PCB双面板通孔镀铜工艺
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双面板制板流程双面板制作流程:1、打印底片或者光绘输出底片2、裁板3、钻孔4、平板机打磨(去除孔内毛刺,要保证孔通透)5、抛光6、沉铜(全自动沉铜:包含预浸与活化二种工艺)7、预浸(约5分钟,除油,除氧化物,调整电荷)8、水洗(水洗都是为除去药水残留)9、活化(约2分钟,纳米碳粒附在孔内)10、透孔11、7至11步工艺在全自动沉铜机里自动完成12、固化(100°C,5~10分钟,使碳粒在孔内附好)13、微蚀(去除覆盖在铜外表的活化液参考时间10~20s)14、镀铜(可以先加速二到四秒钟去除表面氧化物电镀。
最佳时间20分钟,电流约3A/(dm)2)15、水洗16、抛光17、刷线路油墨(较难掌握,多练习)18、烘干(75°C,10~15分钟)19、爆光(爆光时间60~80S,先对孔,用透明胶粘住打印好的菲林膜)20、显影(显影时间不易过长,参考时间30~45s)21、水洗22、烘干23、镀锡(20分钟,铜的有效面积电流约1.5A/(dm)2)24、水洗25、去膜(脱膜机脱膜,一定要用手套,去膜液为强碱性。
)26、水洗27、腐蚀(防止腐蚀过头)28、水洗29、刷阻焊油墨(阻焊油墨中加固化剂,增强固花能力)30、烘干(75°C,5~10分钟)31、爆光(180S)32、显影33、水洗34、烘干固化(150°C,30分钟)35、刷文字油墨(事先配好油墨,油墨一定要配得细腻)36、烘干(75°C,5~10分钟)38、显影固化简易流程:打底片→裁板→钻孔→抛光→(透孔)→预浸→水洗→(透孔)→预先开烘干机↓黑孔→烘干→微蚀→水洗→加速→水洗→(透孔)→镀铜→水洗→配线路油墨配显影液↓↓抛光→刷线路油墨→烘干→爆光→显影→水洗→加速→水洗→镀锡配去膜液配阻焊油墨(配比:固化剂1:油墨3)↓↓→去膜→水洗→腐蚀→水洗→刷阻焊油墨→烘干→爆光→显影配文字油墨(可用油墨稀释剂稀释)(配比:固化剂1:油墨3)↓换网→刷文字油墨→烘干→显影。
pcb双面板的工艺流程英文回答:PCB (Printed Circuit Board) double-sided fabrication involves several steps in its manufacturing process. Here, I will outline the general process flow for producing double-sided PCBs.1. Design and Layout: The first step is to create a design and layout for the PCB using a computer-aided design (CAD) software. This involves placing components, routing traces, and creating the necessary layers for the PCB.2. Material Selection: Once the design is complete, the next step is to select the appropriate materials for the PCB. This includes choosing the substrate material (usually fiberglass-reinforced epoxy), copper foil for the conductive layers, and solder mask materials.3. Substrate Preparation: The substrate material is cutinto the desired size and shape for the PCB. It is then cleaned and prepared for the subsequent processes.4. Copper Cladding: Copper foil is laminated onto both sides of the substrate using heat and pressure. This provides the conductive layers for the PCB.5. Imaging: A photosensitive material called a photoresist is applied to both sides