糖类化合物合成中常用保护基的脱除
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作者简介:邹晓斌(1982 ),男,江苏常熟人,硕士生,从事药物合成研究通讯联系人:居沈贵,教授,E mail:jushengui@ 收稿日期:200903 27综述与进展头孢菌素羧基保护基的脱除方法研究进展邹晓斌,薛 峰,居沈贵(南京工业大学化学化工学院,江苏南京 210009)摘 要:综述了头孢菌素C 4位羧基保护基脱除方法的研究进展,包括苯酚法、三甲基碘硅烷法、三氯化铝法等。
着重介绍了各种方法的反应机理和操作方法。
通过对各种方法优缺点的探讨,对其工业应用前景进行了展望。
关键词:头孢菌素;羧基保护基;脱除中图分类号:T Q 465 1 文献标识码:A 文章编号:1671 9905(2009)09 0026 05头孢菌素属于 内酰胺族抗生素,与青霉素相比,不仅具有与青霉素一样高效、低毒的特点,而且具有更优的耐酶、耐酸能力和更广的抗菌谱,对革兰氏阴性菌的抗菌作用强,过敏反应较少[1~3]。
目前临床上应用的头孢菌素全部都是半合成的,用于合成各种头孢菌素的母核主要有以下几种:7 ACA(7 氨基头孢烷酸),GCLE (7 苯乙酰氨基 3 氯甲基 3 头孢环 4 羧酸对甲氧苄酯),GCLH(7 苯乙酰氨基 3 氯甲基 3 头孢环 4 羧酸二苯甲酯),7 ADCA(7 氨基 3 去乙酰氧基头孢烷酸)等[4~8]。
头孢菌素C 7位取代基决定了抗菌谱,C 3位取代基可以影响药物的药代动力学和抗菌活性[9~10]。
头孢菌素一般都是以头孢母核为原料,对其C 7位和C 3位侧链进行化学改造来合成的。
以头孢母核为原料,进行C 7位和C 3位化学改造前,C 4位羧基一般都要用保护基形成酯,在C 7位和C 3位改造完成后再进行脱除[11~13]。
头孢母核C 4位羧基保护基的脱除反应是头孢菌素合成路线中一步关键反应,也是必须完成的。
而在实际操作中,这步反应往往脱除效果不佳,收率较低。
常用的羧基保护基有对甲氧苄基,二苯甲基,叔丁基等[14~17]。
有机合成中的保护基团技术有哪些应用在有机合成的广袤领域中,保护基团技术宛如一位默默无闻却至关重要的幕后英雄。
它就像是为有机分子穿上了一层“防护服”,在复杂的反应环境中保护特定的官能团不受干扰,从而实现精准、高效的合成目标。
那么,保护基团技术究竟在哪些方面有着广泛而重要的应用呢?首先,我们来谈谈在多官能团化合物合成中的应用。
当一个有机分子拥有多个不同的官能团,且在合成过程中需要对其中某个特定官能团进行选择性反应时,保护基团就派上了大用场。
例如,在合成具有羟基和羧基的化合物时,如果我们只想对羧基进行反应,那么就可以先将羟基用合适的保护基团保护起来。
这样,后续的反应试剂就只会与未被保护的羧基发生作用,避免了羟基受到影响。
当羧基的反应完成后,再通过特定的条件去除保护基团,使羟基“重见天日”,继续参与后续的反应。
保护基团技术在糖类化合物的合成中也扮演着不可或缺的角色。
糖类分子通常具有多个羟基,而在合成特定结构的糖衍生物时,往往需要对某些羟基进行选择性修饰。
通过引入保护基团,可以精确地控制反应发生的位置和顺序。
比如说,在合成寡糖的过程中,为了实现特定的糖苷键连接,需要对不同位置的羟基进行有选择的保护和去保护操作,从而构建出复杂而精确的糖链结构。
在肽和蛋白质的合成中,保护基团同样发挥着关键作用。
氨基酸具有氨基和羧基等多个反应性官能团,在逐步合成肽链的过程中,需要对氨基或羧基进行选择性保护,以确保反应的准确性和选择性。
常用的氨基保护基团如苄氧羰基(Cbz)和叔丁氧羰基(Boc),羧基保护基团如甲酯和乙酯等。
通过在适当的步骤引入和去除这些保护基团,可以实现从简单的氨基酸逐步构建出具有特定序列和结构的肽和蛋白质。
药物合成是保护基团技术大展身手的另一个重要领域。
许多药物分子具有复杂的结构和多个活性官能团。
在合成过程中,为了提高反应的选择性、产率和纯度,常常需要运用保护基团策略。
例如,在合成含有氨基和酚羟基的药物分子时,可以先将酚羟基保护起来,然后对氨基进行一系列的反应,最后再去除酚羟基的保护基团进行进一步的修饰。
