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2024年激光直接成像（LDI）设备市场前景分析引言激光直接成像（Laser Direct Imaging，LDI）是一种通过使用激光光源直接将图像转移到PCB（Printed Circuit Board，印刷电路板）上的技术。
随着电子产品的不断发展和更新，LDI技术在PCB制造行业中的应用越来越广泛。
本文将对激光直接成像（LDI）设备市场的前景进行分析。
1. LDI设备市场现状目前，全球LDI设备市场正在快速增长。
随着电子行业对更高性能和更复杂电路板的需求不断增长，传统的光刻技术已经无法满足这些需求。
LDI作为一种非常有效的替代技术，成为了电子制造商的首选。
2. LDI设备市场的驱动因素LDI设备市场的增长受到多个驱动因素的影响。
首先，随着电子设备的微型化和多功能化，印刷电路板上的线路和元器件变得越来越紧凑，要求更高的精度和分辨率。
LDI技术可以提供比传统光刻技术更高的分辨率和精度，满足现代电子产品的要求。
其次，传统的光刻技术需要使用光罩，而LDI技术不需要光罩制造，因此可以节省制造成本和时间。
这使得LDI技术对制造商更加吸引，提高了LDI设备市场的需求。
另外，LDI技术具有更好的灵活性和适应性。
它可以在几乎任何类型的基板上进行图像转移，包括薄膜和曲面基板。
这使得LDI设备市场的应用范围更广，满足了不同制造需求的需求。
3. LDI设备市场的发展趋势未来几年，LDI设备市场有望保持强劲增长。
首先，随着新一代电子产品的不断涌现，对高性能和高精度PCB的需求将继续增长，这将推动LDI设备市场的发展。
其次，随着人们对可持续发展和环保的关注，传统光刻技术所产生的废液和废气问题成为了制造商关注的焦点。
LDI技术可以减少或消除这些废物的产生，因此更环保。
这将使得LDI设备市场在环保产业中的地位提升。
另外，LDI技术的研发和创新也将推动市场的发展。
目前，研究人员正在努力改进LDI设备的分辨率、速度和精度，以满足不断提高的要求。
中国光刻机行业市场现状、行业格局及发展趋势分析光刻技术指利用光学-化学反应原理，将电路图转移到晶圆表面的工艺技术，光刻机是光刻工序中的一种投影曝光系统。
其包括光源、光学镜片、对准系统等。
在制造过程中，通过投射光束，穿过掩膜板和光学镜片照射涂敷在基底上的光敏性光刻胶，经过显影后可以将电路图最终转移到硅晶圆上。
一、市场现状及行业格局光刻机分为无掩模光刻机和有掩模光刻机。
（1）无掩模光刻机可分为电子束直写光刻机、离子束直写光刻机、激光直写光刻机。
电子束直写光刻机可以用于高分辨率掩模版以及集成电路原型验证芯片等的制造，激光直写光刻机一般是用于小批量特定芯片的制造。
（2）有掩模光刻机分为接触/接近式光刻机和投影式光刻机。
接触式光刻和接近式光刻机出现的时期较早，投影光刻机技术更加先进，图形比例不需要为1:1，减低了掩膜板制作成本，目前在先进制程中广泛使用。
随着曝光光源的改进，光刻机工艺技术节点不断缩小。
光刻设备从光源（从最初的g-Line，i-Line发展到EUV）、曝光方式（从接触式到步进式，从干式投影到浸没式投影）不断进行着改进。
目前光刻机主要可以分为IC前道制造光刻机（市场主流）、IC后道先进封装光刻机、LED/MEMS/PowerDevices制造用光刻机以及面板光刻机。
其中IC前道光刻机需求量和价值量都最高，但是技术难度最大。
而封装光刻机对于光刻的精度要求低于前道光刻要求，面板光刻机主要用在薄膜晶体管制造中，与IC前道光刻机相比技术难度更低。
IC前道光刻机技术最为复杂，光刻工艺是IC制造的核心环节也是占用时间比最大的步骤，光刻机是目前晶圆制造产线中成本最高的半导体设备。
光刻设备约占晶圆生产线设备成本27%，光刻工艺占芯片制造时间40%-50%。
高精度EUV光刻机的使用将使die和wafer的成本进一步减小，但是设备本身成本也会增长。
光刻设备量价齐升带动光刻设备市场不断增长。
一方面，随着芯片制程的不断升级，IC前道光刻机价格不断攀升。
2024年激光直接成像（LDI）设备市场分析现状引言激光直接成像（LDI）设备是一种先进的成像技术，它利用激光束直接将图像投射到成像介质上，而无需光学透镜或透明介质。
近年来，随着激光技术的不断发展和应用领域的拓宽，激光直接成像设备在市场中的地位逐渐上升。
本文将对激光直接成像设备市场的现状进行分析。
1. 市场规模与增长趋势激光直接成像设备市场在过去几年中呈现出稳步增长的趋势。
据市场研究数据显示，2018年全球激光直接成像设备市场规模达到XX亿美元，并预计未来几年将保持较高的增长率。
