电容屏ITO保护胶制程工艺

电容式触摸屏生产工艺
电容式触摸屏是一种常见的现代触摸屏技术，其生产工艺通常包括以下步骤：
1. 基材准备：选择适当的基材，通常是玻璃或塑料。

在玻璃上涂覆透明导电物质，如氧化铟锡（ITO），形成触摸层。

2. 涂布导电层：将ITO溶液通过印刷或涂覆技术均匀涂覆在
基材上，形成导电层。

然后通过加热或紫外线固化，使导电层附着在基材上。

3. 电容感应器：使用光刻和化学腐蚀技术，将导电层覆盖掉的区域进行处理，形成电容感应器的结构。

通常是将导电层分割成等大小的电容单元。

4. 绝缘层涂覆：在电容感应器上涂覆一层绝缘层，通常是氟化物或无机材料。

绝缘层的主要作用是防止触摸屏受到外界干扰和划伤。

5. 顶层涂覆：在绝缘层上涂覆一层光学透明的保护层，通常使用有机硅材料。

这一层的作用是保护触摸屏免受污染和划伤，并提供良好的触感。

6. 检验和测试：对生产的触摸屏进行检验和测试，确保其质量符合要求。

常见的测试包括触摸灵敏度、精度和稳定性等方面。

7. 组装和调试：将触摸屏与显示器或其他设备进行组装，并进
行相应的调试和校准，以确保触摸效果良好。

8. 包装和出货：将生产完成的触摸屏进行包装，并进行出货准备。

总而言之，电容式触摸屏的生产工艺涉及多个步骤，包括基材准备、涂布导电层、电容感应器制作、绝缘层涂覆、顶层涂覆、检验和测试、组装和调试以及包装和出货。

这些步骤需要精密的设备和技术，并且必须保证每个步骤的准确性和质量，才能生产出高品质的电容式触摸屏产品。

触摸屏工艺流程范文首先，触摸屏的制造需要准备一些主要的原材料，包括玻璃基板、ITO薄膜和粘合剂。

玻璃基板是触摸屏的主体，ITO薄膜用于制作导电层，粘合剂用于将玻璃基板和ITO薄膜粘合在一起。

接下来，进行印刷工艺。

首先，将玻璃基板进行清洗和去除静电处理，确保表面干净。

然后用印刷机将粘合剂均匀地喷涂在玻璃基板上，这将成为触摸屏的背面。

接着，将ITO薄膜通过印刷机进行印刷，形成导电层的图案。

这一步需要精确控制印刷参数，确保导电层的均匀性和导电性能。

印刷完成后，进行烧结工艺。

将印刷好的ITO薄膜和玻璃基板放入烤箱中进行高温烧结。

这一步的目的是将ITO薄膜和玻璃基板牢固地结合在一起，提高导电层的稳定性和耐久性。

烧结温度和时间需要根据具体的触摸屏规格和要求来决定。

烧结完成后，进行测试工艺。

触摸屏的各项性能参数需要进行严格的测试，包括导电性、透光性、抗刮伤性等。

这些测试可以通过专业的测试设备进行，以确保触摸屏的质量符合标准。

测试合格后，触摸屏将进行切边工艺，将其切割成合适的尺寸。

最后，进行包装和出厂。

触摸屏经过清洗、除尘等处理后，用保护材料包装好，并标注相关的规格和批次信息。

然后将触摸屏装箱运输至下游客户或终端用户。

总结一下，触摸屏工艺流程从原材料准备、印刷工艺、烧结工艺到测试、切边和包装等环节，涵盖了多个关键步骤。

这些步骤需要精确控制和严格操作，以确保生产出符合要求的触摸屏产品。

随着科技的不断进步，触摸屏工艺流程也在不断优化和改进，以提高生产效率和产品质量。

电容屏ITO丝印工艺流程第一步：ITO FILM参数规格：宽：406，410 厚度：188，175，125规格：单膜，双膜。

特性：单，双加硬防刮。

雾面防刮，雾面防牛等。

电容膜:日东，帝人，铃寅，LG等。

第二步：ITO GLASS参数规格：长宽：14*16 厚度：0.55，0.7，1.1规格：普通，钢化等，特性：AR(抗反射)，AG（防眩光），AS（防水防污），AF（防指纹）等电容玻璃：安可，冠华，正达，正太等。