第23卷 第2期2009年 5月山 东 轻 工 业 学 院 学 报JOURNAL OF SHANDONG I N STIT UTE OF L I GHT I N DUSTRY Vol .23 No .2Mar . 2009收稿日期:2009-01-05基金项目:国家自然科学基金资助项目(20374035),教育部新世纪人才计划(NCET -07-0521)作者简介:赵艳(1983-),女,山东省济南市人,山东轻工业学院材料科学与工程学院硕士研究生,研究方向:材料学.文章编号:1004-4280(2009)02-0006-02N 2Boc 保护基脱除的原理与方法简介赵 艳,姚金水,戴 罡,呼建强(山东轻工业学院材料科学与工程学院,山东济南250353)摘要:叔丁氧羰基(Boc )作为氨基的重要保护基团在有机合成中已有广泛应用,其脱保护反应的研究不仅决定了合成的成败,而且也会影响反应能否继续进行,因此是合成反应中及其重要的环节。
本文综合实例,介绍了N 2Boc 基团脱保护反应的原理与具体方法。
关键词:N 2Boc;三氟乙酸;脱保护中图分类号:O631 文献标识码:AResearch on M echan is m s and M ethods of Deprotecti on of N 2BocZHAO Yan,Y AO J in 2shui,DA I Gang,HU J ian 2qiang(School of Material Science and Engineering,Shandong I nstitute of L ight I ndustry,J inan 250353,China )Abstract:The a m ino p r otective gr oup Boc has been widely used in organic synthesis and the research of dep r otecti on influence not only the synthesis of success,but als o the whole reacti on .So dep r otecti on is greatly i m portant .This paper studys the Mechanis m s and Methods of Dep r otecti on of N 2Boc .Key words:N 2Boc;TF A;dep r otecti on0 引言多官能团化合物(如氨基酸)合成反应中要注意解决两个问题。
thp保护基团结构【最新版】目录1.THP 保护基团的概念2.THP 保护基团结构的特点3.THP 保护基团的应用4.THP 保护基团的去除方法正文1.THP 保护基团的概念THP 保护基团,全称为三羟甲基保护基团,是一种有机化合物中的基团。
在有机合成中,THP 保护基团经常被用于保护某些化合物中的敏感官能团,防止它们在反应过程中被破坏。
这种保护基团结构可以在反应完成后通过一定的方法被去除,从而恢复原有的化学结构。
2.THP 保护基团结构的特点THP 保护基团结构具有以下几个主要特点:(1)稳定性:THP 保护基团在大多数有机溶剂中都具有良好的稳定性,不易水解和脱保护。
(2)兼容性:THP 保护基团可以与其他保护基团结构共存,不发生反应。
(3)可逆性:THP 保护基团可以在适当的条件下被去除,恢复原有的化学结构。
(4)易于合成:THP 保护基团的合成方法较为简单,可通过多种途径实现。
3.THP 保护基团的应用由于 THP 保护基团结构的稳定性和可逆性,使其在有机合成领域具有广泛的应用。
以下是 THP 保护基团的一些典型应用:(1)合成氨基酸衍生物:在多肽和蛋白质合成中,THP 保护基团可以用于保护氨基酸中的羧基,防止它们在合成过程中被破坏。
(2)合成糖类衍生物:在糖类合成中,THP 保护基团可以用于保护糖基上的羟基,防止它们在反应过程中被破坏。
(3)合成核苷酸衍生物:在核苷酸合成中,THP 保护基团可以用于保护核苷酸中的磷酸基团,防止它们在反应过程中被破坏。
4.THP 保护基团的去除方法THP 保护基团可以通过以下几种方法去除:(1)酸解法:在酸性条件下,THP 保护基团可以被水分子攻击,形成较稳定的甲酸酯,从而实现去保护。
