X射线光电子能谱分析
- 格式:doc
- 大小:35.50 KB
- 文档页数:4
X射线光电子能谱分析法X射线光电子能谱分析法(XPS)是一种常用的表面分析技术,它通过测量材料表面的X射线光电子能谱来研究材料的化学组成、表面形貌以及表面电子结构等信息。
XPS技术具有高表面分辨率、高化学分辨率和宽能量范围等优点,被广泛应用于材料科学、表面科学和界面科学等领域。
下面将详细介绍XPS的原理、仪器结构、测量步骤以及应用。
XPS的原理:XPS基于光电效应,即当光子与物质相互作用时,能够使物质中的电子获得足够的能量从而被抛出。
通过测量被抛出的光电子的能量以及其强度,可以得到材料表面的各种信息。
XPS谱图由两个平行的轴表示,一个是电子能量轴,用来表示光电子的能量,另一个是计数轴,用来表示光电子的强度。
XPS的仪器结构:XPS的典型仪器结构包括光源、透镜系统、分析室、光电子能谱仪、多道分析器和检测器等部分。
其中,光源产生具有特定能量和强度的X射线,透镜系统用于聚焦X射线到样品表面,分析室用于保持真空环境,并可进行样品的表面清洁和预处理,光电子能谱仪用于测量光电子能谱,多道分析器用于对光电子的能量进行分析,检测器用于测量光电子的强度。
XPS的测量步骤:1.样品表面处理:对于有机材料,样品表面可能存在有机污染物,需要通过加热或离子轰击等方法进行表面清洁。
对于无机材料,一般不需要进行表面处理。
2.真空抽取:将样品放入真空室中,并进行抽取,以保证测量时的真空环境。
3.光源和透镜系统调节:调节光源的能量和透镜系统的聚焦,使其能够产生精确的X射线束。
4.测量样品表面:将样品置于X射线束中,测量样品表面的X射线光电子能谱。
5.数据分析:对测量得到的光电子能谱进行分析,得到材料的化学组成、表面形貌以及表面电子结构等信息。
XPS的应用:1.表面化学组成分析:XPS可以确定材料表面的元素组成和化学状态,对于催化剂、薄膜材料等具有重要意义。
2.表面形貌研究:通过测量不同位置的XPS谱图,可以了解材料表面的形貌特征,如晶体结构、晶粒尺寸等。
X射线光电子能谱分析法X射线光电子能谱分析法(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)是一种非常重要的表面分析技术,广泛应用于材料科学、化学、表面物理、生物技术和环境科学等领域。
本文将对X射线光电子能谱分析法进行详细介绍,包括基本原理、仪器分析系统和应用领域。
一、基本原理X射线光电子能谱分析法是利用X射线照射固体表面,使其产生光电子信号,并通过测量光电子的动能和数量,来确定样品表面的化学成分及其状态。
其主要基于光电效应(photoelectric effect)和X射线物理过程。
光电效应是指当光子入射到固体物质表面的时候,会将表面电子激发到导带或导带以上的能级上,并逃离固体形成受激电子。
这些逃逸的电子称为光电子,其动能与入射光子的能量有关。
X射线物理过程主要包括光子的透射、散射和与原子内电子的相互作用等。
当X射线入射到固体表面时,会发生漫反射和荧光特性,造成信号的背景噪声。
同时,X射线的能量足够高,可以与样品的内层电子发生作用,如光电子相对能谱(Photoelectron RELative Energies)和化学平移分量(Chemical Shift)等。
二、仪器分析系统X射线光电子能谱分析系统包括光源、样品室、分析仪和检测器等。
光源常用的是具有较窄X射线能谱线宽的准单色X射线源,如AlKα线或MgKα线。
样品室的真空度一般要达到10^-8Pa左右,以避免空气对样品的干扰。
分析仪是用于测量光电子动能和数量的关键部件,常见的配备有放大器、电子能谱仪和角度分辨收集器等。