这主要得益于激光直接成像设备在各行业中的广泛应用和不断增长的需求。
2. 应用领域分析激光直接成像设备在多个领域中都有广泛的应用，其中包括印刷、电子制造、医疗、航空航天等。
在印刷行业中，激光直接成像设备能够实现高精度和高速度的图像传输，提高印刷品的质量和生产效率。
在电子制造行业中，激光直接成像设备可用于印制电路板和电子元件的制造，实现精确的图案转移。
在医疗领域中，激光直接成像设备可以用于激光手术、皮肤治疗和靶向药物释放等方面。
航空航天领域中，激光直接成像设备可用于航空器维修和航天器检测等。
3. 市场竞争格局激光直接成像设备市场存在着激烈的竞争。
目前，市场上存在着多家知名厂商，包括XX公司、XX公司和XX公司等。
这些公司不仅具有先进的技术研发能力，还拥有广泛的应用领域和市场渠道。
此外，新进入者也在市场上崭露头角，他们通过技术创新和差异化竞争策略来争取市场份额。
4. 持续创新与发展为了在市场中保持竞争优势，激光直接成像设备厂商需要不断进行创新和提升技术水平。
当前，激光直接成像设备市场的技术研发主要集中在以下几个方面：提高成像质量和效率、降低成本、拓宽适用领域和开发新型应用。
此外，与其他相关技术的集成和协同也是激光直接成像设备未来发展的重要方向。
结论激光直接成像（LDI）设备市场在近年来持续发展，并呈现出较高的增长趋势。
其广泛的应用领域和不断增长的需求，使得市场规模不断扩大。
光刻机行业研究报告光刻机行业研究报告的编写通常包括以下步骤：行业概述：首先需要介绍光刻机行业的背景和概况，包括行业的定义、主要产品和服务、市场规模、产业链结构、行业发展趋势等。
市场分析：对光刻机市场的需求和供给进行分析，包括市场规模、增长趋势、主要参与者、竞争格局等。
同时需要对市场进行细分，分析不同类型光刻机的市场需求和竞争状况。
技术分析：对光刻机涉及的关键技术进行分析，包括光学技术、精密机械技术、电子控制技术等。
需要介绍这些技术的原理、发展现状以及在光刻机中的应用。
产业链分析：对光刻机行业的产业链进行分析，包括原材料供应、零部件制造、组装调试、销售服务等环节。
需要分析各环节的市场规模、成本结构、利润水平等，以及与上下游产业的关系和对行业的影响。
竞争分析：对光刻机行业的竞争对手进行分析，包括主要竞争对手的概况、市场份额、产品特点、市场策略等。
需要通过对比竞争对手和行业平均水平，分析企业在市场中的优劣势以及需要改进的方面。
风险分析：对光刻机行业的发展风险进行分析，包括政策风险、技术风险、市场风险等。
需要针对各种风险因素进行深入剖析，并提出相应的应对策略和措施。
发展建议：根据前面的分析结果，提出针对光刻机行业的发展建议，包括技术研发、市场拓展、人才培养等方面。
同时需要对政府和企业提出具体的政策建议和措施，以推动行业的健康发展。
结论：总结前面的分析结果，得出结论。
需要简洁明了地概括光刻机行业的发展趋势和未来发展方向，同时指出未来研究的重要性和意义。
范文：标题：2023年光刻机行业研究报告一、引言光刻机作为半导体制造过程中的核心设备，对半导体产业的发展具有重要意义。
本报告旨在对光刻机行业的市场规模、竞争格局、发展趋势等方面进行深入分析，为相关企业、投资者和政府部门提供决策参考。
二、市场规模与增长趋势1.市场规模：根据市场调研数据，2022年全球光刻机市场规模约为XX亿美元，较2021年增长约XX%。
2.增长趋势：随着半导体技术的不断进步和应用领域的不断拓展，光刻机市场将继续保持快速增长。
2023年激光直接成像（LDI）设备行业市场分析现状激光直接成像（LDI）设备是一种用于印刷电路板制造的高精度光刻设备。
它通过使用激光直接在显影剂层上进行曝光，而不需要使用光掩膜，从而提供了更高的分辨率和更短的制造周期。
目前，LDI设备市场正在经历快速增长，这主要是由于电子产品的增长和不断提高的技术要求推动的。
随着电子产品的不断更新和迭代，对电路板的要求也越来越高，需要更高的分辨率、更短的制造周期和更低的生产成本。
而LDI设备正好能够满足这些需求，因此越来越多的电子制造企业开始采用LDI设备。
另外，随着5G技术的快速发展，电子产品对高速、高频率电路板的需求也在增加，这对LDI设备提出了更高的要求。
同时，LDI设备也逐渐发展出了更多的应用领域，比如半导体封装、柔性电子等，进一步推动了市场的增长。
在市场竞争方面，目前LDI设备市场存在着几个主要的厂商，如日本的日立、CANON、SCREEN、美国的ITW、中国的鹏鹞等。
这些厂商在技术研发、质量控制和市场渠道等方面都具有一定的优势，形成了一定的竞争格局。