(2)碱解法:在碱性条件下,THP 保护基团可以被水分子攻击,形成较稳定的甲酸酯,从而实现去保护。
(3)酶解法:利用特定的酶,如酯酶,可实现对 THP 保护基团的选择性去除。
苄醚主要是氢化去保护,胺对钯催化剂的慢性毒化。
用化学方法进行脱苄基苄醚类主要有苄基,对甲氧苄基及三苯甲基醚苄基醚保护与去保护事例对甲氧基苄基醚一般而言,对甲氧基苄醚在合成中更为常用,羟基上对甲氧基苄基的方法和苄基类似,但脱除除了氢解的方法外,还可以氧化除去氨基保护基2,4-二甲氧基苄基(DMB )是较稳定的氨基保护基之一, 对催化氢解较Cbz 、PMB 和Bn 稳定,故用H2/8%Pd-C/EtOH 处理,则可除去Bn ,而保留N-DMB在设计合成路线时,2,4-二甲氧基苄胺常被用为氨的等价物加以使用。
DMB 容易用酸脱去,如用TFA, TosOH 或HCl 的有机溶液在0℃或室温即可顺利除去。
采用TFA/i -Pr3SiH/CH2Cl2时,N-Fmoc 可以稳定不动。
其他如DDQ /CH2Cl2也能很方便的脱去DMB ,而叔丁酯和N-Boc 可以不受影响。
S F N DMBO O30%TFA/CH 2Cl 2S F NH O Oor 1N HCl/THF87%Org.Lett.,2004,6(23),4285对甲氧基苄基(PMB )在Bn 存在下,可用CAN 或DDQ 氧化选择脱PMB ;同样,在Boc 和叔丁酯存在下,可用CAN 氧化选择脱PMB ;也可用H2/Pd(OH)2去掉Bn ,而保留PMB 常规的催化氢解苄基(Bn )比PMB 更加稳定,因而也更难脱除 由于胺对钯催化剂的慢性毒化使得反应通常较慢,甚至反应不彻底.一般加酸或Boc2O 促进Bn 的离去。
用化学方法进行脱苄基。
一般常用的方法是CH3CHClOCOCl 氯甲酸氯乙酯、溴腈和CCl3CH2OCOCl 三氯乙基氯甲酸酯 /CH3CN ,也可以Li/MH3、Na/NH3、CANMe N Ph Ph NH Ph Ph DDQ CH 2Cl 2,H 2O O O O O 79%Tr ans.1,2000,22(1),37652Et N PMB Ph MeCl NH H Ph Me CAN(3eq.)MeCN,H 2O87%Syn.Lett.,2000,91336H HOOH HO O NHBn O H H CF 3CO 2H 77%J.Med.Chem.,1998,41(11581Na/NH THF, -33°C 66%J. Org. Chem., 2003, 68(6), 2343MeONPh MeONHCAN (2.1 eq)OO OO 273%J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1, 2001, 23, 3106S N EtO 2C CH 2Ph 223S N EtO 2C CO 2CH 2CCl 3S NHEtO 2CZn/HOAc88%J. Org. Chem., 1987, 52, 19机理:应用于脱去三级胺上的烷基, 所得氨基甲酸酯在甲醇中加热,即可脱去甲酸酯基得到高收率的仲胺。
有机合成中的新型保护基及其反应研究在有机合成中,保护基是一种常用的化学策略,用于保护化合物中的特定官能团或化学键,以防止不必要的反应发生。
新型保护基的研究和开发对于改进有机合成的效率和选择性具有重要意义。
本文将介绍几种新型保护基及其在有机合成中的应用,并探讨其反应机理和优越性。
一、脱甲基三氟硼基(BnOTf)保护基脱甲基三氟硼基是一种常用的保护基,具有高度的稳定性和可逆性。
其在醇类和胺类化合物中的应用得到了广泛研究。
例如,将醇与BnOTf反应可以得到相应的BnO保护醚,通过进一步的反应可以去除BnO保护基,恢复醇的反应性。
这种反应可在中性条件下进行,避免了使用强碱或强酸所产生的废液处理问题。
二、三氟乙酰基(TFA)保护基三氟乙酰基是一种常用的保护基,具有良好的稳定性和选择性。
其在胺类和羧酸类化合物中的应用被广泛研究。
例如,在胺类化合物中引入TFA保护基可以有效阻止胺基的亲电取代反应和氧化反应,从而保护胺官能团。