放大器将来自检测器的信号放大,并进行滤波处理以滤除高频噪声。
电子能谱仪是用于测量光电子动能的装置,一般包括一个径向入射、自由运动的光电子束和一个动能分析系统。
角度分辨收集器则用于测量光电子的角度分布。
检测器用于测量光电子的数量,常见的有多种类型的二极管(如能量分辨二极管和多道分析器)和面向瞬态X射线源的时间分辨仪器。
X射线光电子能谱分析X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy,简称XPS)是一种用来表征材料表面元素化学状态和电子能级分布的表征技术。
它利用X射线照射材料表面,测量和分析材料表面光电子的能谱,通过分析能谱图可以得到有关材料的化学组成、表面化学键的种类和键长、元素的电子与核心电子之间的相互作用等信息。
本文将对X射线光电子能谱分析技术的原理、仪器设备及应用领域进行详细介绍。
X射线光电子能谱分析的原理可以用以下几个步骤来概括:首先,用X射线照射材料表面,激发材料表面的原子和分子。
然后,从激发的原子和分子中发射出光电子。
这些光电子的能量与产生它们的原子或分子的能级差有关。
最后,测量和分析这些光电子的能谱,从而得到材料表面的化学组成和电子能级分布信息。
为了进行X射线光电子能谱分析,需要使用专门的仪器设备,包括X射线源、能量分辨光电子能谱仪和电子能谱仪。
X射线源通常使用非常亮的单晶或多晶X射线管。
光电子能谱仪用来测量光电子的能谱,并将所获得的信号转化为能谱图。
电子能谱仪则用来检测、放大和记录电子能谱图。
X射线光电子能谱分析可以在多个领域应用,具有广泛的研究意义和实际应用价值。
在材料科学领域,它可以用来表征材料表面的成分和化学状态,研究材料的性质和行为;在表面科学领域,它可以研究表面的形貌和变化,探索表面的特性和反应;在催化剂和材料化学领域,它可以分析催化剂的表面状态和反应过程;在电子器件和光学器件领域,它可以研究界面和界面化学反应的机理等。
总结起来,X射线光电子能谱分析是一种非常重要的表征技术,可以提供关于材料表面的成分、化学状态和电子能级分布等信息。
通过XPS技术,可以探索材料的性质、表面的形貌以及材料的化学反应机理等,对于材料科学、表面科学、催化剂和电子光学器件等领域的研究和应用具有重要意义。
X射线光电子能谱分析X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是一种重要的表面分析技术,广泛应用于物质表面成分、电子态和化学状态的研究。
本文将从XPS的原理、仪器构成、数据分析以及应用等方面进行详细介绍。
XPS原理基于光电效应,即当材料表面受到X射线照射后,光电子从表面脱离。
这些脱离的光电子具有一定的动能,其动能与被照射材料的原子核和电子状态相关。
通过测量脱离光电子的动能和相应的能谱,可以获得材料表面的成分和电子结构等信息。
XPS仪器通常由X射线源、光学系统、光电子能谱仪以及数据采集与分析系统组成。
X射线源通常采用非常纯净的铝或镁,通过加热产生X射线,其能量通常在0.5-2.5 keV范围内。
光学系统将X射线聚焦在材料表面,使其与表面相互作用。
此外,还需要一个真空系统以及样品调节装置,以保证实验过程的可靠性。
在光电子能谱仪中,光电子在进入光学透镜之后,通过缝隙进入光谱学荧光屏,其中光电子会击中荧光屏产生荧光,然后荧光被光电二极管或者多道采集系统接收。
通过测量光谱的能量分布,可以得到XPS的能谱图像。
数据采集与分析系统用于处理和分析得到的XPS数据。
根据样品组成和光电子的能量分布,可以识别和测量各种元素的化学状态和含量。
此外,还可以通过能级分别效应等技术,研究材料的表面电子结构和化学键性质。
XPS在材料科学和表面化学等领域具有广泛的应用。