然而，LDI设备市场也面临一些挑战和问题。
首先，LDI设备的价格较高，需要较大的投资成本，这对一些中小型电子制造企业来说可能是一个阻碍。
其次，LDI设备的技术要求较高，需要具备专业的技术人员进行操作和维护。
此外，由于LDI设备的应用领域相对较窄，市场规模有限。
因此，厂商需要加大技术研发力度，不断开拓新的应用领域，以提升市场竞争能力。
综上所述，激光直接成像（LDI）设备市场正处于快速增长阶段，受到电子产品的增长和技术要求提高的推动。
市场竞争主要集中在几个大型厂商之间。
然而，市场仍然面临一些挑战和问题，需要厂商加大技术研发力度，不断拓展新的应用领域，以保持市场竞争优势。
2023年激光直接成像（LDI）设备行业市场规模分析激光直接成像（LDI）设备是一种现代的图像印刷技术，采用激光直接烧写图像于平面材料（如印刷电路板、电子产品表面、高密度介质等），具有高精度、高速度、高效率的特点。
其作为一种先进的图像印刷/制造技术广泛应用于电子、半导体、微电子、光电子、航空制造等行业。
市场规模目前，激光直接成像（LDI）设备市场规模不断扩大并且在未来几年将继续增长。
按照市场研究机构的数据，激光直接成像设备市场规模预计将从2015年的10亿美元增长到2020年的16亿美元，其中半导体和电子行业是使用LDI设备的主要市场。
在半导体和电子行业中，激光直接成像设备主要用于制造印刷电路板（PCB）、集成电路和微处理器。
这些产品在整个电子产业中扮演着至关重要的角色。
据预测，在未来5年中，半导体和电子制造业将成为激光直接成像设备市场的主要驱动力。
另外，在医疗行业、航空制造和汽车行业等应用领域，激光直接成像设备也有着广泛的应用。
这些领域的需求将增加市场的需求，为激光直接成像设备市场的快速增长提供支持。
发展趋势从市场规模发展趋势上看，未来几年内，激光直接成像设备市场将会经历以下变化：1. 高精度、高速度和多元化的需求将继续增长，从而进一步推动激光直接成像设备市场的发展。
2. 随着自动化、智能化技术的发展，自动化生产线与激光直接成像系统的整合将大幅度提高生产效率，并对LDI设备市场的发展起到刺激作用。
3. 激光直接成像技术不断发展，设备的性能提升和价格下降将引发市场份额的变化。
除此之外，不断增加的应用领域也将推动LDI设备的市场发展。
结论总体而言，激光直接成像（LDI）设备市场潜力巨大，并且处于快速增长的发展阶段。
从目前市场需求情况来看，该领域的市场规模将会不断扩大。
未来，随着科技的快速发展，激光直接成像设备将会更好地满足市场需求，成为电子行业和制造行业的重要技术和设备之一。
２０２０年光刻胶行业深度分析报告正文目录1. 光刻胶是电子制造重要材料 (7)1.1. 光刻胶广泛应用于电子行业 (7)1.2. 光刻胶是半导体制程技术进步的“燃料” (11)1.3. 光刻胶是面板制造的重要原料 (17)1.4. PCB是光刻胶应用的场景之一 (20)2. 光刻胶市场潜力巨大 (22)2.1. 中国半导体材料市场稳步增长 (22)2.2. 光刻胶是重要半导体材料 (23)2.3. 政策引导，半导体材料将重点发展 (24)2.4. 中国光刻胶市场空间广阔 (25)2.4.1. 中国大陆晶圆厂产能持续扩张 (25)2.4.2. 中国大陆显示面板市场方兴未艾 (27)2.4.3. 中国占据全球PCB产能半壁江山 (28)2.4.4. 产能扩张推动光刻胶市场规模增长 (29)3. 光刻胶材料制备壁垒高 (32)3.1. 技术壁垒 (32)3.2. 客户认证壁垒 (33)3.3. 规模和资金壁垒 (33)3.4. 资质壁垒 (33)4. 光刻胶国产替代势在必行 (34)4.1. 全球光刻胶市场寡头垄断 (36)4.1.1. 日本合成橡胶(JSR) (36)4.1.2. 东京应化 (37)4.1.3. 罗门哈斯-陶氏-杜邦 (37)4.1.4. 信越化学 (38)4.1.5. 富士胶片 (38)4.2. 中国光刻胶公司 (39)4.3. 光刻胶相关A股上市公司 (40)4.3.1. 南大光电 (40)4.3.2. 雅克科技 (42)4.3.3. 上海新阳 (43)4.3.4. 晶瑞股份 (44)4.3.5. 容大感光 (46)4.3.6. 飞凯材料 (48)4.3.7. 永太科技 (49)4.3.8. 江化微 (50)4.3.9. 强力新材 (51)4.4. 光刻胶相关非上市公司 (53)4.4.1. 北京科华微电子 (53)4.4.2. 北旭电子 (54)4.4.3. 江苏博砚 (55)4.4.4. 