在需要去除保护基的时候,可以使用碱性条件或有机碱催化下的中性条件进行脱保护反应。
三、硅保护基硅保护基是有机合成中常用的保护策略之一,具有较高的稳定性和可逆性。
硅保护基多用于保护醇羟基和胺基。
例如,在糖类合成中,可使用硅保护基来保护羟基,防止其在反应中发生不必要的反应。
硅保护基还可通过酸催化条件进行脱保护反应,恢复官能团的反应性。
四、新型氨基甲酸酯保护基氨基甲酸酯保护基是一类新型保护基,具有较好的稳定性和可逆性。
其在胺类和羟基化合物中的应用受到了广泛关注。
例如,在生物活性分子的合成中,可通过引入氨基甲酸酯保护基来保护羟基或胺基,以防止其在反应中发生意外的转化或反应。
在需要去除保护基的时候,可以使用酸性条件进行脱保护反应。
总结起来,新型保护基的研究和应用为有机合成提供了更多的选择和便利。
这些保护基具有较高的稳定性和可逆性,可在特定的反应条件和环境下进行脱保护反应,恢复原有的官能团活性。
随着对新型保护基的研究深入,相信会有更多的新型保护基被发现,并在有机合成中发挥重要的作用。
糖类化合物合成中常用保护基的脱除2008-12-04 17:00一、苄醚类除了极少情况下以外,苄基在寡糖合成中是作为永久性保护基的,最后可以催化氢化脱去。
而在苄基苯环的邻对位附加一些基团可以使其具有一定的选择性。
对氨基苄基类:对三甲基乙酰胺基苄基(PAB),酸稳定,用2,3-二氯-5,6-二氰-1,4-二苯醌氧化除去。
对叠氮基苄基(Azb)和对叠氮基间氯苄基(ClAzb):氧化断裂,在酸性环境下稳定,转化为氨基正离子后便可通过氧化选择性的离去。
对卤基苄基:与苄基一样稳定,经过钯催化氨化后很容易就被质子酸或路易斯酸除去,后来Wong 引入了纳米钯使得苄基从树脂上选择性的脱下成为可能。
改成卤素取代基,又可以增加此类基团的选择性。
以上所有新的苄基保护基,在寡糖合成中能作为临时保护基,被选择性脱除,它们也已经在固相合成复杂寡糖和和支链糖结构中,作为临时保护基得到应用二、碱不稳定保护基乙酰基(Ac),苯甲酰基(Bz)和三甲基乙酯(Piv)保护基:作为具有邻基参与基团功能的保护基,被广泛用于寡糖固相合成。
用过量的甲醇钠即可脱去,在很短时间内能定量地得到游离羟基.三甲基乙酯(Piv)作保护基偶联时没有酰基迁移和原酸酯现象,脱保护可以用甲醇钠。
在可溶性聚合物载体上,也有报道用1,5-二氮双环[5.4.0]-十一-5-烯(DBU)或Hünig碱的,还有用胍和盐酸的。
氯乙酰基(CA):可以在甲氧基乙醇中用硫脲脱去。
苯氧乙酰基:在CPG上合成寡糖时用过量的胍反复处理便可脱去乙酰丙酯(Lev):作为保护基可以促进a选择性,脱保护用甲醇钠,醋酸缓冲的肼也可以将其选择性脱去。
能和9-芴-甲氧基酰基(Fmoc)在固相合成上联用。
三氯乙氧基酰基(Troc):可用甲醇钠脱去。
在活化锌相对温和的条件下也可以脱去。
9-芴-甲氧基酰基(Fmoc):很早就在肽合成里作为氮保护基,最近在寡糖固相合成里也得到了广泛应用,可用20%三乙胺脱去,肼和醋酸的二氯甲烷/甲醇溶液也可以将其脱去,而对保护基乙酰丙酯(Lev)没有影响。
邻苯二甲酰基(Phth):只有这一氨基保护基现在被广泛用于寡糖固相合成,缺点是强碱条件下部分分解,另外,它在C-2位时会降低C-3位羟基糖基化速率,以氨基甲酸酯形式存在的N保护基三氯乙氧基酰基(Troc)则避免了这些缺点,糖基化产率比相应用邻苯二甲酰基保护的高。
N-三氟乙酰基:用氢氧化锂(甲醇-四氢呋喃)脱保护。
二硫琥珀酰基(Dts)、叠氮基和芳硫氨基也能作氨基保护基。
三、酸不稳定保护基由于偶联环境经常是酸性的,所以酸不稳定保护基比碱不稳定保护基用得少,以下列出应用这类保护基以及脱保护试剂的例子:二甲氧基三苯甲基(DMT):2%二氯乙酸(CH2Cl2)脱除三苯甲基(Tr) :4%TFA(CH2Cl2)脱除4,6-苄叉基:60%乙酸脱除乙氧乙醚:催化量的对甲苯磺酸脱除四氢吡喃:冰醋酸(THF)脱除1-甲基-1’-环丙烷基甲基(MCPM):10% TFA/CH2Cl2脱除。
四、硅醚保护基硅醚保护基离去方便,所用的去除条件一般不影响其他保护基,所以是很受欢迎的一类临时保护基。