of the copper-clad substrate. The PCB design is then transferred onto the photoresist using a UV light source and a photomask. The areas exposed to light become either the conductive traces or the pads for component attachment.6. Etching: The unexposed areas of the photoresist are removed, leaving behind the desired conductive traces and pads. The exposed copper is then etched away using an etching solution, leaving only the desired copper pattern on the substrate.7. Drilling: Holes for component mounting and interconnections are drilled into the PCB using a precisiondrilling machine. These holes are typically plated with copper to provide electrical continuity between the layers.8. Plating: A thin layer of copper is electroplatedonto the exposed copper surfaces, including the drilled holes. This helps to improve the conductivity and protect the copper from oxidation.9. Solder Mask Application: A solder mask is applied to both sides of the PCB to protect the copper traces from oxidation and to prevent solder bridges during assembly.The solder mask is typically green in color, but othercolors can also be used.10. Silkscreen Printing: Component designators, logos, and other information are printed onto the solder maskusing a silkscreen printing process. This helps with component placement and identification during assembly.11. Testing and Inspection: The finished PCBs are subjected to various tests and inspections to ensure their quality and functionality. This includes electrical testing,visual inspection, and sometimes, functional testing.12. Assembly: Once the PCBs pass all the tests, theyare ready for component assembly. This involves solderingthe components onto the PCB using either manual or automated assembly processes.13. Final Testing: The assembled PCBs undergo final testing to verify their functionality and performance. This may include functional testing, environmental testing, and reliability testing.中文回答:PCB(Printed Circuit Board)双面板的制造工艺包括多个步骤。