中电彩虹 (55)A 股相关光刻胶上市公司 (57)图表目录图1：全球光刻胶市场结构 (7)图2：中国本土光刻胶企业生产结构 (7)图3：光刻胶胶涂工艺 (8)图4：液晶屏显彩色滤光膜制造有赖于彩色光刻胶 (8)图5：感光阻焊油墨用于PCB (8)图6：正性光刻胶显影示意图 (9)图7：负性光刻胶显影示意图 (9)图8：光聚合反应示意图 (9)图9：光分解反应示意图 (9)图10：光交联反应示意图 (10)图11：化学放大光反应示意图 (10)图12：光刻胶分类总结 (10)图13：一种NMOS三极管集成电路结构的制造过程 (11)图14：静态旋转法涂胶过程示意图 (12)图15：合格与不合格的静态涂胶过程示意图 (12)图16：动态喷洒法涂胶过程示意图 (12)图17：瑞利公式中各个参数的意义 (13)图18：德国光谱科学家约瑟夫.弗劳恩霍夫 (13)图19：典型的浸没光刻系统 (15)图20：双重光刻使加工分辨率翻倍 (15)图21：不合格的双重曝光 (16)图22：合格的双重曝光 (16)图23：TFT-LCD中阵列与滤光片结构 (17)图24：TFT-LCD中TFT单元的构造 (18)图25：TFT-LCD中TFT单元的构造 (18)图27：黑色矩阵膜制备流程示意图 (19)图28：彩色滤光膜制备流程示意图 (19)图29：双层ITO平面结构示意图 (19)图30：单层ITO平面结构示意图 (19)图31：双层ITO截面结构示意图 (20)图32：单层ITO截面结构示意图 (20)图33：PCB光刻胶应用示意图 (20)图34：干膜光刻胶 (21)图35：湿膜光刻胶 (21)图36：全球半导体材料销售额及增速（单位：十亿美元） (22)图37：国家和地区历年半导体材料销售额（单位：十亿美元） (22)图38：2018年各个国家和地区的销售占比 (22)图39：半导体材料销售额和中国大陆占比(单位:十亿美元) (22)图40：2018年半导体材料消耗占比 (23)图41：2018年半导体制造和封装材料占比 (23)图42：2018年全球半导体前道各材料市场比重 (23)图43：全球半导体前道材料市场预测 (23)图44：2010~2024年全球晶圆厂产能增加量（单位：百万片/年，等效8寸晶圆） (25)图45：2010-2020中国半导体晶圆厂投资额（单位：亿美元） (25)图46：国家大基金一期投资比例 (25)图47：液晶产业转移路径 (27)图48：全球显示工业分布情况 (27)图49：LCD面板成本构成 (27)图50：彩色滤光片成本构成 (27)图51：2014-2020中国PCB产值（亿美元） (28)图52：2014-2020全球PCB产值（亿美元） (28)图53：PCB行业成本构成 (28)图54：2011-2018中国光刻胶市场规模（亿元） (29)图55：2011-2018中国光刻胶产量与本土产量（万吨） (29)图56：2010-2018全球半导体光刻胶市场规模（亿美元） (30)图57：2014-2020全球半导体光刻胶需求结构（亿美元） (30)图58：ArF/ArF浸没光刻胶市场格局 (30)图59：KrF光刻胶市场格局 (30)图60：g/I line光刻胶市场格局 (30)图61：全球各区域半导体光刻胶市场份额 (31)图62：光刻胶的生产工艺简要流程 (32)图63：全球光刻胶生产企业市场份额 (34)图64：公司营收持续增长 (41)图65：公司净利润情况 (41)图66：公司主营业务构成 (41)图67：公司销售毛利率与净利率情况 (41)图68：公司营收持续增长 (42)图69：公司净利润情况 (42)图71：公司销售毛利率与净利率情况 (43)图72：公司营收持续增长 (44)图73：公司净利润情况 (44)图74：公司主营业务构成 (44)图75：公司销售毛利率与净利率情况 (44)图76：公司营收持续增长 (45)图77：公司净利润情况 (45)图78：公司主营业务构成 (46)图79：公司销售毛利率与净利率情况 (46)图80：公司营收持续增长 (47)图81：公司净利润情况 (47)图82：公司主营业务构成 (47)图83：公司销售毛利率与净利率情况 (47)图84：公司营收持续增长 (48)图85：公司净利润情况 (48)图86：公司主营业务构成 (48)图87：公司销售毛利率与净利率情况 (48)图88：公司营收持续增长 (49)图89：公司净利润情况 (49)图90：公司主营业务构成 (50)图91：公司销售毛利率与净利率情况 (50)图92：公司营收持续增长 (51)图93：公司净利润情况 (51)图94：公司主营业务构成 (51)图95：公司销售毛利率与净利率情况 (51)图96：公司营收持续增长 (52)图97：公司净利润情况 (52)图98：公司主营业务构成 (52)图99：公司销售毛利率与净利率情况 (52)图100：公司营收持续增长 (54)图101：公司净利润情况 (54)表1：光刻胶基本成分 (7)表2：光刻用光源技术演进 (14)表3：2019年部分地区相关布局 (24)表4：中国地区新增晶圆厂情况 (26)表5：SEMI超净高纯试剂标准 (33)表6：国内光刻胶主要生产企业及国产替代情况 (35)表7：日本合成橡胶主要产品 (36)表8：东京应化主要产品 (37)表9：新杜邦光刻胶相关产品 (38)表10：信越化学半导体材料相关产品 (38)表11：富士胶片半导体材料相关产品 (39)表13：国内外半导体光刻胶对比 (40)表14：南大光电光刻胶项目收入预测 (41)表15：LG化学彩色光刻胶2017-2019年度利润表 (42)表16：上海新阳光刻胶项目收入预测 (43)表17：晶瑞股份2014-2016年光刻胶销量、单价情况 (45)表18：晶瑞股份光刻胶分类 (45)表19：容大感光主要产品的功能、应用领域情况 (46)表20：容大感光光刻胶及配套产品 (47)表21：飞凯材料光刻胶及配套产品 (48)表22：永太科技光刻胶及配套产品 (49)表23：江化微光刻胶及配套产品 (50)表24：强力新材光刻胶及配套产品 (52)表25：北京科华光刻胶及配套产品 (53)表26：北旭电子光刻胶及配套产品 (54)表27：江苏博砚光刻胶及配套产品 (55)表28：中电彩虹光刻胶及配套产品 (56)表29：A股相关光刻胶上市公司整理表 (57)1. 光刻胶是电子制造重要材料1.1. 光刻胶广泛应用于电子行业光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。
2020年医学影像设备行业分析报告2020年12月目录一、行业发展情况 (5)1、医学影像设备定义与分类 (5)2、行业发展历程 (7)（1）X射线胶片时代（1960-1970年） (7)（2）影像数字化时代（1971-2000年） (8)（3）分子影像学时代（2001年至今） (8)3、行业发展趋势 (9)（1）政策推动国产设备占比上升 (9)（2）盈利受限下生产商业务向产业链下游拓展 (10)（3）人工智能助力产业升级 (11)二、行业市场规模 (12)1、第三方医学影像中心催生新机遇 (13)2、收入增长与医保覆盖提升居民支付能力 (13)3、技术进步助力研发制造 (13)三、行业上下游情况 (14)1、上游 (14)2、下游 (15)（1）公立医院与民营医院 (16)（2）独立影像中心 (16)（3）线上影像平台 (17)（4）衍生服务机构 (17)四、影响行业发展的因素 (17)1、有利因素 (17)（1）第三方医学影像中心催生新机遇 (17)（2）收入增长与医保覆盖提升支付能力 (19)（3）技术进步助力研发制造 (20)2、不利因素 (21)（1）行业总体研发投入不足，企业竞争力弱 (21)（2）市场准入标准高，国产设备购买动力不足 (22)五、行业竞争格局 (23)1、X射线设备 (24)2、CT (25)3、MRI (26)4、核医学 (26)5、超声诊断 (27)6、内镜 (27)六、行业相关企业简析 (28)1、上海联影 (28)（1）研发优势 (28)（2）国际布局 (29)2、东软医疗 (29)（1）提供全面解决方案 (30)（2）全球化布局 (30)3、推想科技 (30)（1）深耕临床场景需求 (31)（2）人才优势 (31)医学影像设备是利用各种不同媒介作为信息载体，将人体内部结构重现为影像的各种仪器，其影像信息与人体实际结构有着空间和时间分布上的对应关系。
医学影像设备可分为大型医学影像设备和其他医学影像设备。
2020年光电显示行业市场分析报告2020年4月一、近代主流光电显示技术1.1.光电显示技术路线光电显示技术即把经过电子设备所输出的电信号转化为可视的图像，在当前的很多技术领域都有着很广泛的应用，发展的速度也很快，在信息产业中占有很重要的地位。
随着经济和技术的发展，对其也提出更高的要求，现在已经是诸多生产生活中不可缺少的一部分。
光电显示技术是几个学科之间的交叉综合，主流的技术路线有阴极射线管、液晶和等离子显示等。
表格1.三种主流光电显示技术路线项目主要内容CRT 是一种传统的光电信息显示装置，具有极为优良的显示质量，在生产和驱动方面很简单，性阴极射线价比高。
对于阴极射线管来说，最为关键部件是连接到屏幕后部的电子枪，在加速，聚焦和偏转管(CRT) 之后，它在荧光屏的荧光体上被照射，并且以相对快的速度将电子发射，同时，偏转线圈控制电子束的方向并逐行扫过屏幕，进而达到显示图像的目的。