以下列出的是用在固相寡糖合成上的这类保护基以及脱保护试剂:叔丁基二甲基硅醚(TBDMS):氟化氢/吡啶脱伯羟基保护基;氯化氢/甲醇脱伯羟基保护基;四丁基氟化铵(TBAF)脱仲羟基保护基。
三异丙基硅醚(TIDS):四丁基氟化铵(TBAF)脱伯羟基保护基。
叔丁基二苯基硅醚(TBDPS):氟化氢/吡啶脱除:三乙基硅醚(TES):氟化氢/吡啶脱除五、其它保护基除了上述几大类保护基以外,为满足高度支化的寡糖结构合成的需要,其它一些互不干扰的特殊保护基团也得到了开发。
烯丙基醚保护基:用Ir{(COD)[PCH3Ph22]}PF6以及Pd类多种复合化合物脱除。
硼二酯:水解脱除。
4-叠氮基-3-氯苯基(ClAzb):用三苯基磷还原后,在酸性或氧化下脱除有机缩写(2007-04-28 22:12:26)标签:科学分类:化学缩写词9-BBN 9-borabicyclo[3.3.1]nonane 9-硼杂双环[3.3.1]壬烷Ac acetyl 乙酰基AIBN 2,2’-azobisisobutyronitrile 2,2’-偶氮二异丁腈AIDS acquired immunodefiency syndrome 爱滋病Ar aryl 芳基AcCl acetyl chloride 乙酰氯AD asymmetric dihydroxylation 不对称双羟基化tert-AmOH tert-amyl alcohol = 2-methyl-2-butanol 2-甲基-2-丁醇BINAL-H 2,2’-dihydroxy-1,1’-binaphthylaluminum hydride2,2’-二羟基-1,1’-联萘氢化铝Bn benzyl 苄基BOC tert-butyloxycarbonyl 特丁氧羰基BOP benzotriazol-1-yl-oxytris(dimethylamino)phosphonium hexafluorophosphate苯并三唑-1-氧三(二甲胺基)鏻六氟磷酸盐Bt benzotriazole 苯并三唑Bz benzoyl 苯甲酰基BINAP 2,2’-bis(diphenylphosphino)-1,1’-binaphthyl 2,2’-二(二苯基膦)-1,1’-联萘(R)-, (S)-Binol 1,1’-bis-2-naphthol 1,1’-联二-2-萘酚nBu n-butyl 正丁基tBu tert-butyl 特丁基CAN ceric (IV)-ammonium nitrate 硝酸铵高铈CBZ benzoyl carbonyl 苄氧羰基CDI N,N’-carbonyldiimidazole N,N’-羰基二咪唑CSA camphorsulphonic acid 樟脑磺酸Cp cyclopentadienyl 环戊二烯基Cy cyclohexane 环己烷DAST diethylaminosulfurtrifluoride 二乙基三氟硫基胺dba dibenzylideneacetone 二亚苄基丙酮DBU 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene 1,8-二氮双环[5.4.0]十一碳-7-烯DCC 1,3-dicyclohexylcarbodiimide二环己基碳二亚胺DET diethyl tartrate 酒石酸二乙酯DHQ dihydroquinine 二氢奎宁DHQD dihydroquinidine 二氢奎纳定DIAD diisopropyl azodicarboxylate 偶氮二甲酸二异丙酯DIBAH diisobutylaluminum hydride 二异丁基氢化铝DIPT diisopropyl tartrate 酒石酸二异丙酯DMAP 4-dimethylaminopyridine 4-二甲胺基吡啶DMDO dimethyldioxirane 二甲基双环氧乙烷DME dimethoxyethane 二甲氧基乙烷DMF N,N-dimethylformamide N,N-二甲基甲酰胺DMPM 3,4-dimethoxybenzyl 3,4-二甲氧基苄基DMS dimethylsulfide 二甲基硫醚DMSO