首先,XPS被广泛应用于材料表面组分分析。
通过测量光电子的能量分布,可以确定元素的存在和相对含量,从而判断材料的组成。
其次,XPS可以提供元素的化学状态信息,即原子与其他元素的化学键类型和性质。
这对于研究各种材料的界面和表面反应具有重要意义。
此外,XPS还可以通过研究表面电荷分布和电子能带结构等信息,研究材料的电子结构与性质。
总结来说,X射线光电子能谱是一种重要的表面分析技术,可以提供材料的组分、化学状态以及电子结构等信息。
x射线光电子能谱分析X射线光电子能谱(XPS)也叫表面分析,是一种用于表征固体表面分子结构和化学组成的技术。
它是一种利用穿透表面层、激发离子并观察它们的发射来获取关于表面结构的信息的有效方法。
XPS是一种非接触性的表面技术,可以用于多样的表面系统,而不受其外部化学环境的影响。
原理XPS技术的核心原理是利用穿透表面层的X射线来激发表面的离子,并利用离子的发射来确定表面的组成和结构。
X射线可以穿过表面层并可以激发表面分子的内部电子。
由于X射线能量的吸收,被激发电子会向外散射出来,其能量可以通过测量X射线吸收率(或离子发射率)来表征。
XPS技术的优点1. XPS是一种快速、准确的技术,可以用来表征表面的化学结构。
2. XPS技术可以快速检测表面的氧化状态,具有极高的灵敏度、准确性和选择性。
3. XPS技术操作简单,对表面层结构的检测对样品要求不是很严格。
4. XPS技术可以实时监测表面结构变化,因此可以用于表面化学反应的分析。
5. XPS技术无需涉及任何化学物质,可以在室温状态下进行检测,简便高效。
应用XPS技术深受广泛的应用,主要用于检测和分析表面的结构和化学组成。
XPS技术可以用于表征表面的氧化状态、局部结构、电子结构和化合结构等性质,可以用于表面涂层的分析、表面活性物质的研究、表面生物反应的检测、表面光学特性的研究以及表面污染物的定量分析等。
XPS技术也可以用于实验室研究、产品检验、污染物分析以及在污染控制、生物医学、电子技术、纳米技术、能源和无机表面科学等领域中的应用。
结论XPS技术是一种用于表征固体表面分子结构和化学组成的技术,具有快速、准确、灵敏和实时监测等优点,广泛应用于多个领域,是目前分析表面的有效技术之一。
一、X射线光电子能谱的测量原理X射线光电子能谱(X-ray photoelectron Spectroscopy,简称XPS)也就是化学分析用电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis,简称ESCA),它是目前最广泛应用的表面分析方法之一,主要用于成分和化学态的分析。
用单色的X射线照射样品,具有一定能量的入射光子同样品原子相互作用,光致电离产生了光电子,这些光电子从产生之处输运到表面,然后克服逸出功而发射,这就是X射线光电子发射的三步过程。
用能量分析器分析光电子的动能,得到的就是x射线光电子能谱。
根据测得的光电子动能可以确定表面存在什么元素以及该元素原子所处的化学状态,这就是x射线光电子谱的定性分析。
根据具有某种能量的光电子数量,便可知道某种元素在表面的含量,这就是x射线光电子谱的定量分析。
为什么得到的是表面信息呢?这是因为:光电子发射过程的后两步,与俄歇电子从产生处输运到表面然后克服逸出功而发射出去的过程是完全一样的,只有深度极浅范围内产生的光电子,才能够能量无损地输运到表面,用来进行分析的光电子能量范围与俄歇电子能量范围大致相同。
所以和俄歇谱一样,从X射线光电子谱得到的也是表面的信息,信息深度与俄歇谱相同。
如果用离子束溅射剥蚀表面,用X射线光电子谱进行分析,两者交替进行,还可得到元素及其化学状态的深度分布,这就是深度剖面分析。