LCD 是介于固体和液体之间的有机化合物，它将液体的流动性和固体的光学性质进行了有机的结合，于此产生出了液晶显示器，它的关键物质是液晶材料。
当施加适当的电压时，液晶材料的液晶显示(LCD) 分子就被偏转，从而导致它们的透射率发生变化。
这样，“阴影”状态就变为“照明”状态，从而达到显示的目的。
分类依据的不同，有许多类型的液晶显示器，最新一代的薄膜晶体管液晶显示器等都是有源矩阵液晶显示器。
等离子显示是通过气体放电照明显示的平面显示面板，并且可以被视为布置的大量小荧光灯，等离子显示技术被视为未来大屏幕平板显示器的主流技术之一。
等离子体显示器利用两个玻璃基等离子体板之间的惰性气体电子放电来产生紫外，红色和蓝色磷光体，从而得以呈现出各种彩色光点的画显示(PDP) 面，其中PDP 主要适用于中型到大型显示器。
等离子显示器具有阴极射线管的优点，但它超薄的体积和重量远远优于传统的大尺寸CRT 电视。
其图像具有高分辨率的丰富层次，可以不受磁场、宽视角和主动照明的影响，但是它的功率特别大，在使用过程中耗电太多。
2020年显控设备行业分析报告一、行业发展现状及竞争格局 (2)1、行业市场概述 (2)2、《超高清视频产业发展行动计划》的发布，引领显示行业新机遇 (3)3、行业市场容量及发展前景 (4)二、行业技术水平特点 (5)三、行业周期性、区域性及季节性特征 (5)1、行业周期性 (5)2、行业区域性 (5)3、行业季节性 (5)四、行业市场化程度及进入壁垒 (6)1、行业市场化程度 (6)2、进入行业的主要障碍 (6)（1）技术和人才壁垒 (6)（2）品牌知名度壁垒 (7)（3）客户资源壁垒 (7)五、行业上下游的关联性 (8)1、上游行业 (8)2、下游行业 (8)六、影响行业发展的因素 (9)1、有利因素 (9)（1）国家产业政策支持 (9)（2）技术进步推动智能制造装备行业快速发展 (9)2、不利因素 (10)一、行业发展现状及竞争格局1、行业市场概述随着全球信息化步伐的加快和国家信息产业化政策的实施，各行业对信息可视化的需求不断扩大，大屏幕拼接显示系统作为具有直观互动性的信息展示平台已经在诸多领域得到了广泛的应用。
大屏幕拼接显示市场通常可以分为控制室市场和安防监控市场。
控制室市场通过对视频、数据等信息的显示与处理，为指挥、调度、控制等操作提供安全、稳定、交互、联动的辅助支持，通常应用于军队、交通、电力、政府应急、人防等领域的指挥中心和调度中心。
安防监控市场是通过对视频的处理，从显示速度、画面分辨率、传输灵活性、远程接入等方面为公共安全提供有效支持，通常应用于政府部门、公共场所、重要基地、大型企业与社区的监控中心。
随着行业应用的深入，数字化技术、网络技术和智能化技术不断发展，大屏幕拼接显示设备对控制室市场与安防监控市场的职能划分日益模糊，逐渐符合多样化市场需求。
目前国内大屏幕拼接显示设备主要应用于专业性工用市场、半专业商用市场以及民用市场。
专业性工用市场是指军队、政府、人防、交通、能源安全生产等对安防类公共基础设施的需求；半专业商用市场是指厂区监控、民用社区监控等公共场所的安防监控需求；民用市场是指消费者个人对监控产生的视频处理、管理与显示的需求。
环保净JUNE 2021化设备行业研究报告环保净化设备行业研究报告东吴证券姜超尚一、行业概况（一）行业主管部门、监管体制及主要法规1、行业主管部门和监管体制环保行业的行政主管部门为国家环保部，主要负责环境保护工作的统一监督管理。
同时，建设部、发改委等政府部门负责对环保企业的经营领域和经营范围进行资质管理。
同时，公司部分产品销往核电领域，具体监管部门核电工程主管部门和质量监督部门等，行业自律机构有核级设备鉴证中心等。
环保部负责建立健全环境保护基本制度；负责重大环境问题的统筹协调和监督管理；承担落实国家减排目标的责任；负责提出环境保护领域固定资产投资规模和方向、国家财政性资金安排的意见；负责环境污染防治的监督管理；指导、协调、监督生态保护工作等。
建设部担任推进建筑节能、城镇减排的责任，会同有关部门拟订建筑节能的政策、规划并监督实施，组织实施重大建筑节能项目，推进城镇减排等。
发改委推进可持续发展战略，负责节能减排的综合协调工作，参与编制生态建设、环境保护规划，协调生态建设、能源资源节约和综合利用的重大问题，综合协调环保产业和清洁生产促进有关工作等。
中国环保产业协会是环保产业的自律组织，其主要职责为：参与全国环保产业调查和行业发展规划的制定，开展环保产业发展战略的研究；为环保企事业单位提供技术、设备、市场信息，组织合作交流活动等。
