IBED-C600M多功能离子束增强沉积设备的操作规程

离子束溅射仪器的使用1、装样品1）充气：打开充气旋钮，使得空气进入钟罩。

2）开电源总开关，接通电源。

3）升钟罩：将“升”开关拨到下方，待钟罩升到合适位置时，按住“停”按钮，钟罩停止上升，将“升”开关拨回到上方。

4）放样品：将放有样品的载物台固定到钟罩中。

5）降钟罩：按一下“降”按钮，钟罩开始往下降，降到适当的位置使得钟罩密封时自动停止。

（注意，在钟罩将要降到底时可以在前边稍往上抬钟罩，以保证钟罩的密封效果，利于后面的真空抽取。

）6）将充气旋钮旋紧。

2、抽真空1）抽低真空：样品装好后，再一次确认充气旋钮已旋紧。

然后将电源开关旋钮打到机械泵，打开低真空计。

2）（逆时针）旋转管道阀门Ⅰ，在旋转到最满时回旋1-2圈；过一会后（一般这时候真空机压强在10Pa左右），逆时针旋转打开管道阀门Ⅱ。

3）上面步骤完成后，机械泵抽一段时间后，当真空计读数在6-5Pa左右时，可打开扩散泵。

4）通冷却水，再将电源开关旋到扩散泵。

5）约半小时后，关闭管道阀门Ⅰ，（逆时针）打开打开扩散泵旋钮（至满回旋1-2圈）。

这时候低真空计压强将会突然变大，待压强再一次回到<10Pa后，打开高真空计（方法看下一步）。

6）抽高真空：按下高真空计电源开关，再按下灯丝按钮；将压强档打到10-1档，抽真空到压强小于1×10-1Pa时，可打到10-2档，依次类推，知道满足自己的需要（一般最大能达到×10-3档）。

3、溅射1）先讲溅射装置打开，有加速电压、中和电压、阴极电流和阳极电压。

（注意还有外接的毫安表，这是用来测试流过靶材的电流。

）2）先将真空计回旋一档（×10-2），通Ar气，当达到满足的要求时位置（通气时要慢慢的旋转通气旋钮，防止通气忽大忽小不易控制。

）3）调加速电压（如200V），屏级电压（如1000V），阴极电流（如12A）和阳极电压（如55V）进行溅射。

（调剂经验：在加速电压调好后，先调节屏级电压到要求值，然后调节阴极电流和阳极电压到比预定值稍小，最后通过协调这三个旋钮调出束流。

原子层沉积设备操作方法
原子层沉积（ALD）是一种薄膜沉积技术，通过控制反应物的层层反应来沉积均匀、控制精密的薄膜。

以下是原子层沉积设备的一般操作方法：
1. 真空系统: 打开真空系统，排出空气，建立所需的低压（通常是10^-6到10^-9 Torr）。

2. 基板加载: 打开加载仓门，将待沉积的基板放入装载台中。

关闭加载仓门。

3. 提供反应物: 根据所需的沉积材料，加载相应的化学气体或前体分子到反应室的提供系统中。

确保反应室和提供系统都是密封的。

4. 触发反应: 根据预定的沉积步骤，逐一将反应气体输入到反应室中。

例如，先将氧气反应气体注入以氧化表面，然后将金属前体分子注入以沉积金属薄膜。

5. 反应持续时间: 反应持续的时间取决于所需的薄膜厚度和沉积速率。

通过控制反应时间来控制沉积层数。

6. 冲洗: 在每个反应层之间，进行气体冲洗以清洗反应室中的未反应气体和副产物。

7. 重复步骤: 重复4-6步骤，直到达到所需的膜厚。

8. 薄膜退火: 在沉积完成后，可以进行退火步骤以提高薄膜的结晶度和性能。

9. 基板卸载: 打开卸载仓门，将沉积好的基板从装载台取出。

关闭卸载仓门。

10. 关闭系统: 关闭真空系统，排气。

以上是一般的操作步骤，不同的ALD设备可能会有一些差异，具体的操作步骤和设备操作手册中的说明相符。

在操作ALD设备时，要遵循相关的安全操作规
程，并严格控制操作参数以确保薄膜的沉积质量和一致性。

离子束增强沉积为了得到较好的沉积结果，不仅需要合适的参数，而且也要考虑设备条件。

本实验以湿式或干式离子束增强反应器为平台，将离子源、数据采集系统、信号传输系统等集成在一起，配备了离子光学腔室、高压电源和微波腔室、真空腔室、冷阱、控制系统等，构建了一个功能完善的集成化、多功能离子束增强沉积系统。