X射线电子能谱仪、俄歇谱仪和二次离子谱仪是三种最重要的表面成分分析仪器。
X射线光电子能谱仪的最大特色是可以获得丰富的化学信息,三者相比,它对样品的损伤是最轻微的,定量也是最好的。
它的缺点是由于X射线不易聚焦,因而照射面积大,不适于微区分析。
不过近年来这方面已取得一定进展,分析者已可用约100 μm直径的小面积进行分析。
最近英国VG公司制成可成像的X射线光电子谱仪,称为“ESCASCOPE”,除了可以得到ES-CA谱外,还可得到ESCA像,其空间分辨率可达到10μm,被认为是表面分析技术的一项重要突破。
一、X射线光电子能谱的测量原理X射线光电子能谱(X-ray photoelectron Spectroscopy,简称XPS)也就是化学分析用电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis,简称ESCA),它是目前最广泛应用的表面分析方法之一,主要用于成分和化学态的分析。
用单色的X射线照射样品,具有一定能量的入射光子同样品原子相互作用,光致电离产生了光电子,这些光电子从产生之处输运到表面,然后克服逸出功而发射,这就是X射线光电子发射的三步过程。
用能量分析器分析光电子的动能,得到的就是x射线光电子能谱。
根据测得的光电子动能可以确定表面存在什么元素以及该元素原子所处的化学状态,这就是x射线光电子谱的定性分析。
根据具有某种能量的光电子数量,便可知道某种元素在表面的含量,这就是x射线光电子谱的定量分析。
为什么得到的是表面信息呢?这是因为:光电子发射过程的后两步,与俄歇电子从产生处输运到表面然后克服逸出功而发射出去的过程是完全一样的,只有深度极浅范围内产生的光电子,才能够能量无损地输运到表面,用来进行分析的光电子能量范围与俄歇电子能量范围大致相同。
所以和俄歇谱一样,从X射线光电子谱得到的也是表面的信息,信息深度与俄歇谱相同。
如果用离子束溅射剥蚀表面,用X射线光电子谱进行分析,两者交替进行,还可得到元素及其化学状态的深度分布,这就是深度剖面分析。
X射线电子能谱仪、俄歇谱仪和二次离子谱仪是三种最重要的表面成分分析仪器。
X射线光电子能谱仪的最大特色是可以获得丰富的化学信息,三者相比,它对样品的损伤是最轻微的,定量也是最好的。
它的缺点是由于X射线不易聚焦,因而照射面积大,不适于微区分析。
不过近年来这方面已取得一定进展,分析者已可用约100 μm直径的小面积进行分析。
最近英国VG公司制成可成像的X射线光电子谱仪,称为“ESCASCOPE”,除了可以得到ES-CA谱外,还可得到ESCA像,其空间分辨率可达到10μm,被认为是表面分析技术的一项重要突破。
第18章X射线光电子能谱分析18.1 引言固体表面分析业已发展为一种常用的仪器分析方法,特别是对于固体材料的分析和元素化学价态分析。
目前常用的表面成分分析方法有:X射线光电子能谱(XPS), 俄歇电子能谱(AES),静态二次离子质谱(SIMS)和离子散射谱(ISS)。
AES 分析主要应用于物理方面的固体材料科学的研究,而XPS的应用面则广泛得多,更适合于化学领域的研究。
SIMS和ISS由于定量效果较差,在常规表面分析中的应用相对较少。
但近年随着飞行时间质谱(TOF-SIMS)的发展,使得质谱在表面分析上的应用也逐渐增加。
本章主要介绍X射线光电子能谱的实验方法。
X射线光电子能谱(XPS)也被称作化学分析用电子能谱(ESCA)。
该方法是在六十年代由瑞典科学家Kai Siegbahn教授发展起来的。
由于在光电子能谱的理论和技术上的重大贡献,1981年,Kai Siegbahn获得了诺贝尔物理奖。
三十多年的来,X射线光电子能谱无论在理论上和实验技术上都已获得了长足的发展。