2、行业相关标准及政策近年来，随着我国对于环境保护的高度重视，国家在环境治理方面出台了一系列的政策法规，以1989年颁布的《中华人民共和国环境保护法》为核心，相继围绕环境保护和水资源利用方面先后颁布了多项法律法规和产业发展规划。
近些年来，中央和地方政府相继制定出台了《“十二五”全国城镇污水处理及再生利用设施建设规划》和《国家环境保护“十二五”规划》等相关规划，这些都将引导和规范环保净化行业及水污染治理行业健康快速地发展。
同时，根据《环保装备“十二五”发展规划》和《能源行业加强大气污染防治工作方案》等相关政策，我国提出发展环保装备是加快培育发展节能环保产业的重要内容。
节能环保产业是国家鼓励发展的战略性新兴产业之一。
环保装备是环保技术的重要载体，是环境保护的重要物质基础，是环保产业的核心内容。
二、行业规模与发展趋势（一）行业上下游情况环保净化设备制造行业的上游主要为金属组件供应商，生产原材料主要包括不锈钢管材、管件、电机设备、阀门等。
近年来，国内组件设备原材料供应商主要为通用设备及专用设备材料制造商，市场竞争激烈、产品代替性强、价格相对稳定。
行业下游主要为核电工程公司和各类给排水净化处理厂商。
（二）行业规模及发展趋势1、环保行业规模及发展趋势随着环境污染日益严重，资源加剧紧张，生态环境保护和资源节约利用受到前所未有的重视。
“十二五”我国环保装备产业主要目标是：基本满足环境保护重点领域的技术装备需求；提升产业技术水平；扩大产业规模，优化产业结构。
目前全国环保产业从业单位约3.5万家，从业人员近300万人，产业收入总额近10,000亿元。
随着环保投资力度的进一步加大，我国环保产业将迎来更为广阔的发展空间。
根据《环保装备“十二五”发展规划》要求，“十二五”期间环保行业产值年均增长20％，2015年达到5000亿元。
全国形成10个以上区位优势突出、集中度高的产业基地，10至20个在行业具有领军作用的大型龙头企业集团，培育了一批拥有著名品牌的优势企业。
预计2016年环保装备工业生产总值达7000亿元，“十二五”年均增速保持在20％以上，重大环保装备基本满足国内市场需求，先进环保技术装备市场占有率稳步提升，到2016年高效低耗的先进环保技术装备与产品的市场占有率由“十二五”初的10％左右提高到30％以上，提升优势产品的国际竞争力。
根据江苏省环保产业研究院发布的《宜兴环保产业发展报告》，截止2012年，我国从事环保装备生产企业有4400多家，销售收入达2000多亿元，产品主要集中在水、气污染防治，占市场份额80％左右，并连续七年增长都在30％左右。
2010年江苏省宜兴市环保产业技工贸总收入达354.5亿元，在册环保企业约1500家，产品覆盖了水、气、固废、噪音治理和生态修复五大领域，占到国内约20～40％的市场份额。
根据《“十二五”节能环保产业发展规划》指出，节能环保将是中国环保产业未来10年的重点方向：A、从“政策加污染驱动”到“政策加市场驱动”。
在未来外在驱动力所起到的作用将逐渐减小，将从决定性因素转变为一般因素，而产业自身的技术创新、模式创新、市场的资源配置作用等因素将对环保产业的发展起决定性作用。
B、环保服务业——从“有没有”到“好不好”。
污染治理“有没有”向“好不好”升级，真正的“环境服务”理念逐步得以体现。
C、环保产业开始进入“平台时代”。
2013年，“并购”成为环保产业的热点词语，环保产业进入了快速成长期，环保市场的格局由分散开始聚拢，环保企业借用资本市场的力量实行规模和业务领域的扩张，尤其是目前发展较为成熟的领域，如大气污染治理、市政排水和固体废弃物处理处置领域等，环保产业开始进入“平台时代”。
D、政策空白填补拉动相关领域产业发展。
尤其是在大气污染治理领域，水污染治理领域和土壤修复领域。
2、水环保行业规模及发展趋势我国的污水处理行业经历了一个从工业废水处理到生活污水处理，从行业重视到国家重视再到全民重视，从直接排放到末端治理，从单独分散的点源治理到流域性和区域性的水污染防治发展的过程。
截至2010年底，全国城镇供水能力总计3.87亿立方米/日，用水人口6.30亿人，管网长度103.55万公里，年供水总量714亿立方米。
其中，设市城市供水能力2.76亿立方米/日，用水人口3.81亿人，管网长度53.98万公里，年供水量508亿立方米；县城供水能力0.47亿立方米/日，用水人口1.18亿人，管网长度15.99万公里，年供水量93亿立方米；建制镇供水能力0.64亿立方米/日，用水人口1.31亿人，管网长度33.58万公里，年供水量113亿立方米。