实验使用的离子束分别是1 mev的碱金属离子和1 mev的磷酸根离子，该离子束源可实现真空及气氛控制。

该系统可通过对加速电压、离子束流强度及束流方向进行精细调节，从而控制各种不同成分的材料的蒸镀过程。

在模拟研究中表明该系统所提供的低能、短脉宽的1 mev离子束为非常适合获得薄膜材料沉积的束流。

原理是:离子与基体中有机物之间发生作用产生新的自由基和活性离子，使被沉积物上形成不饱和键。

沉积物的组成随着镀层厚度增加逐渐发生变化，当镀层厚度达到某一临界值后，其组成就不再改变。

利用离子注入、等离子体辅助沉积技术以及射频波辅助沉积技术等已经实现了较大尺寸(20～100μm)金刚石薄膜沉积。

由于蒸镀速率的极限是几百个cm^-2/s，所以不断寻求更高沉积速率的方法。

其中离子束沉积速率快、沉积时间短、能耗低、易于实现自动化的特点受到关注，在此类研究中得到了广泛的应用。

离子注入和等离子体辅助沉积技术是用电离的离子束作为热源来提高沉积速率，主要包括:将电子束和离子束加载到靶材上，然后施加电场将离子打到基体表面。

此外，最近几年又出现了直接利用高能粒子加速器产生的带电高能粒子束来轰击固体靶表面，使靶材表面离子化的离子束沉积技术。

其优点是加速粒子能量低，沉积温度低，而且不需要电源供电。

当前，离子束沉积技术在飞秒激光、紫外线光、 X射线光等方面得到广泛应用。

由于离子束能量密度高，因此是获得超薄膜材料的很好的方法，其沉积的材料已进入了实用阶段。

研究发现，在金刚石沉积中，利用离子束沉积技术比常规的化学沉积速率快，沉积速率能达到化学沉积的1/[gPARAGRAPH3]以上。

物理气相沉积设备安全操作及保养规程物理气相沉积设备是一种常用的薄膜制备设备，广泛应用于微电子、光电、能源材料等领域。

在使用设备的过程中，要注意设备的安全操作和及时保养，以保证设备的正常使用。

本文将针对物理气相沉积设备的安全操作和保养进行介绍。

安全操作在使用物理气相沉积设备时，应遵循以下安全操作规程：1. 做好个人防护在操作设备时，需要穿戴工作服、防护眼镜、手套等防护用品以保护自己的人身安全。

如果在制备过程中涉及有毒、易燃等物质，还需要使用呼吸器等额外的防护措施。

2. 熟悉设备操作流程操作人员必须具备操作面板、机械手臂、抽气机等设备的基本操作技巧和操作流程。

在开机前，要按照设备说明书的要求检查各个部位是否正常，确保设备安全运行。

3. 严格执行操作规程在设备制备过程中，要按照设备的操作规程来操作，不得擅自修改、调整或更改设备参数。

必须保证在实验室、洁净室等环境下进行实验室操作，不得在家庭等非实验室场所进行实验制备。

4. 注意物理气相沉积设备的危险因素物理气相沉积设备在使用中存在一些危险因素，如溶液爆炸、高温、高压等。

在使用过程中要注意这些因素，避免产生意外。

5. 定期维护设备定期检查和保养设备可以帮助及时发现设备异常，防止设备出现意外问题。

在不使用设备时要关闭设备电源。

设备的日常保养设备的日常保养包括设备表面的清洁、设备内部的清洁、设备的排气管道安全检查等。

1. 设备表面清洁定期对设备表面进行清洁，可以防止灰尘、污垢等污染设备。

可以使用干净的棉布或细毛刷清洁设备表面。

在清洁过程中，应保证不会影响设备的使用。

2. 设备内部清洁设备内部未清理干净可能会对后续制备产生负面影响，所以需要定期清洁设备内部。

可以通过使用纯净水或吸尘器等方法清洁设备内部。

在清洁时，一定要注意电路板和控制面板等零部件不得出现水、潮湿等情况。

3. 设备的排气管道安全检查设备的排气管道应该必须定期进行安全检查，防止气流的异常。

在检查过程中需要注意排气管道是否堵塞、管道是否有裂纹等现象，进行相应的维修和更换。

离子注入设备安全操作及保养规程前言离子注入设备是一种高精度的加工工具，常用于芯片制造、变速器制造等高科技产业领域。

由于其高能量、高功率的特性，因此在操作过程中需要严格遵守相关的操作规程，以确保工作安全并延长设备使用寿命。

本文将介绍离子注入设备安全操作及保养规程，以确保工作安全与设备正常运转。

安全操作规程1. 禁止操作员未经授权进行维修或改装离子注入设备内含有高压电源、放电器等危险设备，操作员在未进行适当培训的情况下，不得擅自拆卸、维修或改装设备。

若存在故障或设备需要进行维修，应立即通知设备维修人员进行处理。

此外，禁止在设备上放置任何非设备管理员或相关人员批准的零件或设备。

2. 禁止在设备周围放置易燃或易爆性物质离子注入设备在操作时会产生高温和高压环境，周围环境应保持干燥、通风，同时禁止在设备周围放置易燃或易爆性物质，以避免发生火灾或爆炸事件。

3. 周期性检查气源质量及气体管道连接离子注入设备采用氧化铝和氮气等气体，保证气源供应质量对于设备的正常运行至关重要。

因此，在使用设备之前，需要进行气源质量检查，并对气体管道连接进行检查和维护，以确保设备产生的气氛符合工艺要求。

4. 禁止未经许可将样品置入设备离子注入设备的样品种类、尺寸和形状都有严格的要求，若未经许可放置样品，有强烈的可能性产生零件损伤、进气管堵塞、加热器过热等安全隐患，甚至可能导致离子注入设备失灵，影响设备正常运行。

