IC工艺和版图设计之栓锁效应与布局规则 PPT
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1 闩锁效应闩锁效应是指CMOS 器件所固有的寄生双极晶体管被触发导通,在电源和地之间存在一个低阻通路,大电流,导致电路无法正常工作,甚至烧毁电路2 闩锁效应机理2.1 器件级别上图1 CMOS 结构图如图1所示,CMOS 发生闩锁效应时,其中的NMOS 的有源区、P 衬底、N 阱、PMOS 的有源区构成一个n-p-n-p 的结构,即寄生晶体管,本质是寄生的两个双极晶体管的连接。
P 衬是NPN 的基极,也是PNP 的集电极,也就是NPN 的基极和PNP 的集电极是连着的;N 阱既是PNP 的基极,也是NPN 的集电极。
再因为P 衬底和N 阱带有一定的电阻,分别用R1和R2来表示。
当N 阱或者衬底上的电流足够大,使得R1或R2上的压降为0.7V ,就会是Q1或者Q2开启。
例如Q1开启,它会提供足够大的电流给R2,使得R2上的压降也达到0.7V ,这样R2也会开启,同时,又反馈电流提供给Q1,形成恶性循环,最后导致大部分的电流从VDD 直接通过寄生晶体管到GND ,而不是通过MOSFET 的沟道,这样栅压就不能控制电流1。
2.2 集总元件上图1中的寄生晶体管连接关系可以用集总元件来表示,如图2所示,其结构实际上是一个双端PNPN 结结构,如果再加上控制栅极 ,就组成门极触发的闸流管。
该结构具有如图3所示的负阻特性,该现象就称为闩锁效应(闩锁本是闸流管的专有名词)。
即双端PNPN 结在正向偏置条件下,器件开始处于正向阻断状态,当电压达到转折电压BF V 时,器件会经过负阻区由阻断状态进入导通状态.这种状态的转换,可以由电压触发(g I =0),也可以由门极电流触发(g I ≠O)。
门极触发大大降低了正向转折电压。
个条件。
在浓度上,由前面的论述可知,R 越小,越不容易发生闩锁效应,所以重掺杂可有效的减小闩锁效应的发生。
3.2 器件的结构SOI 结构有效的阻止了电子和空穴从源到地之间的通路,能从根本上消除闩锁的发生。
闩锁效应(latch up)闩锁效应(latch up)是CMOS必须注意的现象,latch我认为解释为回路更合适,大家以后看到latch up就联想到在NMOS与PMOS里面的回路,其实你就懂了一半了.为什么它这么重要?因为它会导致整个芯片的失效,所以latch up是QUAL测试的一种,并且与ESD(静电防护)紧密相关。
第一部分 latch up的原理我用一句最简单的话来概括,大家只要记住这句话就行了:latch-up是PNPN的连接,本质是两个寄生双载子transisitor的连接,每一个transistor的基极(base)与集极(collector)相连,也可以反过来说,每一个transistor的集极(collector)与另一个transistor的基极(base)相连,形成positive feedback loop(正回馈回路),下面我分别解释。
我们先复习什么是npn,如图1,在n端加正偏压,np之间的势垒就会降低,n端电子为主要载流子,于是电子就很开心地跑到p,其中有一部分电子跑得太开心了,中间的p又不够厚,于是就到pn的交界处,这时右边的n端是逆偏压,于是就很容易就过去了。
所以,左边的n为射极(emmiter,发射电子),中间P为基极(base),右边n为集极(collector,收集电子嘛)理解了npn,那么pnp就好办,如图2。
图2清楚的表示了latch up的回路。
左边是npn,右边是pnp,图3是电路示意图。
大家可以看出,P-sub既是npn的基极,又是pnp的集极;n-well既是既是pnp的基极,又是npn的集极,所以说,每一个transistor的集极(collector)与另一个transistor的基极(base)相连。
那么电流怎么走呢?比如在P+加5V-->电洞被从P+推到N well-->越过n well再到p sub-->这个时候,大家注意,电洞有两条路可走,一是跑到NMOS的N+,二是跑到旁边的Nwell,nwell比n+深,当然更好去,所以电洞又回去了。