XPS已从刚开始主要用来对化学元素的定性分析,业已发展为表面元素定性、半定量分析及元素化学价态分析的重要手段。
XPS的研究领域也不再局限于传统的化学分析,而扩展到现代迅猛发展的材料学科。
目前该分析方法在日常表面分析工作中的份额约50%,是一种最主要的表面分析工具。
在XPS谱仪技术发展方面也取得了巨大的进展。
在X射线源上,已从原来的激发能固定的射线源发展到利用同步辐射获得X射线能量单色化并连续可调的激发源;传统的固定式X射线源也发展到电子束扫描金属靶所产生的可扫描式X射线源;X射线的束斑直径也实现了微型化,最小的束斑直径已能达到6μm大小, 使得XPS在微区分析上的应用得到了大幅度的加强。
图像XPS技术的发展,大大促进了XPS在新材料研究上的应用。
在谱仪的能量分析检测器方面,也从传统的单通道电子倍增器检测器发展到位置灵敏检测器和多通道检测器,使得检测灵敏度获得了大幅度的提高。
X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy analysis)1887年,Heinrich Rudolf Hertz发现了光电效应。
二十年后的1907年,P.D. Innes用伦琴管、亥姆霍兹线圈、磁场半球(电子能量分析仪)和照像平版做实验来记录宽带发射电子和速度的函数关系。
待测物受X光照射后内部电子吸收光能而脱离待测物表面(光电子),透过对光电子能量的分析可了解待测物组成,XPS主要应用是测定电子的结合能来实现对表面元素的定性分析,包括价态。
XPS(X射线光电子能谱)的原理是用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。
被光子激发出来的电子称为光电子。
可以测量光电子的能量,以光电子的动能为横坐标,相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图。
从而获得试样有关信息。
X射线光电子能谱因对化学分析最有用,因此被称为化学分析用电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)。
其主要应用:1,元素的定性分析。
可以根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He以外的所有元素。
2,元素的定量分析。
根据能谱图中光电子谱线强度(光电子峰的面积)反应原子的含量或相对浓度。
3,固体表面分析。
包括表面的化学组成或元素组成,原子价态,表面能态分布,测定表面电子的电子云分布和能级结构等。
4,化合物的结构。
可以对内层电子结合能的化学位移精确测量,提供化学键和电荷分布方面的信息。
5,分子生物学中的应用。
Ex:利用XPS鉴定维生素B12中的少量的Co。
应用举例:1.确定金属氧化物表面膜中金属原子的氧化状态;2.鉴别表面石墨或碳化物的碳;(一)X光电子能谱分析的基本原理:X光电子能谱分析的基本原理:一定能量的X光照射到样品表面,和待测物质发生作用,可以使待测物质原子中的电子脱离原子成为自由电子。
该过程可用下式表示:hn=Ek+Eb+Er 其中: hn:X光子的能量;Ek:光电子的能量;Eb:电子的结合能;Er:原子的反冲能量。
其中Er很小,可以忽略。
对于固体样品,计算结合能的参考点不是选真空中的静止电子,而是选用费米能级,由内层电子跃迁到费米能级消耗的能量为结合能Eb,由费米能级进入真空成为自由电子所需的能量为功函数Φ,剩余的能量成为自由电子的动能Ek。
式又可表示为:hn=Ek+Eb+Φ(10.4)Eb= hn- Ek-Φ(10.5)仪器材料的功函数Φ是一个定值,约为4eV,入射X光子能量已知,这样,如果测出电子的动能Ek,便可得到固体样品电子的结合能。