保养规程1. 定期更换高压电源和放电器离子注入设备的高压电源和放电器是设备正常运行的关键设备，因此需要定期检查，并根据使用寿命更换。

设备管理员应根据厂家提供的检查及维修手册进行检查，并在规定的时间内进行更换。

2. 定期清洁设备离子注入设备使用时会产生大量的碳积垢、沉积物等污染物，因此需要定期进行清洗。

设备管理员应当定期检查设备内部及外部的清洁状态，并及时清理。

在清洗过程中不得使用来自于零部件的溶剂，包括乙醇、酸类和碱类溶剂等，因为这些溶剂可能会损坏设备并使其失灵。

多功能微处理机离子计安全操作及保养规程1. 简介多功能微处理机离子计是一种常用于科学实验室的仪器，用于测量和分析溶液中的离子浓度。

由于其操作涉及到电子设备和化学物质，因此安全操作和正确保养是确保仪器长期稳定运行的关键。

本文档将介绍多功能微处理机离子计的安全操作及保养规程，以帮助用户正确操作和保养仪器，延长其使用寿命。

2. 安全操作2.1 电源与电缆•在使用离子计之前，请确保电源和电缆的连接正确无误，并且符合仪器的额定电压和电流要求。

•电源插座应该可靠接地，并且远离水源和易燃材料。

•操作离子计时，应保持双手干燥，并避免触摸电源插头和电缆。

2.2 样品处理•在处理样品之前，请仔细阅读和了解样品中可能存在的化学物质和危险品。

•避免直接接触样品，使用专门的容器和工具进行样品的装载和处理。

•使用合适的个人防护装备，如实验手套和护目镜，以确保个人安全。

2.3 仪器操作•仔细阅读并理解仪器的操作手册和用户指南。

•在操作之前，应熟悉仪器的各个部件和功能，并遵循正确的操作流程。

•遵守实验室内的安全规定和操作程序，如使用化学品时的通风要求和废弃物处理要求。

2.4 仪器维护•定期检查仪器的电缆和接线，确保其完好无损。

•使用适当的清洁剂和工具，定期清洁仪器的表面，并避免使用粗糙的材料和刺激性的溶剂。

•注意避免仪器受潮和水浸泡，以防止电路短路和损坏。

3. 仪器保养3.1 校准和校正•定期进行离子计的校准和校正，以确保测量结果的准确性和可靠性。

•参考仪器的操作手册和用户指南，按照建议的频率和方法进行校准和校正。

•在校准和校正之前，请准备好必要的标准溶液和校准工具。

3.2 存储和运输•在仪器暂时不使用时，请将其存放在干燥、通风和恒温的环境中。

•避免仪器受到剧烈震动和碰撞，以免影响其内部零部件的正常工作。

•在运输仪器时，使用专门的运输箱和防震材料，确保仪器安全无损。

3.3 定期维护•根据仪器的使用频率和工作环境，制定定期维护计划。

等离子沉积系统安全操作及保养规程等离子沉积系统是一种在高真空状态下利用等离子区化学反应进行材料表面修饰的设备。

由于其操作过程需要涉及高温、高压等复杂条件，因此在使用时需要注意安全操作及保养规程，以确保设备及使用人员的安全。

安全操作规程1. 系统操作前的准备工作•首先确认装置电源是否接地，并检查管路、气体、真空泵等设备是否连接正常。

•所有操作人员在进行操作前应穿戴室内专用的操作服及安全鞋，严禁穿拖鞋等不适合的服装。

•操作人员必须经过设备操作培训并取得上岗证书后，方可进行操作。

2. 设备启动与操作•系统操作前需对设备进行全面检查、灌氩、恢复真空等工作•严格按照操作规程操作，避免操作过程中额外因素干扰。