pcb过孔镀铜过孔镀铜是在印刷电路板(PCB)制造过程中的关键步骤之一。
它涉及将铜沉积在PCB的过孔内壁,以提供良好的导电性和连接性。
本文将探讨过孔镀铜的工艺和应用。
1. 什么是PCB过孔镀铜过孔是PCB上用于贯穿不同层的电气连接的孔。
它们在电子设备中起到重要的连接作用。
过孔镀铜是指通过电化学方法,在过孔内部形成一层致密、均匀的铜层,从而增加导电能力和强度。
2. PCB过孔镀铜的工艺流程(1)准备工作:包括待镀PCB的清洁、去脂和表面处理等,以确保铜能够牢固附着在过孔内壁上。
(2)化学镀液准备:根据制造要求,配制适当的化学镀液,并调整好温度和PH值等参数。
(3)装载工作:将清洁好的PCB放入镀液槽中,并使用夹具、网篮等装载上下料工具,以保证均匀镀铜。
(4)电化学镀铜:在设定的参数设置下,将PCB浸入镀液中,通电进行电化学反应,将铜离子还原并沉积在过孔内部。
(5)清洗和后处理:将镀好铜的PCB进行清洗、中和和除膜等处理,去除多余的铜和表面残留物。
3. PCB过孔镀铜的优点(1)良好的导电性:通过过孔镀铜,可以在PCB内形成连续的导电路径,保证信号和电力传输的可靠性。
(2)良好的连接性:过孔镀铜可使不同层之间的电气连接更加牢固,增强PCB的机械强度和可靠性。
(3)提高抗氧化性:过孔镀铜还可以有效降低PCB过孔和铜层的氧化水平,延长PCB的使用寿命。
(4)适应多层设计:在多层PCB设计中,过孔镀铜可以实现不同层之间的信号、电力和接地等电路的有效连接。
4. PCB过孔镀铜的应用领域PCB过孔镀铜被广泛应用于电子设备的制造中,特别是以下领域:(1)通信设备:如手机、电视等消费电子产品中,需要通过过孔镀铜实现电路和元件的连接。
(2)计算机和网络设备:作为计算机主板或网络设备的重要组成部分,PCB需要进行过孔镀铜以满足高速信号传输和数据处理的要求。
(3)工业自动化:在工业自动化设备中,PCB的可靠性和耐用性对设备的稳定性至关重要,过孔镀铜可以提供可靠的连接和导电性。
PCB印制电路板电镀铜及镍金工艺现代电镀网讯:一.电镀工艺的分类:酸性光亮铜电镀电镀镍/金电镀锡二.工艺流程:浸酸一全板电镀铜一图形转移一酸性除油-二级逆流漂洗一微蚀一二级—浸酸—镀锡—二级逆流漂洗逆流漂洗一浸酸一图形电镀铜一二级逆流漂洗—镀镍—二级水洗—浸柠檬酸—镀金—回收—2-3级纯水洗—烘干三.流程说明:(一)浸酸①作用与目的:除去板面氧化物,活化板面,一般浓度在5%有的保持在10流右,主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定;②酸浸时间不宜太长,防止板面氧化;在使用一段时间后,酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换,防止污染电镀铜缸和板件表面;③此处应使用C.P级硫酸;(二)全板电镀铜:又叫一次铜,板电,Pan el-plat ing ① 作用与目的:保护刚刚沉积的薄薄的化学铜,防止化学铜氧化后被酸浸蚀掉,通过电镀将其加后到一定程度②全板电镀铜相关工艺参数:槽液主要成分有硫酸铜和硫酸,采用高酸低铜配方,保证电镀时板面厚度分布的均匀性和对深孔小孔的深镀能力;硫酸含量多在180克/升,多者达到240克/升;硫酸铜含量一般在75克/升左右,另槽液中添加有微量的氯离子,作为辅助光泽剂和铜光剂共同发挥光泽效果;铜光剂的添加量或开缸量一般在3-5ml/L,铜光剂的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果;全板电镀的电流计算一般按2安/平方分米乘以板上可电镀面积,对全板电来说,以即板长dmx板宽dm x 2X 2A/ DM2;铜缸温度维持在室温状态,一般温度不超过32度,多控制在22度,因此在夏季因温度太高,铜缸建议加装冷却温控系统;③工艺维护:每日根据千安小时来及时补充铜光剂,按100-150ml/KAH补充添加;检查过滤泵是否工作正常,有无漏气现象;每隔2-3小时应用干净的湿抹布将阴极导电杆擦洗干净;每周要定期分析铜缸硫酸铜(1次/周),硫酸(1次/周),氯离子(2次/周)含量,并通过霍尔槽试验来调整光剂含量,并及时补充相关原料;每周要清洗阳极导电杆,槽体两端电接头,及时补充钛篮中的阳极铜球,用低电流0。
PCB生产工艺流程PCB的制造完成需要进过一道道工艺流程,流程相对比较复杂,根据不同的PCB板层数,PCB生产的流程也会不一样。