各种原子,分子的轨道电子结合能是一定的。
因此,通过对样品产生的光子能量的测定,就可以了解样品中元素的组成。
元素所处的化学环境不同,其结合能会有微小的差别,这种由化学环境不同引起的结合能的微小差别叫化学位移,由化学位移的大小可以确定元素所处的状态。
例如某元素失去电子成为离子后,其结合能会增加,如果得到电子成为负离子,则结合能会降低。
因此,利用化学位移值可以分析元素的化合价和存在形式。
(二)电子能谱法的特点( 1 )可以分析除H 和He 以外的所有元素;可以直接测定来自样品单个能级光电发射电子的能量分布,且直接得到电子能级结构的信息。
( 2 )从能量范围看,如果把红外光谱提供的信息称之为“分子指纹”,那么电子能谱提供的信息可称作“原子指纹”。
它提供有关化学键方面的信息,即直接测量价层电子及内层电子轨道能级。
而相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互干扰少,元素定性的标识性强。
( 3 )是一种无损分析。
( 4 )是一种高灵敏超微量表面分析技术。
分析所需试样约10 -8 g 即可,绝对灵敏度高达10 -18 g ,样品分析深度约2nm 。
(三) X 射线光电子能谱法的应用( 1 )元素定性分析各种元素都有它的特征的电子结合能,因此在能谱图中就出现特征谱线,可以根据这些谱线在能谱图中的位置来鉴定周期表中除H 和He 以外的所有元素。
通过对样品进行全扫描,在一次测定中就可以检出全部或大部分元素。
( 2 )元素定量分折X 射线光电子能谱定量分析的依据是光电子谱线的强度(光电子蜂的面积)反映了原于的含量或相对浓度。
在实际分析中,采用与标准样品相比较的方法来对元素进行定量分析,其分析精度达1 %~2 %。
( 3 )固体表面分析固体表面是指最外层的 1 ~10 个原子层,其厚度大概是(0.1~1) n nm 。
人们早已认识到在固体表面存在有一个与团体内部的组成和性质不同的相。
表面研究包括分析表面的元素组成和化学组成,原子价态,表面能态分布。
测定表面原子的电子云分布和能级结构等。
X 射线光电子能谱是最常用的工具。
在表面吸附、催化、金属的氧化和腐蚀、半导体、电极钝化、薄膜材料等方面都有应用。
( 4 )化合物结构签定X 射线光电子能谱法对于内壳层电子结合能化学位移的精确测量,能提供化学键和电荷分布方面的信息。
(四)下面重点介绍一下X射线在表面分析中的原理及应用X射线光电子能谱法(X-ray Photoelectron Spectrom-----XPS)在表面分析领域中是一种崭新的方法。
虽然用X射线照射固体材料并测量由此引起的电子动能的分布早在本世纪初就有报道,但当时可达到的分辩率还不足以观测到光电子能谱上的实际光峰。
直到1958年,以Siegbahn为首的一个瑞典研究小组首次观测到光峰现象,并发现此方法可以用来研究元素的种类及其化学状态,故而取名“化学分析光电子能谱(Eletron Spectroscopy for Chemical Analysis-ESCA)。
目前XPS和ESCA已公认为是同义词而不再加以区别。
XPS的主要特点是它能在不太高的真空度下进行表面分析研究,这是其它方法都做不到的。
当用电子束激发时,如用AES法,必须使用超高真空,以防止样品上形成碳的沉积物而掩盖被测表面。
X射线比较柔和的特性使我们有可能在中等真空程度下对表面观察若干小时而不会影响测试结果。
此外,化学位移效应也是XPS法不同于其它方法的另一特点,即采用直观的化学认识即可解释XPS中的化学位移,相比之下,在AES中解释起来就困难的多。
1 基本原理用X射线照射固体时,由于光电效应,原子的某一能级的电子被击出物体之外,此电子称为光电子。