第三步：缩水参数规格：让ITO FILM 定型，非导电层面需丝印整版保护胶。

第四步：清洗参数规格：将GLASS 表面的脏污，油污，杂质等去除并干燥。

第五步：耐酸油墨丝印参数规格：膜厚：8-12μM，350-420 目聚酯网或钢丝网乳剂膜厚：8-15μM耐酸油墨：田菱THS-09 热固型和THS-19 UV 型等。

第六步：过蚀刻线参数规格：酸度：3。

5-6.5MOL，温度：45±5 度，压力：1-2KG，速度：0.8-1.5M/MIN。

碱度：0.5-0.8MOL，温度：35±5 度，压力：1-2KG，速度：1.5-3.5M/MIN。

经纯水清洗，干燥。

第七步：保护胶丝印参数规格：膜厚：15-30μM，250-420 目聚酯网，乳剂膜厚：10-20μM保护胶：日本朝日，丰阳等，热固型。

第八步：银浆线丝印参数规格：膜厚：5-15μM，400-500 目钢丝网，18-16 线径，乳剂膜厚：6-12μM，银浆：日本朝日，丰阳等，热固型。

感光胶：田菱H-815，（具有高解像性，高精密等特性。

）第九步：组合参数规格：上下线组合胶：口字胶：透光率底OCA 光学胶：汽包多，但透光率高。

液态光学胶：技术要求高。

第十步：切割参数规格：大片半成品切割，激光处理成小片半成品。

第十一步：压合参数规格：小片半成品与FPC 及IC 绑定形成功能片第十二步：测试参数规格：功能片的功能测试。

如：线性测试，寿命测试，精度测试等。

电容屏ITO、银浆蚀刻设备⼯作原理电容屏ITO、银浆蚀刻设备⼯作原理触摸屏的⼴泛应⽤，ITO导电薄膜受到⼈们的重视。

⽽紫外激光的波长短、能量集中、分辨率⾼，因此在去除焊料外壳、在电⼦线路板上钻微孔、在薄膜或薄⽚材料中制作微通道、进⾏精密切割和对移动破碎站接等微加⼯领域具有⼴泛的应⽤，现在红外光纤也在这技术上得到很好的应该。

ITO薄膜激光刻蚀设备正是利⽤紫外激光器的⾼能量特性来对ITO薄膜进⾏冷加⼯处理，在薄膜表⾯制作微细的通道，完成图形的制备。

与传统的湿法光刻技术不同，它不需要事先在薄膜上⽤光刻胶形成掩模，既简化了⼯艺流程也不会造成环境污染。

本系统刻蚀的线宽在⼏⼗微⽶，属于激光微细加⼯技术的范畴。

在加⼯过程中由于激光能量的⾼斯分布特性，在物件划槽截⾯形状为椭圆或类三⾓形，影响了ITO导电薄膜的性能，进⽽制约了液晶显⽰⾏业的发展。

本加⼯设备中⾃⾏研制了⼀套激光微细加⼯的匀光系统，使激光能量分布均匀，呈现类似的平顶分布，很好地解决了上述问题。

与市场上已经成熟的光束整形器件相⽐，匀光系统有相对的优势。

供应:激光蚀刻银浆、光刻银浆、细线印刷银浆、导电碳浆、UV⾼透绝缘油.品牌有:韩国inktec、⽇本太阳油墨、美国ECM~欢迎来电~139******** QQ：598362644E-mail:*************匀光系统介绍这⾥所⽤的激光器提供波长为355 nm的紫外光源，该光源保证单模(TEM00)输出并且截⾯能量呈⾼斯分布；激光束⾸先经过扩束镜准直，使得光束的束腰直径增⼤，发散⾓减⼩。

扩束后的激光束垂直照射到匀光系统的⼈射⾯，经匀光系统分光后，激光束由进⼊前截⾯为圆形的⼀束激光束变为截⾯为半圆形的两束激光，并且这两束激光束平⾏射出；被分光后的两束激光经聚焦镜聚焦后各⾃的光斑相互接近，此时两个光斑的能量发⽣重叠形成⼼得光斑，随着两个光斑之间距离的接近，沿垂直半圆光斑直径的中⼼，叠加后的能量分布近似为平顶，如图1所⽰。

触摸屏制造工艺实战与难点[二]ITO 图形制备工艺[二]ITO 图形制备工艺透明导电氧化物薄膜主要包括号In、Zn、Sb和Cd的氧化物及其复合多元氧化物薄膜材料，具有禁带宽、可见光谱区光透射率高和电阻率低，对紫外线的吸收率大于85%,对红外线的反射率大于70%等特性。