dimethylsulfoxide 二甲亚砜DDQ 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone 2,3-二氯-5,6-二氰-1,4-苯醌DEAD diethylazodicarboxylate or azodicarboxylic acid diethylester偶氮二甲酸二乙酯DHP 2,3-dihydropyran 2,3-二氢吡喃DMPU 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro-2(1H)-pyrimidinone1,3-二甲基-3,4,5,6-四氢-2(1H)-嘧啶酮DMT 4,4’-dimethoxytriphenylmethyl chloride 4,4’-二甲氧基三苯基氯甲烷dppp 1,3-bis-(diphenylphosphino)-propane 1,3-双(二苯膦基)丙烷dr diastereomeric ratio 非对映比率EDC N-(3-dimethylaminopropyl)-N’-ethylcarbodiimide hydrochlorideN -(3-二甲胺丙基)- N’-乙基碳二亚胺盐酸盐ee enantiomeric excess 对映体过量EBTHI ethylenebis(tetrahydroindenyl) 1,2-二(四氢茚基)乙烷Et2O diethyl ether 乙醚GMP guanosine monophosphate 鸟苷单磷酸HIV human immunodeficiency virus 艾滋病病毒HMPA hexamethylphosphorus triamide 六甲基膦酰三胺HOBT 1-hydroxybenzotriazole 1-羟基苯并三唑HOMO highest occupied molecular orbital 最高占据分子轨道IBX 1-hydroxy-1,2-benziodoxol-3(1H)-one-1-oxide1-羟基-1,2-苯碘酰-3(1H)-酮-1-氧化物。
im imidazole 咪唑Ipc isopinocamphenyl 异松蒎基IBD (diacetoxyiodo)-benzene 二乙酰氧碘苯IPOTMS isopropenyloxytrimethylsilane 异丙稀氧基三甲基硅烷KHMDS potassium hexamethyldisilazide 六甲基二硅胺钾LACDAC Lewis acid catalyzed diene-aldehyde cyclocondesation路易斯酸催化的二烯与醛环缩合反应LDA lithium diisopropylamide 二异丙基胺锂LUMO lowest unoccupied molecular orbital 最低未占据分子轨道LAH lithium aluminium hydride 氢化铝锂MCPBA meta-chloroperbenzoic acid 间氯过氧苯甲酸MOM methoxymethyl 甲氧甲基Ms methanesulfonyl 甲磺酰基MTBE methyl-tert-butyl ether 甲基特丁基醚MOPH MoO5*pyridine*HMPA MoO5*吡啶*六甲基膦酰三胺MsCl methanesulfonyl chloride 甲磺酰氯NaHMDS sodium hexamethyldisilazide 六甲基二硅胺钠NBS N-bromosuccinimide N-溴代琥珀酰亚胺NCS N-chlorosuccinimide N-氯代琥珀酰亚胺NMM 4-methyl-4-morpholine 4-甲基-4-吗啉NMO N-methylmorpholine-N-oxide N –甲基吗啉-N-氧化物nBu nbutyl 正丁基NIS N-iodosuccinimide N-碘代琥珀酰亚胺PCC pyridinium chlorochromate 氯铬酸吡啶鎓盐PDC pyridinium dichromate 重铬酸吡啶鎓盐PDE phosphonodiesterase 磷酸二酯酶PEG