一、单面板生产流程:开料——钻孔——外层图像转移:(外层磨板、外层贴膜、菲林对位、曝光、显影、图镀、褪膜、蚀刻、褪锡)——AOI——丝印阻焊油墨——阻焊图像转移:(菲林对位、曝光、显影)——丝印字符——热风整平——铣外形——电测——终检——真空包装二、双面板生产流程:开料——钻孔——沉铜——板镀——外层图像转移:(外层磨板、外层贴膜、菲林对位、曝光、显影、图镀、褪膜、蚀刻、褪锡)——丝印阻焊油墨——阻焊图像转移:(菲林对位、曝光、显影)——丝印字符——热风整平——铣外形——电测——终检——真空包装三、多面板生产流程如下图所示展开剩余77%1、开料目的:根据工程资料MI的要求,在符合要求的大张板材上,裁切成小块生产板件.符合客户要求的小块板料.流程:大板料→按MI要求切板→锔板→啤圆角\磨边→出板2、钻孔目的:根据工程资料(客户资料),在所开符合要求尺寸的板料上,相应的位置钻出所求的孔径.流程:叠板销钉→上板→钻孔→下板→检查\修理3、沉铜目的:沉铜是利用化学方法在绝缘孔壁上沉积上一层薄铜.流程:粗磨→挂板→沉铜自动线→下板→浸1%稀H2SO4→加厚铜4、图形转移目的:图形转移是生产菲林上的图像转移到板上流程:(蓝油流程):磨板→印第一面→烘干→印第二面→烘干→爆光→冲影→检查;(干膜流程):麻板→压膜→静置→对位→曝光→静置→冲影→检查5、图形电镀目的:图形电镀是在线路图形裸露的铜皮上或孔壁上电镀一层达到要求厚度的铜层与要求厚度的金镍或锡层.流程:上板→除油→水洗二次→微蚀→水洗→酸洗→镀铜→水洗→浸酸→镀锡→水洗→下板6、退膜目的:用NaOH溶液退去抗电镀覆盖膜层使非线路铜层裸露出来.流程:水膜:插架→浸碱→冲洗→擦洗→过机;干膜:放板→过机7、蚀刻目的:蚀刻是利用化学反应法将非线路部位的铜层腐蚀去.8、绿油目的:绿油是将绿油菲林的图形转移到板上,起到保护线路和阻止焊接零件时线路上锡的作用流程:磨板→印感光绿油→锔板→曝光→冲影;磨板→印第一面→烘板→印第二面→烘板9、字符目的:字符是提供的一种便于辩认的标记流程:绿油终锔后→冷却静置→调网→印字符→后锔10、镀金手指目的:在插头手指上镀上一层要求厚度的镍\金层,使之更具有硬度的耐磨性流程:上板→除油→水洗两次→微蚀→水洗两次→酸洗→镀铜→水洗→镀镍→水洗→镀金镀锡板(与镀金手指并列的工艺)目的:喷锡是在未覆盖阻焊油的裸露铜面上喷上一层铅锡,以保护铜面不蚀氧化,以保证具有良好的焊接性能.流程:微蚀→风干→预热→松香涂覆→焊锡涂覆→热风平整→风冷→洗涤风干11、成型目的:通过模具冲压或数控锣机锣出客户所需要的形状成型的方法有机锣,啤板,手锣,手切说明:数据锣机板与啤板的精确度较高,手锣其次,手切板最低具只能做一些简单的外形.12、测试目的:通过电子100%测试,检测目视不易发现到的开路,短路等影响功能性之缺陷.流程:上模→放板→测试→合格→FQC目检→不合格→修理→返测试→OK→REJ→报废13、终检目的:通过100%目检板件外观缺陷,并对轻微缺陷进行修理,避免有问题及缺陷板件流出。
PCB电镀工艺介绍线路板的电镀工艺,大约可以分类:酸性光亮铜电镀、电镀镍/金、电镀锡,文章介绍的是关于在线路板加工过程是,电镀工艺的技术以及工艺流程,以及具体操作方法.二.工艺流程:浸酸→全板电镀铜→图形转移→酸性除油→二级逆流漂洗→微蚀→二级逆流漂洗→浸酸→镀锡→二级逆流漂洗→逆流漂洗→浸酸→图形电镀铜→二级逆流漂洗→镀镍→二级水洗→浸柠檬酸→镀金→回收→2-3级纯水洗→烘干三.流程说明:(一)浸酸①作用与目的:除去板面氧化物,活化板面,一般浓度在5%,有的保持在10%左右,主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定;②酸浸时间不宜太长,防止板面氧化;在使用一段时间后,酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换,防止污染电镀铜缸和板件表面;③此处应使用C.P级硫酸;(二)全板电镀铜:又叫一次铜,板电,Panel-plating①作用与目的:保护刚刚沉积的薄薄的化学铜,防止化学铜氧化后被酸浸蚀掉,通过电镀将其加后到一定程度②全板电镀铜相关工艺参数:槽液主要成分有硫酸铜和硫酸,采用高酸低铜配方,保证电镀时板面厚度分布的均匀性和对深孔小孔的深镀能力;硫酸含量多在180克/升,多者达到240克/升;硫酸铜含量一般在75克/升左右,另槽液中添加有微量的氯离子,作为辅助光泽剂和铜光剂共同发挥光泽效果;铜光剂的添加量或开缸量一般在3-5ml/L,铜光剂的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果;全板电镀的电流计算一般按2安/平方分米乘以板上可电镀面积,对全板电来说,以即板长dm×板宽dm×2×2A/DM2;铜缸温度维持在室温状态,一般温度不超过32度,多控制在22度,因此在夏季因温度太高,铜缸建议加装冷却温控系统;③工艺维护:每日根据千安小时来及时补充铜光剂,按100-150ml/KAH补充添加;检查过滤泵是否工作正常,有无漏气现象;每隔2-3小时应用干净的湿抹布将阴极导电杆擦洗干净;每周要定期分析铜缸硫酸铜(1次/周),硫酸(1次/周),氯离子(2次/周)含量,并通过霍尔槽试验来调整光剂含量,并及时补充相关原料;每周要清洗阳极导电杆,槽体两端电接头,及时补充钛篮中的阳极铜球,用低电流0。