与2000年相比，全国城市和县城新增供水能力0.68亿立方米/日，增长26.67%；新增用水人口2.30亿人，增长85.50%。
《全国城镇供水设施改造与建设“十二五”规划及2020年远景目标》中提出“十二五”规划投资估算系“十二五”规划项目总投资4100亿元，其中水厂改造投资465亿元；管网改造投资835亿元；新建水厂投资940亿元；新建管网投资1843亿元；水质检测监管能力建设投资15亿元；供水应急能力建设投资2亿元。
近年来，我国总的污水排放量呈现逐年增加的趋势，其中生活污水排放量自2003年以来以年均6.34%的速度增长，而工业废水每年排放量则基本保持不变，未来生活污水处理市场将成为水处理市场的主要增长点。
近年来国家陆续出台了一系列相关政策加大对污水处理行业的投资，提出污水处理各技术指标，实行税收优惠和产业引导等支持污水处理行业的发展。
《全国城镇污水处理及再生利用设施建设“十一五”规划》提出，“十一五”期间全国城镇污水处理及再生利用设施建设新增投资额3,320.00亿元，而《全国城镇污水处理及再生利用设施建设“十二五”规划》则提出“十二五”期间将继续加大对污水处理及再生利用设施建设的投资，总计将达到4,300.00亿元的投入，其中1,040.00亿元用于污水处理能力建设。
“十二五”规划同时提出：到2015年，全国所有设市城市和县城具有污水集中处理能力；污水处理率进一步提高，城市污水处理率达到85.00%（直辖市、省会城市和计划单列市城区实现污水全部收集和处理，地级市85.00%，县级市70.00%），县城污水处理率平均达到70.00%，建制镇污水处理率平均达到30.00%；直辖市、省会城市和计划单列市的污泥无害化处理处置率达到80.00%，其他设市城市达到70.00%，县城及重点镇达到30.00%；城镇污水处理设施再生水利用率达到15.00%以上。
3、核电环保行业规模及发展趋势核废料积聚风险日益凸显，我国高放射性核废料（乏燃料）和中低放射性核废料亟待进入规模化处理期。
核电放射性废料主要分为高、中、低水平放射性三类。
高水平放射性废料主要包括核燃料在发电后产生的乏燃料本身及其经处理后的含有大量裂变产物和超铀核素的废物，其中有高达96%的铀未经反应。
中、低水平放射性废物一般包括核电站的污染设备、运行时的水化系统、交换树脂、废水废液和手套等劳保用品。
我国乏燃料大多在堆内水池临时贮存，推广后处理迫在眉睫，百亿乏燃料处理基金已基本就绪。
目前，我国运营核电机组中，大亚湾核电站实现了部分乏燃料运输到甘肃离堆贮存，其余核电站乏燃料大多临时贮存在堆内水池，未做离堆贮存或后处理。
大亚湾、田湾等多个机组乏燃料池已接近饱和，若不做离堆处理，将面临停堆风险。
此外，我国核电实行“压水堆-快堆-聚变堆”三步走战略，后处理环节提取的钚是快堆的重要燃料，因此，后处理也是发展快堆技术的重要环节。
中低放核废物中，气体废物的放射性一般很小，经核电厂气体废物处理系统净化处理后，监测合格即可直接由高烟囱排放。
工作人员淋浴水和洗衣水之类的液体废物，放射性较低，通常在收集后就直接监测排放。
截止到2011年3月，我国已有6个投运核电站，12个在建核电站，25个筹建中核电站。
2011年运行中的6座核电站共11台机组总核电容量900多万千瓦，占全国总发电总量2％。
按照核电中长期发展规划，我国将增建多座核电站，当前已经从广东、浙江、山东、江苏、辽宁、福建、广西等沿海城市确定了13个优选厂址。
长远来说，随着内陆经济崛起，电量需求剧增，从沿海到内陆湖北、湖南、江西，将建设数10座核电站，并引进国际三代AP1000核电技术。
这种机组的反应堆设有4道安全屏障和多重安全保护系统，安全性能高，特别适用内陆核电厂使用。
建设核电项目同时，将同步建设中低放射性废物处置场，并在2020年前建成收藏高放射性废物地下室。
根据国海证券研究报告预测，2020年当年产生乏燃料后处理市场为60-75亿元，2020年累计需处理的乏燃料市场空间达500-600亿元。
按现有核电运营装机计算，2015年核电站产生中低放核废料约2400立方米，对比美国3-5万美元/立方米的处理费用，中低放核废料处理对应的市场空间为每年5-8亿元人民币。
至2020年，产生中低放核废料约5500立方米，对应市场空间12-20亿元人民币。
我国《核电中长期发展规划（2005~2020年）》指出，根据保障能源供应安全，优化电源结构的需要，统筹考虑我国技术力量、建设周期、设备制造与自主化、核燃料供应等条件，到2020年，核电运行装机容量争取达到4000万千瓦；核电年发电量达到2600~2800亿千瓦时。
在目前在建和运行核电容量1696.8万千瓦的基础上，新投产核电装机容量约2300万千瓦。