如果X射线光子的能量为hν,电子在该能级上的结合能为Eb,射出固体后的动能为Ec,则它们之间的关系为:hν=Eb+Ec+Ws 式中Ws为功函数,它表示固体中的束缚电子除克服各别原子核对它的吸引外,还必须克服整个晶体对它的吸引才能逸出样品表面,即电子逸出表面所做的功。
上式可另表示为:Eb=hν-Ec-Ws 可见,当入射X射线能量一定后,若测出功函数和电子的动能,即可求出电子的结合能。
由于只有表面处的光电子才能从固体中逸出,因而测得的电子结合能必然反应了表面化学成份的情况。
这正是光电子能谱仪的基本测试原理。
2 仪器组成XPS是精确测量物质受X射线激发产生光电子能量分布的仪器。
具有真空系统、离子枪、进样系统、能量分析器以及探测器等部件。
XPS中的射线源通常采用AlKα(1486.6eV )和MgK α(1253.8eV),它们具有强度高,自然宽度小(分别为830meV和680meV)。
CrKα和CuKα辐射虽然能量更高,但由于其自然宽度大于2eV,不能用于高分辩率的观测。
为了获得更高的观测精度,还使用了晶体单色器(利用其对固定波长的色散效果),但这将使X射线的强度由此降低。
由X射线从样品中激发出的光电子,经电子能量分析器,按电子的能量展谱,再进入电子探测器,最后用X Y记录仪记录光电子能谱。
在光电子能谱仪上测得的是电子的动能,为了求得电子在原子内的结合能,还必须知道功函数Ws。
它不仅与物质的性质有关,还与仪器有关,可以用标准样品对仪器进行标定,求出功函数。
3 应用简介XPS电子能谱曲线的横坐标是电子结合能,纵坐标是光电子的测量强度(如下图所示)。
可以根据XPS电子结合能标准手册对被分析元素进行鉴定。
XPS是当代谱学领域中最活跃的分支之一,虽然只有十几年的历史,但其发展速度很快,在电子工业、化学化工、能源、冶金、生物医学和环境中得到了广泛应用。
除了可以根据测得的电子结合能确定样品的化学成份外,XPS最重要的应用在于确定元素的化合状态。
当元素处于化合物状态时,与纯元素相比,电子的结合能有一些小的变化,称为化学位移,表现在电子能谱曲线上就是谱峰发生少量平移。
测量化学位移,可以了解原子的状态和化学键的情况。
例如Al2O3中的3价铝与纯铝(0价)的电子结合能存在大约3电子伏特的化学位移,而氧化铜(CuO)与氧化亚铜(Cu2O)存在大约1.6电子伏特的化学位移。
这样就可以通过化学位移的测量确定元素的化合状态,从而更好地研究表面成份的变化情况。
X光电子能谱法是一种表面分析方法,提供的是样品表面的元素含量与形态,而不是样品整体的成分。
其信息深度约为3-5nm。
如果利用离子作为剥离手段,利用XPS作为分析方法,则可以实现对样品的深度分析。
固体样品中除氢、氦之外的所有元素都可以进行XPS分析。
(1)通过测定物质的表层(约10nm),可以获得物质表层的构成元素和化学结合状态等方面的信息。
解析基板表层附着物,解析金属薄膜等的氧化状态,计算自然氧化膜厚度,解析CF系醋酸膜,评价金属材料的腐蚀,测定磁盘润滑膜厚度,解析各种反应生成物宽幅扫描测定(2).应用角度分解法进行的分析通过改变光电子的取出角度,可以采用非破坏性的方法得到深度方向的信息。
另外,浅化光电子的取出角度,可以提高超表层的灵敏度。
局部扫描测定用途:对固体样品的元素成分进行定性、定量或半定量及价态分析。
固体样品表面的组成、化学状态分析,广泛应用于元素分析、多相研究、化合物结构鉴定、富集法微量元素分析、元素价态鉴定。
此外在对氧化、腐蚀、摩擦、润滑、燃烧、粘接、催化、包袱等微观机理研究;污染化学、尘埃粒子研究等的环保测定;分子生物化学以及三维剖析如界面及过渡层的研究等方面有所应用。