PCB化学镀铜工艺流程产品检验标准2010-02-03 18:26:16 阅读4 评论0 字号:大中小订阅PCB化学镀铜工艺流程解读(一)化学镀铜(Eletcroless Plating Copper)通常也叫沉铜或孔化(PTH)是一种自身催化性氧化还原反应。
首先用活化剂处理,使绝缘基材表面吸附上一层活性的粒子通常用的是金属钯粒子(钯是一种十分昂贵的金属,价格高且一直在上升,为降低成本现在国外有实用胶体铜工艺在运行),铜离子首先在这些活性的金属钯粒子上被还原,而这些被还原的金属铜晶核本身又成为铜离子的催化层,使铜的还原反应继续在这些新的铜晶核表面上进行。
化学镀铜在我们PCB制造业中得到了广泛的应用,目前最多的是用化学镀铜进行PCB的孔金属化。
PCB孔金属化工艺流程如下:钻孔→磨板去毛刺→上板→整孔清洁处理→双水洗→微蚀化学粗化→双水洗→预浸处理→胶体钯活化处理→双水洗→解胶处理(加速)→双水洗→沉铜→双水洗→下板→上板→浸酸→一次铜→水洗→下板→烘干一、镀前处理1.去毛刺钻孔后的覆铜泊板,其孔口部位不可避免的产生一些小的毛刺,这些毛刺如不去除将会影响金属化孔的质量。
最简单去毛刺的方法是用200~400号水砂纸将钻孔后的铜箔表面磨光。
机械化的去毛刺方法是采用去毛刺机。
去毛刺机的磨辊是采用含有碳化硅磨料的尼龙刷或毡。
一般的去毛刺机在去除毛刺时,在顺着板面移动方向有部分毛刺倒向孔口内壁,改进型的磨板机,具有双向转动带摆动尼龙刷辊,消除了除了这种弊病。
2.整孔清洁处理对多层PCB有整孔要求,目的是除去钻污及孔微蚀处理。
以前多用浓硫酸除钻污,而现在多用碱性高锰酸钾处理法,随后清洁调整处理。
孔金属化时,化学镀铜反应是在孔壁和整个铜箔表面上同时发生的。
如果某些部位不清洁,就会影响化学镀铜层和印制导线铜箔间的结合强度,所以在化学镀铜前必须进行基体的清洁处理。
最常用的清洗液及操作条件列于表如下:3.覆铜箔粗化处理利用化学微蚀刻法对铜表面进行浸蚀处理(蚀刻深度为2-3微米),使铜表面产生凹凸不平的微观粗糙带活性的表面,从而保证化学镀铜层和铜箔基体之间有牢固的结合强度。
PCB 双面板通孔镀铜工艺7.1 制程目的双面板以上完成钻孔后即进行镀通孔(Plated Through Hole , PTH) 步骤,其目的使孔壁上之非导体部份之树脂及玻纤束进行金属化( metalization ), 以进行后来之电镀铜制程,完成足够导电及焊接之金属孔壁。
1986 年,美国有一家化学公司Hunt 宣布PTH 不再需要传统的贵金属及无电铜的金属化制程,可用碳粉的涂布成为通电的媒介,商名为"Black hole" 。
之后陆续有其他不同base 产品上市, 国内用户非常多. 除传统PTH 外, 直接电镀(direct plating) 本章节也会述及.7.2 制造流程去毛头-除胶渣-PTH 一次铜7.2.1. 去巴里(deburr)钻完孔后,若是钻孔条件不适当,孔边缘有 1.未切断铜丝 2.未切断玻纤的残留,称为burr.因其要断不断,而且粗糙,若不将之去除,可能造成通孔不良及孔小,因此钻孔后会有de-burr 制程.也有de-burr 是放在Desmear 之后才作业.一般de-burr 是用机器刷磨,且会加入超音波及高压冲洗的应用.可参考表4.1.47.2.2. 除胶渣(Desmear)A. 目的:a. Desmearb. Create Micro-rough 增力卩adhesionB. Smear产生的原因:由于钻孔时造成的高温Resin超过Tg值,而形成融熔状,终致产生胶渣。
此胶渣生于内层铜边缘及孔壁区,会造成P.I.(Poor In terco nn ectio n)C. Desmear的四种方法:硫酸法(Sulferic Acid)、电浆法(Plasma)、铬酸法(Cromic Acid)、高锰酸钾法(Perma ngan ate).a. 硫酸法必须保持高浓度,但硫酸本身为脱水剂很难保持高浓度,且咬蚀出的孔面光滑无微孔,并不适用b. 电浆法效率慢且多为批次生产,而处理后大多仍必须配合其他湿制程处理,因此除非生产特殊板大多不予采用。