•当发现设备异常时，必须立即停止操作并及时汇报，以免产生不必要的危险。

3. 操作时的安全防护•操作者必须戴上防护手套、面罩、护目镜等防护设备，以保护眼睛和手部不受到等离子反应的伤害。

•操作人员在进行硝酸铜等有毒液体的操作时，必须注意佩戴口罩、手套等个人防护装备，避免因意外事故带来危险。

4. 停机与设备彻底关闭•停机前，必须完全从操作室中撤离，关闭真空泵、气体路机、电源等设施。

•开关和设备状态必须清晰正确标注，以方便下次使用。

保养规程1.设备日常保养•经常检查真空泵运行情况，注意油品质量。

因为真空体系是该系统主要的部分，这是需要重点关注的。

•定期检查气体路机和气体接头密封性能，保养气阀（包括加压气阀和减压气阀）•定期检查设备的气体管路密封性能，以及大气压调节装置的性能和稳定性。

•定期检查并维护真空计系统。

必须确保各个传感器、仪表和控制器是否正常。

2.设备和附件保养•必须保证设备的表面处于洁净、干燥的状态，否则这可能会影响到等离子反应的质量。

因此定期地清洁设备用品非常重要，去除所有杂质和沉淀，进行清洁。

•另外，要注意检查设备附件，如耗材，电子元件，卡顿件等，及时更换和修理有缺陷的部位，保持设备的完好性和使用寿命。

立式化学气相沉积炉安全操作及保养规程为了确保立式化学气相沉积炉的安全运行和延长设备的使用寿命，我们制定了以下操作和保养规程。

请严格按照以下规程操作和维护设备。

安全操作规程1.着装要求：–操作人员应穿戴合适的工作服和防护装备，包括防护眼镜、耳塞、防护手套和防护鞋。

–长发应该束起，避免阻碍操作和发生意外事故。

2.设备检查：–在每次操作之前，仔细检查立式化学气相沉积炉的外观是否完好无损。

–确保所有电源线、电气设备和控制系统连接牢固，没有松动或接地问题。

–确保沉积室内的温度和压力传感器正常工作，能够准确测量并控制相关参数。

3.燃气操作：–在操作之前，确保气源正常，并检查燃气管道是否有泄漏。

–使用专门的工具连接燃气管道，并确保连接牢固。

–在启动前，确保燃气阀门关闭，待准备就绪后再打开。

4.温度控制：–在设置和调整沉积温度之前，应该仔细阅读操作手册，了解设备的温度范围和限制。

–严格按照操作手册的要求设置温度，避免超过设备的最大温度限制。

–在操作过程中，及时监测和调整温度，确保设备稳定运行。

5.真空操作：–在进行真空操作之前，确保真空泵正常工作并连接到系统中。

–打开真空阀门时，应缓慢增加真空度，避免过快引起设备意外关闭或其他问题。

–当操作完成后，应逐步恢复大气压力，遵循操作手册中的步骤和要求。

6.紧急情况处理：–在发生紧急情况时，应立即切断燃气和电源，并按照应急预案处理。

–如有需要，及时联系厂家或维修人员进行故障排除和修复。

保养规程1.日常清洁：–每次操作后，应及时清理立式化学气相沉积炉内部和外部的残留物。

–使用合适的清洁剂和软布清洁设备表面，避免使用腐蚀性或刺激性清洁剂。

2.定期检查：–每隔一段时间，应进行设备的定期检查和维护。

–检查电气系统和连接线路是否正常，有无松动或磨损。

–检查传感器和控制系统是否准确可靠，及时更换损坏的零部件。

3.液体和气体补充：–定期检查液氮和其他液体或气体的储存状态。

–确保液氮储罐密封良好，减少液氮的蒸发损失。