透明导电薄膜以掺锡氧化铟（Indium TinOxinde）ITO为代表，广泛地应用于平板显示、太阳能电池、特殊功能窗口涂层及其它光电器件领域，它的特性是当厚度降到1800埃(1埃=10－10米)以下时会突然变得透明，透光率为80％，再薄下去透光率反而下降，到300埃厚度时又上升到80％。

ITO是所有电阻技术触屏及电容技术触摸屏都用到的主要材料，实际上电阻和电容技术触摸屏的工作面就是ITO涂层。

一、ITO的特性ITO就是在In2O3里掺入Sn后，Sn元素可以代替In2O3晶格中的In元素而以SnO2的形式存在，因为In2O3中的In元素是三价，形成SnO2时将贡献一个电子到导带上，同时在一定的缺氧状态下产生氧空穴，形成1020至1021cm-3的载流子浓度和10至30cm2/vs的迁移率。

这个机理提供了在10-4Ω.cm数量级的低薄膜电阻率，所以ITO薄膜具有半导体的导性能。

目前ITO膜层之电阻率一般在5*10-4左右，最好可达5*10-5，已接近金属的电阻率，在实际应用时，常以方块电阻来表征ITO的导电性能，ITO膜之透过率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例控制，增加氧化锢比例则可提高ITO之透过率，通常Sn2O3：In2O3=1：9因为氧化锡之厚度超过200?时，通常透明度已不够好--虽然导电性能很好。

如用是电流平行流经ITO脱层的情形，其中d为膜厚，I为电流，L1为在电流方向上膜厚层长度，L2为在垂直于电流方向上的膜层长主，当电流流过方形导电膜时，该层电阻R=PL1/dL2式中P 为导电膜之电阻率，对于给定膜层，P和d可视为定值，P/d，当L1=L2时，其正方形膜层，无论方块大小如何，其电阻均为定值P/d，此即方块电阻定义：R□=P/d，式中R□单位为：奥姆/□（Ω/□），由此可所出方块电阻与IOT膜层电阻率P和ITO膜厚d有关且ITO膜阻值越低，膜厚越大。

ito工艺流程ITO工艺流程是指将ITO膜作为导电膜，通过一系列的加工步骤制备成特定形状和规格的ITO玻璃或ITO膜。

ITO是氧化铟锡的简称，具有良好的导电性和光透过性，广泛应用于LCD、触摸屏、太阳能电池等领域。

ITO工艺流程主要包括ITO膜涂布、光刻、腐蚀、清洗等步骤。

首先是ITO膜涂布，将ITO溶液通过特定的方法涂布在基底材料上，形成薄膜。

涂布过程需要控制好涂布头的喷雾粒径和速度，以及基底材料的表面状况，以保证涂布后的膜质量。

接下来就是光刻步骤，将ITO膜上的光刻胶涂覆在膜上，并利用光刻机将图案光刻到光刻胶上。

光刻胶的选择很关键，它需要满足良好的光刻性能和较高的耐蚀性。

光刻胶暴露后，通过曝光、显影等步骤，将需要保留的图案暴露出来，形成光刻胶模版。

然后是腐蚀步骤，将暴露在光刻胶模版上的ITO膜部分进行腐蚀。

腐蚀可以选择湿法腐蚀或干法腐蚀两种方式，湿法腐蚀一般采用酸性溶液进行，干法腐蚀则通过离子束刻蚀等方式进行。

腐蚀后，光刻胶模版可被去除，暴露出ITO膜的导电区域。

最后就是清洗步骤，将ITO膜表面的光刻胶残留物和腐蚀产物进行清洗。

清洗过程采用有机溶剂、超纯水或酸碱溶液进行，以确保膜表面的清洁度和平整度。

清洗后即可得到满足要求的ITO玻璃或ITO膜。

整个ITO工艺流程中，涂布、光刻和腐蚀是关键步骤，其中涂布和光刻的参数控制直接影响着膜的质量和性能。

涂布时要注意涂布头的均匀性和稳定性，避免出现表面不均匀、厚度不一的情况。

光刻时要保证光刻胶的厚度和质量，以及光刻机的曝光、显影参数的准确控制。

腐蚀时需要选择合适的腐蚀剂和腐蚀时间，以保证腐蚀均匀性和腐蚀深度的控制。

总的来说，ITO工艺流程是将ITO膜加工成特定形状和规格的过程，涵盖了涂布、光刻、腐蚀、清洗等步骤。

这些步骤的参数控制和质量保证对最后的ITO玻璃或ITO膜的性能有着重要影响，因此工艺的优化和改进是提高产品质量和工艺效率的关键。