c. 铬酸法咬蚀速度快,但微孔的产生并不理想,且废水不易处理又有致癌的潜在风险,故渐被淘汰。
d. 高锰酸钾法因配合溶剂制程,可以产生微孔。
同时由于还原电极的推出,使槽液安定性获得较佳控制,因此目前较被普遍使用。
7.2.2.1 高锰酸钾法(KMnO4 Process):A. 膨松剂(Sweller):a. 功能:软化膨松Epoxy,降低Polymer间的键结能,使KMnO4更易咬蚀形成Micro-rough 速率作用Concentrationb. 影响因素:见图7.1c. 安全:不可和KMnO4直接混合,以免产生强烈氧化还原,发生火灾d. 原理解释:(1) 见图7.2叫初期溶出可降低较弱的键结,使其键结间有了明显的差异。
若浸泡过长,强的链结也渐次降低,终致整块成为低链结能的表面。
如果达到如此状态,将无法形成不同强度结面。
若浸泡过短,则无法形成低键结及键结差异,如此将使KMnO4咬蚀难以形成蜂窝面,终致影响到PTH的效果。
(2) Surface Tension 的问题:无论大小孔皆有可能有气泡残留,而表面力对孔内Wetting也影响颇大。
故采用较高温操作有助于降低Surface Tension及去除气泡。
至于浓度的问题,为使Drag out降低减少消耗而使用略低浓度,事实上较高浓度也可操作且速度较快。
在制程中必须先Wetting孔内壁,以后才能使药液进入作用,否则有空气残留后续制程更不易进入孔内,其Smear将不可能去除。
B. 除胶剂(KMnO4 ):a. 使用KMnO4的原因:选KMnO4而未选NaMnO4是因为KMnO4溶解度较佳,单价也较低。
b. 反应原理:4MnO4- + C + 40H- —MnO4= + C02 + 2H2O (此为主反应式)2MnO4- + 20H- —2MnO4= + 1/2 02 + H20 (此为高PH 值时自发性分解反应)Mn04- + H20 —Mn02 + 20H- + 1/2 02 (此为自然反应会造成Mn+4沉淀)c. 作业方式:早期采氧化添加剂的方式,目前多用电极还原的方式操作,不稳定的问题已获解决。
d. 过程中其化学成份状况皆以分析得知,但Mn+7为紫色,Mn+6为绿色,Mn+4为黑色,可由直观的色度来直接判断大略状态。
若有不正常发生,则可能是电极效率出了问题须注意。
e. 咬蚀速率的影响因素:见图7.3f. 电极的好处:(1).使槽液寿命增长(2).质量稳定且无By-product,其两者比较如图7.4:承■-:■--g. KMnO4形成Micro-rough的原因:由于Sweller造成膨松,且有结合力之强弱,如此使咬蚀时产生选择性,而形成所谓的Micro-rough。
但如因过度咬蚀,将再度平滑。
h. 咬蚀能力也会随基材之不同而有所改变i. 电极必须留心保养,电极效率较难定出绝对标准,且也很难确认是否足够应付实际需要。
故平时所得经验及厂商所提供数据,可加一系数做计算,以为电极需求参考。
C. 中和剂(Neutralizer):a. NaHSO3是可用的Neutralizer之一,其原理皆类似Mn+7 or Mm+6 or Mn+4(Neutralizer)-> Mn+2 (Soluable)b. 为免于Pink Ring,在选择Acid base必须考虑。
HCI及H2SO4系列都有,但Cl易攻击Oxide Layer,所以用H2SO4为Base的酸较佳c .药液使用消耗分别以H2SO4及Neutralizer,用Auto-dosing 来补充,7.222 .整条生产线的考虑A. Cycle time :每Rack(Basket)进出某类槽的频率(时间)B. 产能计算:(Working hours / Cycle time)*( FIight Bar / Hoist)*(Racks/FlightBar)*(SF/Rack)= SF/MonC. 除胶渣前Pre-baking对板子的影响:见图7.5MM弓O!a. 由于2.在压合后己经过两次Cure,结构会比1,3 Cure更完全,故Baking会使结构均一,压板不足处得以补偿。
b. 多量的氧,氧化了Resin间的Bon di ng,使咬蚀速率加剧2~3倍。
且使1,2,3区较均一。