离子仪操作方法步骤离子仪是一种用于测量空气中离子浓度的仪器。

它可以帮助我们了解空气中的离子含量，从而评估室内空气质量的好坏。

下面是离子仪的操作方法步骤：1. 准备工作：在操作离子仪之前，首先需要检查仪器是否正常工作。

插上电源，并确保电源线连接牢固。

同时检查仪器的显示屏是否正常显示。

2. 打开离子仪：打开离子仪的电源开关，待仪器开始运行后，观察仪器的显示屏上是否正常显示。

如果显示屏上没有正常显示，可能是仪器出现故障。

3. 等待预热：离子仪通常需要一段时间的预热才能正常工作。

在开机后的一段时间内，观察仪器的显示屏上是否显示预热进度。

一般来说，预热时间为几分钟到十几分钟不等。

4. 校准仪器：离子仪出厂时已进行过校准，但在使用前需要确保仪器的准确性。

根据仪器的说明书，使用校准气体对离子仪进行校准。

在校准过程中，需要将校准气体注入离子仪，并根据仪器的操作提示进行相应的操作。

5. 测量环境：将离子仪放置在要测量的环境中。

在测量之前，需要确保环境中没有干扰源，如电磁辐射、紫外线等。

同时，应将离子仪放置在空气流通良好的位置上，以确保测量结果的准确性。

6. 开始测量：当离子仪处于工作状态且已经预热完毕后，可以开始测量。

按下仪器上的测量按钮，离子仪将开始测量空气中离子的浓度。

在测量过程中，仪器的显示屏上会实时显示测量结果。

7. 测量时间：测量时间的长短可以根据需要来决定。

一般来说，离子浓度较低的环境可以选择较长的测量时间，以提高测量的准确性。

而离子浓度较高的环境则可以选择较短的测量时间。

8. 记录数据：在测量完成后，将仪器上显示的测量结果记录下来。

同时，根据需要可以将数据进行保存或导出，以便后续分析和比较。

9. 关闭离子仪：当测量结束后，可以关闭离子仪的电源开关。

同时，将仪器的电源线拔掉，并进行适当的清洁和保养工作，以确保仪器的正常使用寿命。

总结：离子仪的操作方法步骤如上所述。

在操作离子仪之前，需要进行准备工作，并确保仪器的正常运行。

离子导入仪操作规程及注意事项
离子导入仪操作规程及注意事项
一、操作规程
1.接通电源，检查导线连接是否正常；
2.将煮沸消毒过的药垫，在加温后的药液中浸过，平坦放于病灶部位的皮肤上，另取消毒过的药垫经500C热水浸泡后放于人体相应的治疗部位上，药垫湿透但不滴水为宜，用绑带式沙袋将电极固定；
3.选择治疗时间、治疗状态、热度设定、治疗处方和治疗强度；
4.治疗电流量开始应小，治疗几次后可加大；
5.治疗时间每日一次，每次30分钟，12次为一疗程，两个疗程间休息3-5天，一个系统治疗通常3-5个疗程。

二、注意事项
1.治疗前出去治疗部位及其附近的金属物；
2.电极衬垫要与皮肤均匀紧贴，固定稳妥；
3.治疗时患者不得移动体位，防止电极滑脱而直接接触皮肤引起电灼伤；
4.感觉障碍与血液循环障碍的部位治疗时不应按患者的感觉来决定电流强度；
5.电极衬垫使用后应清洗煮沸消毒。

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沉积用等离子体中大型安全操作及保养规程为了确保沉积用等离子体设备的正常运行和操作人员的安全，本文将为您介绍沉积用等离子体设备的大型安全操作及保养规程。

