时间，避免交叉。
祝你好运。
5、做有关物质液相分析方法验证，做到破坏性试验的时候，酸碱破坏时辅料会在2分多钟出几个连着的峰，分离度小于1，主峰在12分左右出峰，与其他峰分离良好，峰纯度很高，什么样的试验结果能通过验证？需要让所有产生的杂质分离开吗？第一,先确定是否是破坏产物(由空白实验对比)第二如果确定是破坏产物,那它是否影响你的已知杂质的定量,若不影响已知杂质的定量，是没有关系滴第三定量的话就是外标法与面积归一化法结果对比，相差不大就行如果确定是辅料产生的杂质就不属于受控杂质。
目前有关物质做方法验证需要参考国内外标准，尤其是国外药典标准（USP JP EP等），很多规定了已知杂质，想办法买到这些已知杂质，用这些已知杂质做定量限，单纯用主药成分做有关物质的定量限是不符合要求的。
6、最近做一项目，辅料出峰，而且和样品的杂质峰了，流动相中有机相比例5%已经很低，而且出峰在2min左右，各种原因，现在也不好改条件了。
而且处方也基本定了。
想要扣除辅料峰可以吗？要怎么扣呢，不同称样量辅料峰也就不一样了，若要对辅料定量，是不是要对辅料做个线性等定量分析呢？原则上来说，这种情况肯定是要改条件或者换辅料的。
如果辅料峰很大，是不能扣辅料峰来确定杂质峰面积的，因为是不准的。
只能说你的这个杂质如果为已知杂质或增长明显并可能会超标，你只有再建一个杂质检测方法了。
但如果你的这个杂质很小，比较稳定，且在报告限以下的话，就写明情况，再来个风险评估，应该可以不用管它了。
7、制剂重点关注降解杂质和制剂工艺中产生的杂质，其限度按照ICH相关规定制定。
原料带入的工艺杂质按照原料药质量标准规定的限度制定。
针对你这种情况，建议根据进口标准制定你的质量标准，制剂中规定的已知杂质一般为降解杂质，而且是稳定性过程中会增长的杂质，对于纯工艺杂质在原料中控制即可。
制剂的工艺杂质如果不是API的降解产物，何须控制呢？ICH里明确指出工艺杂质在API里已经得到控制，制剂中不需要控制，不计入总杂内。
你所需要检测的是制剂的降解产物。
只需要在方法开发初期，进行定位，保证方法的专属性就行了。
至于方法学，同样只需要做降解产物的方法学就够了。
8、问一个概念，表观含量，就是药典后面的那个杂质表观含量“对于表观含量在0.1％及其以上的杂质，以及表观含量在0.1％一下的具强烈生物作用的杂质或毒性杂质”他这句话是针对“新原料药”，“新制剂”中的杂质来讲的。
～～～～～～～～～～～～～～～～～所以，我理解的是：新药研究中，除了一些已知杂质（如起始原料、中间体、强降解产物）等，会存在一些未知杂质，那么只能用不加校正因子的主成分自身对照法，或者面积归一化法计算。
那么这个0.1％，就不一定是准确值，而只是一个表面现象，也即表观值。
9、纯度%=1－有关物质%－重金属%，请问这公式对吗？为何有的人说纯度%=1－有关物质%，难道重金属、炽灼残渣什么的不用扣除了吗？纯度=纯物质的质量/混合物的总质量×100% = 纯物质的质量/(纯物质的质量+杂质的质量) ×100%= 1- 杂质的质量分数含量=外标法计算出样品浓度*稀释倍数/称样量*（1-残渣-溶剂残留-水分）*100%含量计算考虑有机杂质和无机杂质及水分、溶剂，而纯度只是色谱峰纯度，主要针对有机化合物就是有关物质，计算时，没有考虑到无机物及溶剂。
无机物及溶剂的规定基本都是按照药典和指导原则来的，对大多数原料药基本上有一定的普适性。
而有关物质的研究，不同的原料，针对性不同，考虑工艺和降解途径等多个因素并结合稳定性等研究制定。
10、原料药有一个工艺杂质A，在原料药放行标准中已做了质控，原料药和制剂的稳定性考察结果是这个工艺杂质不会发生变化，请问该工艺杂质A是否只需在制剂质量标准中做定性，但是不需要报告？也就是工艺杂质A在制剂质量标准中不计入总杂？答：药品中的杂质按照来源可分为工艺杂质和降解产物，根据杂质研究技术指导原则，对于原料药，需要结合制备工艺及产品的结构特征等，对工艺杂质和降解产物进行研究及控制；而对于制剂，一般情况下，仅需要结合制剂处方工艺及原辅料相容性试验等，对降解产物进行研究及控制。
