东南大学考研半导体物理基础(5.5)
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共 10 页 第 1 页东 南 大 学 考 试 卷(卷)课程名称 半导体物理 考试学期 11-12-2得分适用专业 电子科学与技术考试形式闭卷考试时间长度 120分钟室温下,硅的相关系数:10300.026, 1.510,i k T eV n cm -==⨯ 1932.810c N cm -=⨯1931.110v N cm -=⨯,电子电量191.610e C -=⨯。
一、 填空题(每空1分,共35分)1. 半导体中的载流子主要受到两种散射,对于较纯净的半导体 散射起主要作用,对于杂质含量较多的半导体,温度很低时,______________散射起主要作用。
2.非平衡载流子的复合率 ,t N 代表__________,t E 代表__________,当2i np n -为___________时,半导体存在净复合,当2i np n -_______时,半导体处于热平衡状态。
杂质能级位于___________位置时,为最有效复合中心,此杂质称为____________杂质。
3.纯净的硅半导体掺入浓度为17310/cm 的磷,当杂质电离时能产生导电________,此时杂质为_________杂质,相应的半导体为________型。
如果再掺入浓度为16310/cm 的硼,半导体是_______型。
假定有掺入浓度为15310/cm 的金,则金原子带电状态为__________。
4.当PN 结施加反向偏压,并增到某一数值时,反向电流密度突然__________开始的现象称为击穿,击穿分为___________和___________。
温度升高时,________击穿的击穿电压阈值变大。
5. 当半导体中载流子浓度存在_________时,载流子将做扩散运动,扩散流密度与_______成正比,比例系数称为_________;半导体存在电势差时,载流子将做 运动,其运动速度正比于 ,比例系数称为 。
6.GaAs 样品两端加电压使内部产生电场,在某一个电场强度区域,电流密度随电场强度的增大而减小,这区域称为________________,这是由GaAs 的_____________结构决定的。
《半导体物理基础》教学大纲(总学分:2.0 总上课时数:32 )东南大学电子工程系一.课程的地位与任务本课程是电子科学与技术专业类的一门专业基础课。
学生在学习“固体物理基础”课的基础上,通过本课程的学习,掌握半导体物理的基本物理概念、模型以及各种特性。
学会应用半导体物理学理论分析和处理问题的手段和方法,为学生学习其它专业课(电子器件、集成电路等)以及今后从事半导体专业工作打下一个理论基础。
二、课程内容的教学要求1`.半导体的一般特性(Basic Semiconductor Properties)(1)回顾先修课程中关于孤立原子及自由电子运动状态,半导体晶体结构,共有化运动,导体、绝缘体、半导体结构方面的知识。
(2)了解半导体材料种类及特性(3)了解硅和锗的能带结构,Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的能带结构。
2 .载流子分布(Eguilibrium Carrier Statistics)(1)熟练掌握能带及费米能级概念,以及在半导体特性分析中的应用。
(2)熟悉本征半导体和杂质半导体的导电特性,掌握施主杂质、受主杂质及杂质补偿概念。
(3)掌握状态密度,载流子的统计分布,本征半导体的载流子浓度,杂质半导体的载流子浓度,一般情况下的载流子统计分布的表示方法。
(4)熟悉载流子浓度、费米能级与温度及掺杂浓度之间的关系。
(5)掌握简并半导体和非简并半导体的概念。
3 .载流子复合-产生(Recombination-Generation)(1)掌握非子注入与复合、非平衡载流子的浓度表达式、衰减、寿命等概念。
(2)了解准费米能级概念,进而掌握非平衡状态下载流子浓度的表示方法。
(3)了解直接复合,间接复合等的复合机制。
4 .载流子的散射(Carrier Scattering)(1)晶格振动散射(2)电离杂质散射5. 载流子的漂移和扩散(Carrier Drift and Carrier Diffusion)(1)掌握载流子的漂移运动和迁移率的概念。