一、设备安全操作规程1.必要的装备和服装：–操作人员应佩戴防护面罩、安全眼镜以及手套等个人防护装备。

–穿戴合适的防护服，并戴上防滑鞋。

–操作人员的头发应绑起来，不能垂下。

2.设备检查：–在操作之前，必须对设备进行检查，确保设备处于正常工作状态。

–检查设备的电源线是否完好，并确保接地良好。

–检查设备的气源管道和阀门，确保没有泄漏。

–检查各个控制开关的操作是否正常。

3.操作前的准备工作：–在操作之前，请确保清理好工作区域，避免杂物堆积和走道堵塞。

–准备好所需的材料和化学试剂，并将其放置在指定的位置。

4.正确的操作步骤：–操作人员应清楚了解设备的操作步骤，并按照规定的顺序进行操作。

–操作人员应掌握正确而安全的操作技巧，避免操作中的疏忽或错误。

–在操作过程中，应注意观察设备的运行状态，及时发现异常情况并及时处理。

5.应急处理：–在设备操作过程中，如发生突发情况或异常情况，操作人员应迅速停止设备，并及时进行应急处理。

–操作人员应清楚掌握设备的应急处理方法和步骤。

二、设备保养规程1.定期清洁：–设备的定期清洁对于设备的正常运行非常重要。

建议在每次使用完毕后，对设备进行清洁。

–清洁设备时，应先断开电源，并使用清洁剂和布进行擦拭。

注意不要将电器部分弄湿。

2.设备润滑：–设备的润滑对于设备的稳定运行非常重要。

建议定期在设备的相关部位进行润滑。

–在润滑时，请使用指定的润滑油或润滑脂，并按照规定的方式进行涂抹。

3.设备故障排除：–如果设备出现故障或异常，请及时停止使用，并进行故障排除。

–操作人员应掌握基本的故障排除方法，如更换损坏的部件、调整设备参数等。

4.定期维护：–定期对设备进行维护保养是确保设备长期稳定运行的关键。

建议按照设备的维护手册进行定期维护。

–维护工作包括更换耗材、清洁过滤器、校准设备参数等。

等离子质谱仪安全操作及保养规程等离子质谱仪是一种常用的分析仪器，主要用于微量元素和有机物分析，因此在日常使用中需要进行正确安全操作和保养。

本文将介绍等离子质谱仪的安全操作规程和保养措施，帮助用户正确使用仪器，确保工作的高效性和安全性。

安全操作规程1. 仪器准备在使用等离子质谱仪之前，需要进行以下准备工作：•确认仪器电源和冷却水已经接好。

•检查离子源、解析器和探测器是否按照正确程序装配。

•仪器表面清洁整洁，无杂物和污垢。

2. 操作流程等离子质谱仪操作的重要步骤如下：步骤1：打开电源按电源开关，打开仪器电源。

步骤2：预热离子源和解析器等待十分钟预热后，将离子源和解析器加热到设定温度。

步骤3：样品制备将需要分析的样品处理好并加载进样品室，考虑样品不要超过载样口压力闭合的压力值以及不要让样品进入离子源区。

步骤4：仪器校准进行仪器校准，并确保操作人员清楚掌握仪器校准方法和数据处理方法。

步骤5：实验操作按照实验流程进行实验操作，注意操作过程中不要碰触仪器，以免影响结果。

步骤6：关闭仪器实验结束后，按照仪器使用说明书中的关闭程序进行关机处理。

3. 安全注意事项•操作人员必须清楚掌握仪器的安全使用规程和操作流程，严格按照程序使用，以确保设备的正常和安全操作。

•操作人员在实验过程中要保持平静，避免因慌乱和匆忙操作而引发事故。

•操作人员不要使用过期或不规范的化学试剂来进行实验，以免对仪器或个人健康造成损害。

•当离子源温度比设定值高时，禁止开启加热源，还禁止移动离子源以免烫伤，也不要碰触不戴手套的离子源。

•仪器不合规定使用，造成的人身、财产损失，将由操作人员自负。

保养措施1. 仪器清洁•定期清洗仪器表面灰尘和污垢，去除离子源和探测器等关键部件的污垢；•使用软毛刷、棉花棒、纯化纸或其他专用工具进行清洁，不使用含腐蚀性、环保毒性的强酸、强碱、强溶剂，严防表面划痕、刮花或关键部件磨损。

2. 仪器维护•定期保养仪器；每天点检升温时间和温度等因素，并清理进样口和接口格栅；•定期维护离子源和探测器等关键部件；检查电子倍增管软连接光纤是否结束，来源螺钉是否磨损；清除离子源绝缘层的沉积等。