polyethylene glycol 聚乙二醇PHAL phthalazine 2,3-二氮杂萘Piv pivaloyl新戊酰基PMB para-methoxybenzyl 对甲氧基苄基PPTS pyridinium para-toluenesulfonate 对甲苯磺酸吡啶鎓盐PTS para-toluenesulfonic acid 对甲苯磺酸py pyridine 吡啶PYDZ pyridazine 哒嗪PYR diphenylpyrimidine 二苯基嘧啶Pd/C palladium on activated charcoal 钯碳PMPh p-methoxyphenyl 对甲氧基苯基PPA polyphosphoric acid 多聚磷酸iPr isopropyl 异丙基nPr n-propyl 正丙基PTSA p-toluenesulfonic acid 对甲苯磺酸RCM ring closing metathesis 关环复分解反应ROM ring opening metathesis 开环复分解反应Red-Al sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminium hydride二(2-甲氧基乙氧基)氢化铝钠SDMA Red-Al 二(2-甲氧基乙氧基)氢化铝钠SET single electron transfer 单电子转移SMEAH Red-Al 二(2-甲氧基乙氧基)氢化铝钠SRS selfregeneration of stereocentres 手性中心的自再生TBAF tetrabutylammonium fluoride 四正丁基氟化铵TBAI tetrabutylammonium iodide 四正丁基氟化铵TBS tert-butyldimethylsilyl 特丁基二甲基硅基TBSCl tert-butyldimethylsilyl chloride特丁基二甲基氯化硅Tf trifluoromethanesulfonyl 三氟甲磺酰基TFA trifluoracetic acid 三氟乙酸TFAA trifluoracetic anhydride 三氟乙酸酐THP tetrahydropyran 四氢吡喃TMS trimethylsilyl 三甲基硅基TMSCN trimethylsilyl cyanide 三甲基氰化硅TMSOTf trimethylsilyltrifluoromethanesulfonate 三甲基硅基三氟磺酸酯TNT 2,4,6-trinitrotoluene 2,4,6-三硝基甲苯pTol p-tolyl 对甲苯基TPAP tetrapropylammonium perruthenate 四正丙基过钌酸铵TPS tert-butyldiphenylsilyl 特丁基二苯基硅基TsCl p-toluenesulfonyl chloride 对甲苯磺酰氯p-TsOH (PTS) p-toluenesulfonic acid 对甲苯磺酸TAS-F tris-(dimethylamino)-sulfur-(trimethylsilyl)-difluoride(三甲硅基)二氟化三(二甲胺)锍TBABr tetra-n-butylammonium bromide 四正丁基溴化铵TBAT tetra-n-butylammonium triphenyltrifluorosilicate四正丁基三苯基三氟硅酸盐TBCO 2,4,4,6-tetrabromocyclohexadienone 2,4,4,6-四溴环己二烯酮TDS thexyldimethylsilyl (2,3-二甲基-2-丁基)二甲基硅基TEMPO 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy (free radical)2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧(自由基)Teoc 2-(trimethylsilyl)ethoxycarbonyl 2-(三甲基硅基)乙氧酰基TES triethylsilyl 