东南大学考研复习卷(A 卷)课程名称 半导体物理929 编辑时间得分适用专业 电子科学与技术考试形式闭卷考试时间长度 180分钟室温下=k T eV 0.0260 ,电子电量=⨯e C 1.610-19。
一、 填空题(每空1分,共35分)1. 硅原子作为杂质原子掺入砷化镓样品中,设杂质浓度为-cm 10153,其中10%硅原子取代砷,90%硅原子取代镓,如果硅原子全部电离,本征激发可忽略不计。
则该半导体为__________型半导体,10%硅原子取代砷的这些硅相当于__________杂质。
2. 半导体中掺杂浓度很高时,杂质电离能__________(填“增大、减小、不变”);在重掺杂的简并半导体中,杂质浓度很高,杂质原子相互靠近,被杂质原子束缚的电子的波函数显著重叠,这时电子作共有化运动,产生的结果是__________。
如果掺杂浓度过高,杂质能带会进入导带或者价带,能带状态密度发生变化,产生__________效应。
3. 间接复合作用下的非平衡载流子的寿命++∆=++∆+++∆τN c c n p p c n n n c p p p t n p n l p l ()()()0000,式中n l 代表__________。
已知半导体禁带宽度=E eV g 1.35,小注入条件下,复合中心能级E t 在导带底下方eV 0.12,费米能级在价带顶上方eV 0.31,则非平衡载流子的寿命可化简为__________。
4. 迁移率表示单位场强下载流子的平均漂移速度。
影响半导体载流子迁移率主要有两大因素,一个是__________,另一个是通过__________来影响平均自由时间。
5. 电中性是内建电场产生的原因。
只要破坏了电中性,就会产生扩散与漂移电流并存的情形,除了载流子浓度不均匀,__________和__________也会导致内建电场。
6. 影响pn 结内建电势差V D 的因素有__________、__________、__________等参数,在相同条件下半导体材料Si 、Ge 和GaAs 中__________的内建电势差V D 最大。
东南大学考研复习卷课程名称 半导体物理929 编辑时间得分适用专业电子科学与技术考试形式 闭卷考试时间长度 180分钟室温下=k T eV 0.0260,电子电量=⨯-e C 1.61019。
一、 填空题(每空1分,共35分)1. 设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近的能量为=+-m m k h k h k k 3E ()()00C 12222,价带极大值附近的能量=-m m k h k h k 6E ()300V 12222,其中m 0为电子质量,h 为普朗克常数,=k a21,则半导体禁带宽度为__________,价带顶电子跃迁到导带底时的准动量的变化为__________,价带顶空穴有效质量为__________。
2. 室温下,锗的禁带宽度=E eV g 0.67,估计室温下本征锗导带底的一个能态被电子占据的几率为__________。
锗价带顶的一个能态被空穴占据的几率为-103,此时费米能级的位置在__________,玻尔兹曼分布是否近似成立? __________。
3. 由间接复合作用决定的非平衡载流子寿命++∆=++∆+++∆τN c c n p p c n n n c p p p t n p n l p l ()()()0000,式中N t 代表__________。
半导体禁带宽度=E eV g 1.12,小注入条件下,复合中心能级E t 在价带顶上方eV 0.12,费米能级在导带底下方eV 0.31,则非平衡载流子的寿命可化简为__________;大注入条件下,非平衡载流子的寿命可化简为__________。
4. 室温下本征硅掺入某种杂质后,电子浓度为=⨯-n cm 1.510043,硅的本征载流子浓度=⨯-n cm i 1.510103,导带有效状态密度=⨯-cm N 2.810C 193,价带有效状态密度=⨯-cm N 1.110193。
则费米能级与价带顶的差为__________;掺入施主杂质5. 表面复合率U s 表示单位时间__________,它与__________成正比,比例系数用s 表示,反应了表面复合的强弱。