反应离子刻蚀机安全操作及保养规程前言反应离子刻蚀机是材料制备与研究过程中常用的仪器。

它的作用是在样品表面产生微米甚至纳米级别的凹凸，同时用于清除样品表面在制备过程中产生污染。

然而，由于反应离子刻蚀机操作涉及高压、高温以及放电等危险因素，因此必须严格按照安全规程进行操作。

本文档将介绍反应离子刻蚀机的安全操作和保养规程，以保证用户正常使用，同时确保仪器使用的安全性。

操作规程1. 开机操作1.确保电气线路和管道接口无破损和泄漏。

2.确认气源、水源和电源连接正常。

3.启动电源，按照操作手册启动主控制台，进入操作界面。

4.打开真空开关，在真空表上观察真空度的快速上升，在烘箱上观察温度是否达到预定值。

5.真空度达到规定值和温度趋于稳定，便可进行下一步操作。

2. 样品处理1.将样品放置在样品台上，并将样品固定。

注意样品表面应当平整光滑，无油污。

2.将样品头移动到样品正上方，并按下操作界面上的“下压”按钮，使样品与样品台接触。

3.使样品头对准样品位置，启动样品旋转和晃动功能，使溅射均匀。

3. 刻蚀操作1.设定刻蚀参数，包括气体类型、气体压力、放电功率、溅射角度以及刻蚀时间。

2.在操作界面上，选择“开始刻蚀”，手动启动刻蚀。

同时，要保持观察反应离子刻蚀机仪器的压力、温度和电流等参数。

如果有异常情况，应立即停止刻蚀。

3.刻蚀结束后，按下操作界面上的“上升”按钮将样品头从样品上抬起。

4. 关机操作1.刻蚀结束后，将真空开关关闭，等待压力下降至安全值，关闭主机控制台，断开电源。

2.为了保证仪器的长期使用，还需对仪器进行日常保养。

保养规程1. 日常保养1.清洗反应离子刻蚀机的各种表面，包括样品头、真空室内的表面以及机器外表。

2.定期更换净水器的过滤器，保障预处理器的水质供应。

3.定期检查气体管道以及电气连接部件，发现问题及时更换。

2. 每日保养1.在刻蚀结束后，用质量合格的无纺布或干净的吹气器清洗样品头以及真空室内表面，避免污物残留损伤仪器。

简易离子分析仪操作流程1. 准备工作在进行离子分析之前，需要做一些准备工作。

首先，确保离子分析仪的电源已插入电源插座，并将其打开。

接下来，检查离子分析仪是否有足够的试剂和样品。

确保所有仪器和试剂都处于良好的工作状态。

2. 样品准备准备待测试的样品。

根据实验要求，可以通过稀释液将样品稀释到适当的浓度。

确保样品的干净和无杂质，并且采样过程无误。

3. 校准离子分析仪在进行离子分析之前，需要对离子分析仪进行校准。

校准过程可以参考仪器的使用手册。

校准的目的是确保仪器能够准确测量样品中的离子浓度。

4. 设置离子分析参数根据实验要求，设置离子分析仪的参数。

这些参数包括测试方法、采样速度、测量时间等。

确保参数的设置与实验要求相匹配。

5. 进行离子分析将样品放入离子分析仪中进行测试。

根据仪器的操作手册，按照正确的指导进行操作。

确保操作准确无误，避免对仪器和样品造成损坏。

6. 数据分析离子分析仪在测试完成后会生成结果数据。

使用适当的数据分析工具，对分析结果进行处理和解读。

根据实验要求，可以绘制图表、计算离子浓度等。

7. 结果报告根据实验要求，将离子分析结果整理成报告。

报告应包括实验目的、方法、结果及其解释等内容。

确保报告的准确性和清晰性。

8. 仪器保养在实验完成后，对离子分析仪进行适当的保养和清洁。

清理仪器表面的污垢，并按照仪器的保养要求进行维护，以确保仪器的长时间稳定使用。

以上是简易离子分析仪的操作流程，根据实验要求和仪器的使用手册进行操作，确保准确性和安全性。

离子迁移试验装置安全操作及保养规程前言离子迁移试验装置是一种常见的实验仪器，用于评估材料中的离子迁移速率。

在使用过程中，安全操作和保养是非常关键的，它可以保证操作人员的安全，延长设备的寿命，提高实验的准确性和可靠性。

本文将介绍离子迁移试验装置的安全操作细节和保养规程。

安全操作1. 设备安装对于新购置的离子迁移试验装置，必须仔细阅读和理解设备使用说明书和安装指南。

设备应该放置在干燥，通风良好的房间内，平稳地放置在坚实、稳定的台架上。

2. 操作前检查在每次使用设备前，必须进行操作前检查，以确保设备工作正常。

操作前检查的内容应包括：•外观检查：确保设备表面及内部干净，无异味，无任何异常。

•电源检查：检查设备的电源接线和插头是否正常。

如果发现电线损坏或插头松动，必须立即更换或修复。

•试验介质检查：检查试验介质的纯度和浓度是否符合要求。