也就是说，除了降解产物和毒性物质外，已在原料药质量标准中控制，且在制剂生产及贮存过程中含量没有增加的杂质，制剂中一般可不再控制。
就本问题所言，杂质A为工艺杂质，已在原料药质量标准进行了控制，如杂质A为一般杂质，那么在制剂质量标准中不需要对其进行控制，即在计算降解产物总量时，不需要将其计算在内。
但需要强调的是，如杂质A为特殊毒性杂质或具有可疑结构的杂质，比如基因毒性杂质，则应将其在制剂质量标准中予以控制。
综上，在制剂质量标准中应包括以下降解产物检查项：每种特定的、已鉴定的降解产物，每种特定的、未鉴定的降解产物，任何不大于鉴定限度的非特定降解产物，降解产物总量。
11、今天跟领导讨论，ICH中制剂我的理解是原料药带入的有关物质不算杂质，也不计入总杂中，除非原料药中带入的有关物质增长到报告阈值以上，或是出现原料药中和辅料中没有出现的杂质才计入总杂，但我们领导说总杂也包括这些。
大家是怎么理解的？在ICH中的原文描述中，一般来说，存在于新原料药中的杂质在新药制剂中不需要进行监控或鉴别，除非他们也属于降解产物。
（Generally, impurities present in the new drug substance need not be mnitored or specified in the new drug product unless they are also degradation products.)在我原来做过的国外客户中（全球前十大制药公司之一），他们在制剂中的TotalDegradation是不包括原料药中的Impurities,除非impurity 增长超过报告限才算到Total Degradation.所以个人认为，原料药中的总杂是Total Impurities，而制剂中的总杂指的Total degradations，我个人理解是两个概念的。
在ICH原文中，这两个描述也是不同的。
12、在做溶出度验证时一般要做滤膜的吸附实验，请问你们一般是怎么做的？滤膜吸附验证方法有如下几种：1、如flyfire1103战友所说，取取溶出液过滤，舍去不同体积的初滤液1、2、3、5ml等不同体积，测定续滤液，观察并计算响应值的变化情况，了解药物与滤膜的吸附情况。
2、取样后，一部分不过滤，直接采用高速离心，去上清液测定，比较两种办法处理的溶液，考察两者间测定数据的差异。
3、取对照品溶液，经滤膜过滤后，与原对照品溶液进行比较，观察测定前后的数据变化情况。
上面三种方法你可以根据自己的样品和试验条件选择，最好选择两种以上的方法对滤膜吸附试验进行验证，这样做我们的试验才更具说服力。
13、我都一个项目是这样的：已知杂质与一中间体分的不是很开（已知杂质在前），紧邻的那种，但是没有影响到计算，分离度在1.2左右，分离度差点主要原因与未知杂质峰有点宽有关，如果特意的去积分，减少未知杂质的宽度，分离度可以达到2.0，不知道大家遇到这个问题怎么样解决，是调整条件达到分离度1.5呢，还是过得去就可以，方法验证的过程中要考察两者之间的分离度吗。
在我的印象中好像只要考察未知杂质与主峰的分离度就可以了另外做专属性的实验时，需不需要求各种破坏的杂质不干扰已知杂质呢，我们现在只要求不干扰主峰就可以了对于已知杂质，原则上一定要与主峰，以及其他未知杂质之间的分离度要达到要求的，否则，已知杂质如何进行相关研究？至于未知杂质间则无此要求，因为原则上在相应因子一致的情况下，分开不分开，其结果是一样的同时专属性研究的时候，与上述要求相一致14、已知杂质有6/7个，在当前的液相条件下分离度好，拖尾1左右。