三乙基硅基TIPS triisopropylsilyl 三异丙基硅基TMEDA N, N, N’, N’-tetramethylethylendiamine N, N, N’, N’-四甲基乙二胺TPP 5,10,15,20-tetraphenyl-21H,23H-porphine5,10,15,20-四苯基-21H,23H-卟吩TPPTS triphenylphosphine-3,3’,3’’-trisulfonic acid trisodium salt三苯基膦-3,3’,3’’-三磺酸三钠WSC water soluble carbodiimidazole (see EDC)水溶性的羰基二咪唑(见EDC)化学专业英语词汇常用前后缀&简单命名方法(2007-03-24 23:34:46)分类:化学-acetal 醛缩醇acetal- 乙酰acid 酸-al 醛alcohol 醇-aldehyde 醛alkali- 碱allyl 丙烯基alkoxy- 烷氧基-amide 酰胺amino- 氨基的-amidine 脒-amine 胺-ane 烷anhydride 酐anilino- 苯胺基aquo- 含水的-ase 酶-ate 含氧酸的盐、酯-atriyne 三炔benzene 苯bi- 在盐类前表示酸式盐bis- 双-borane 硼烷bromo- 溴butyl 丁基-carbinol 甲醇carbonyl 羰基-caboxylic acid 羧酸centi- 10-2chloro- 氯代cis- 顺式condensed 缩合的、冷凝的cyclo- 环deca- 十deci 10-1二-dine 啶dodeca- 十二-ene 烯epi- 表-ester 酯-ether 醚ethoxy- 乙氧基ethyl 乙基fluoro- 氟代-form 仿-glycol 二醇hemi- 半hendeca- 十一hepta- 七heptadeca- 十七hexa- 六hexadeca- 十六-hydrin 醇hydro- 氢或水hydroxyl 羟基hypo- 低级的,次-ic 酸的,高价金属-ide 无氧酸的盐,酰替…胺,酐-il 偶酰-imine 亚胺iodo- 碘代iso- 异,等,同-ite 亚酸盐keto- 酮ketone 酮-lactone 内酯mega- 106meta- 间,偏methoxy- 甲氧基methyl 甲基micro- 10-6milli- 10-3mono- ( mon-) 一,单nano- 10-9nitro- 硝基nitroso- 亚硝基nona- 九nonadeca- 十九octa- 八octadeca- 十八-oic 酸的-ol 醇-one 酮ortho- 邻,正,原-ous 亚酸的,低价金属oxa- 氧杂-oxide 氧化合物-oxime 肟oxo- 酮oxy- 氧化-oyl 酰para- 对位,仲penta- 五pentadeca- 十五per- 高,过petro- 石油phenol 苯酚phenyl 苯基pico- 10-12poly- 聚,多quadri- 四quinque- 五semi- 半septi- 七sesqui 一个半sexi- 六sulfa- 磺胺sym- 对称syn- 顺式,同,共ter- 三tetra- 四tetradeca- 十四tetrakis- 四个thio- 硫代trans- 反式,超,跨tri- 三trideca- 十三tris- 三个undeca- 十一uni- 单,一unsym- 不对称的,偏位-yl 基-ylene 撑(二价基,价在不同原子上)-yne 炔AndrewSiyer:(by monopoly)简单有机物的命名就是主链词头比如propa-/buta-/penta-/hexa--ane/-ene/-yne,然后比如烯炔,1,3-dien-5-yne然后再加-ol/-amine/-al/-one/-oic acid通俗命名法里这些也是可以叠加的,比如phenyl propanol amine系统命名法里,除了主官能团以外的基团就得用取代基词头hydroxy-/amino-/formyl-/oxo- or keto-/carboxyl-。