如有必要，可以根据需要更换。

3. 操作前的准备工作在开始任何实验之前，操作人员必须进行必要的准备工作。

这些准备工作包括：•确保设备电源已连接并打开。

•样品处理：根据所需实验要求，处理各种样品。

•准备实验室环境：确保实验室的温度、湿度和光照等环境因素符合要求。

4. 设备操作方法在进行实验操作前，操作人员必须仔细阅读设备使用说明书，掌握设备的操作方法和步骤。

操作人员应按照以下步骤操作：•启动电源，设备自检，确保设备的正常工作状态。

•加入样品：将样品按照实验要求放在设备的测试夹持架中。

•设置实验条件：根据实验要求设置实验条件，设置实验的时间和温度等参数。

•启动实验：启动实验，保持设备与样品的稳定状态，等待实验结果。

•结束实验：实验结束后，根据要求关闭设备，移出夹持架和样品。

5. 操作后的清理工作在结束实验后，操作人员必须及时清理设备和实验室。

具体工作包括：•将设备和夹持架表面清洁干净。

•清理实验室环境，包括各种试剂和样品余料的处理。

•关闭设备电源，整理实验室环境。

保养规程为了确保设备的正常工作，延长设备的使用寿命，需要进行定期的保养。

离子束刻蚀设备使用说明书离子束刻蚀设备是一种用于制造微小器件的设备，是半导体工业中制造芯片的重要工具之一。

本文旨在介绍离子束刻蚀设备的使用说明。

一、准备工作使用离子束刻蚀设备前需要做好下列准备工作：1.检查设备的运行状态，确保各部分设备正常运转。

2.备齐所需材料，包括底片和制作芯片需要的化学试剂等。

3.开启设备排风机，确保室内环境清洁。

4.确保设备接地良好，防止静电干扰设备正常运行。

二、操作步骤1.放置底片将要刻蚀的底片放置于设备的夹具上，并通过吸盘固定住。

2.设定刻蚀参数根据所需刻蚀深度和材料类型等参数，设定离子束的能量、荷电量、束流密度等参数。

设定完毕后，将设备控制系统调到自动运行状态。

3.开始刻蚀按下“开始”按钮，机器便开始运行，执行预设的刻蚀程序。

这个过程中，离子束会轰击底片的表面，使得底片表面的材料发生化学反应，达到刻蚀的目的。

整个过程时间一般在几分钟到数小时不等。

4.停止刻蚀等到刻蚀完成后，在设备控制系统中输入停止指令，设备会自动停止刻蚀过程并将底片夹具升起，将刻蚀完成的底片取出即可。

5.清理设备每次刻蚀完成后，都要清理设备内部，将残留下来的底片碎片等杂物清除干净，以便下次使用。

三、使用注意事项1.刻蚀过程中不要将手部接近夹具，以免被夹具吸盘吸紧。

2.刻蚀过程中应保持环境尽量清洁，避免灰尘等杂质进入设备内部。

3.操作人员应穿戴防护装备，避免化学试剂等物质对身体造成伤害。

4.使用离子束刻蚀设备时，应根据设备参数表中提供的刻蚀参数进行操作。

5.当设备遇到紧急情况，应及时将设备停止，并通知维修工程师进行检查和维修。

总之，正确使用离子束刻蚀设备，可以帮助我们制作出更精密的微型器件，提高半导体产业的水平和效率。

但在使用过程中，也必须遵循操作程序，保证操作安全和设备的稳定运行。

离子注入机操作方法
1 打开真空计（先开左边开关，再打开右边开关，左边表盘为低真空，右边表盘为高真空.可以换挡最后抽到本底真空--*10-3pa以下，本底气压越高越好）→打开机械泵→电磁阀1(抽到2Pa以下,需要几分钟时间)→电磁阀2
2 在控制柜后面的所有开关都打开→分子泵电源开→关电磁阀1
3合头部电源（绿为开，红为关）打开→供气小流量N2量程0—10sccm (2.5sccm起弧)/大流量0---100sccm（He 60sccm起弧）→打开电弧电压（70V左右）→灯丝电源电流(10A左右)→引出电压；引出电流(根据实验需要可任意加)→抑制电压1000V左右,抑制电流越小越好，最好是0→打开加速电源(10—100KV,可根据实验需要参数设定来调节) 100kV—10mA 为最大参数。

灯丝电源和电弧电源可以调节加速电流，加速电源控制加速电压，可以按需要进行调节到自己想要的。

4 如果出故障小红灯闪按下控制柜上面的大红色按钮和上面的黄色按钮停止工作，等一会再试试，如果还不行就全都关了，找老师检修。

5关机步骤
1）控制柜关
先关抑制电源→10多秒之后将引出电源（左旋降到0）关掉→电弧电源（左旋降到0）关掉→灯丝电源(最好不要超过15A) （左旋降到0）
关掉→流量（左旋降到0）关掉→合头部分电源关掉（按红色按钮）2）关掉真空计（先右下角开关，再关左下角开关）
3）关闭分子泵红色Stop→关电磁阀2→关机械泵→关总电源→控制柜后面所有开关都关掉。