c. 释放Stress,减少产生Void的机会.7.2.2.3. 制程内主要反应及化学名称A .化学反应:a . 主要反应4MnO4- + 40H- + Epoxy —4MnO4= + CO2 T + 2H2Ob. 副反应:2MnO4- + 2OH- <--> 2MnO4= + 1/2O2 + H2O (Side reaction)MnO4= + H2O (CI- /SO4= /Catalize Rx.) —MnO2j + 2GH1/2O2(Precipitation formation)2MnO4= + NaOCI + H2O —2MnO4 - + 2OH- + NaCI4MnO4= + NaS2O8 + H2SO4 —4MnO4 - + 2OH- + 2Na2SO44MnO4= + K2S2O8 + H2SO4 —4MnO4 - + 2OH- + 2K2SO4(For Chemical regeneration type process reaction)2MnO4= + 1/2 O2 + H2O <--> 2MnO4 + 2 OH-(Electrolytic reaction: Need replenish air for Oxgen consumption)B. 化学品名称:MnO4- Permanganate NaS2O8 Sodium PersulfateMn04=Mangan ate S2O4-SulfateOH-Hydroxide(Caustic)CO2Carbon DioxideNaOCI Sodium Hydrochloride MnO2 Mangan ese Dioxide7.2.24 典型的Desmear Process:见表7.225. Pocket Void 的解释:A. 说法一:Sweller 残留在Glass fiber 中,在Thermal cycle 时爆开。
B. 说法二:见图7.6a •压板过程不良Stress 积存,上钖过程中力量释出所致b •在膨涨中如果铜结合力强,而 Resin 释出Stress 方向呈Z 轴方向,当Curing 不良而Stress 过大时则易形成a 之断裂,如果孔铜结合力弱则易形成B 之Resin recession ,结合力好而内部树脂不够强轫则出现c 之Pocket voidC •如果爆开而形成铜凸出者称为Pull away 7.2.3 化学铜(PTH)PTH 系统概分为酸性及碱性系统,特性依基本观念而有不同。
723.1酸性系统:A.基本制程:Con diti oner — Microetch — Catalpretreatme nt— Cataldeposit —Accelerator —Electroless DepositB.单一步骤功能说明:a. 整孑L Conditioner :1. Desmear后孔内呈现Bipolar现象,其中Cu呈现高电位正电,Glass fiber、Epoxy 呈负电2. 为使孔内呈现适当状态,Conditioner具有两种基本功能⑴Cleaner : 清洁表面(2)Conditioner :使孔壁呈正电性,以利Pd/Sn Colloid负电离子团吸附3. 一般而言粒子间作用力大小如表因而此类药液系统会有吸附过多或Colloid过多的吸附是否可洗去之顾虑4. Conditioner 若Drag In 至Activator 槽,会使Pd+ 离子团降低b. 微蚀Microetch1. Microetching旨在清除表面之Conditioner所形成的Film2. 此同时亦可清洗铜面残留的氧化物c. 预活化Catalpretreatment1. 为避免Microetch形成的铜离子带入Pd/Sn槽,预浸以减少带入2. 降低孔壁的 Surface Tensiond. 活化 Cataldeposit1. 一般Pd 胶体皆以以下结构存在: 见图7.72. Pd2+ : Sn2+ : Cl- = 1 : 6: 12 较安定3. 一般胶体的架构方式是以以下方式结合:见图 7.8用,且其半径较大使其吸附不易良好,尤其如果孔内的 Roughness 不适当更可 能造成问题4. 孔壁吸附了负离子团,即中和形成中和电性e. 速化 AcceleratorComp ・r © 2030■ 9当吸附时由于Cl 会产生架桥作匕"讪1毎序应丽 Sfi1. Pd胶体吸附后必须去除Sn,使Pd2+曝露,如此才能在未来无电解铜中产生催化作用形成化学铜2. 基本化学反应为:Pd+2/S n+2 (HF) —Pd+2(ad) + Sn+2 (aq)Pd+2(ad) (HCHO) —Pd(s)3. 一般而言Sn 与Pd 特性不同,Pd 为贵金属而Sn 则不然,因此其主反应可如下:Sn+2a Sn+4 + 6F- —SnF6-2 or Sn+2 + 4F- —SnF4-2而Pd 则有两种情形:PH>=4 Pd+2 + 2(OH)- —Pd(OH)2PH<4 Pd+2 + 6F- —PdF6-44. Pd 吸附在本系统中本身就不易均匀,故速化所能发挥的效果就极受限制。