固态图像传感器
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什么叫CCD传感器
于暗〔无照)电流。
④灵敏度:单位辐射照度产生的输出光电流表示固态图象传感器的灵敏度,它主要与固态图像传感器的像元大小有关。
⑥弥散:饱和曝光量以上的过亮光像会在象素内产生与积蓄起过饱和信号电荷,这时,过饱和电荷便会从一个像素的势阱经过衬底扩散到相邻像素的势阱。
这样,再生图像上不应该呈现某种亮度的地方反而呈现出亮度,这种情况称为弥散现象。
⑥残像:对某像素扫描并读出其信号电荷之后,下一次扫描后读出信号仍受上次遗留信号电荷影响的现象叫残像。
⑦等效噪声曝光量:产生与暗输出(电压)等值时的曝光量称为传感器的等效噪声曝光量。
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仅供参阅!。
1.图像传感器的历史——从真空摄像管到CCD/CMOS图像传感器1.1 图像传感器的诞生在图像传感器出现前,胶片是唯一记录保存图像的工具,而胶片所保存的图像在远距离传输以及后期处理方面存在着难以逾越的障碍。
而图像传感器的目的是将拍摄的图像转化为电信号进行远距离传输、保存以及数字化保存和后期处理。
那么图像传感器又是何时出现在人们生活中的呢?最早登场的是1923年由V.K.兹沃雷金发明的光电摄像管,它是利用在真空中可自由操作电子运动的性质制作的。
如图1.1所示,在真空管中放置的云母板上面涂抹具有光电效应的铯(Cs),光线通过镜头在云母板上成像,此处产生的电荷,经等死放出的电子书进行扫描,取出信号电流。
此后,一个又一个的改良感光度的摄像管被发明,如超正析摄像管(1946年),光导摄像管,硒砷碲摄像管,雪崩倍增靶(HARP)摄像管等,逐渐担任产生电视图像的角色。
从原理可知,摄像管无法做到接通电源后立即工作,且工作电压高,功耗大,因燃烧寿命短等缺点。
在以后的日子里,摄像管会被固态图像传感器取代。
1.2 固态图像传感器(Solid-State Image Sensor)用于晶体管或者IC得Si(硅)等半导体材料,具有将接受的光转换成电的光电变换性质。
如果把单片IC基台的硅基板作为摄影面,并有规则的排列光电二极管(photodiode),然后依次将光电二极管的光电流以某种方式取出,则此基板具有了图像传感器的功能。
最早可以产生图像,以像素平面排列的固态图像传感器,其构造与目前的CCD不同。
例如发表于1966年的光敏晶体管平面排列的图像传感器;1967年发表了将光电二极管以平面矩阵排列,利用扫描脉冲与MOS晶体管,以XY地址方式取出信号的方法。
这种方法虽然实现了实用化,但在与CCD的竞争中失败,成为后来的CMOS传感器的原型。
1.3 CCD图像传感器1969年,CCD(Charge Coupled Device,电荷耦合器件)由美国贝尔实验室的维拉·博伊尔(Willard. S. Boyle)与乔治·史密斯(George. E. Smith)所发明,两位发明者也因此获得了2009年诺贝尔新物理学奖。
1.图像传感器的历史——从真空摄像管到CCD/CMOS图像传感器1.1 图像传感器的诞生在图像传感器出现前,胶片是唯一记录保存图像的工具,而胶片所保存的图像在远距离传输以及后期处理方面存在着难以逾越的障碍。
而图像传感器的目的是将拍摄的图像转化为电信号进行远距离传输、保存以及数字化保存和后期处理。
那么图像传感器又是何时出现在人们生活中的呢?最早登场的是1923年由V.K.兹沃雷金发明的光电摄像管,它是利用在真空中可自由操作电子运动的性质制作的。
如图1.1所示,在真空管中放置的云母板上面涂抹具有光电效应的铯(Cs),光线通过镜头在云母板上成像,此处产生的电荷,经等死放出的电子书进行扫描,取出信号电流。
此后,一个又一个的改良感光度的摄像管被发明,如超正析摄像管(1946年),光导摄像管,硒砷碲摄像管,雪崩倍增靶(HARP)摄像管等,逐渐担任产生电视图像的角色。
从原理可知,摄像管无法做到接通电源后立即工作,且工作电压高,功耗大,因燃烧寿命短等缺点。
在以后的日子里,摄像管会被固态图像传感器取代。
1.2 固态图像传感器(Solid-State Image Sensor)用于晶体管或者IC得Si(硅)等半导体材料,具有将接受的光转换成电的光电变换性质。
如果把单片IC基台的硅基板作为摄影面,并有规则的排列光电二极管(photodiode),然后依次将光电二极管的光电流以某种方式取出,则此基板具有了图像传感器的功能。
最早可以产生图像,以像素平面排列的固态图像传感器,其构造与目前的CCD不同。
例如发表于1966年的光敏晶体管平面排列的图像传感器;1967年发表了将光电二极管以平面矩阵排列,利用扫描脉冲与MOS晶体管,以XY地址方式取出信号的方法。
这种方法虽然实现了实用化,但在与CCD的竞争中失败,成为后来的CMOS传感器的原型。
1.3 CCD图像传感器1969年,CCD(Charge Coupled Device,电荷耦合器件)由美国贝尔实验室的维拉·博伊尔(Willard. S. Boyle)与乔治·史密斯(George. E. Smith)所发明,两位发明者也因此获得了2009年诺贝尔新物理学奖。
固态传感器的工作原理
固态传感器是一种用于检测物理量并将其转换为电信号的设备。
它们在许多应用中被广泛使用,例如汽车行业中的压力传感器和温度传感器,医疗行业中的血糖传感器,以及工业自动化中的位移传感器等。
固态传感器相对于传统的机械传感器更加稳定和可靠,因为它们没有运动部件,所以寿命更长且更容易维护。
基本上可以分为两种类型:电容型和电阻型。
1. 电容型传感器
电容型传感器通过监测物体与传感器之间的电容变化来检测物理量。
当物体接近传感器时,物体会改变传感器的电场分布,从而改变传感器的电容。
传感器将这种变化转换为电信号,进而可以测量物体与传感器之间的距离或其他物理量。
电容型传感器的一个常见应用是接近传感器。
当目标物体接近传感器时,电容会发生较大的变化,传感器可以检测到这种变化并输出信号。
这种原理也被用于触摸屏,当手指接近屏幕时会改变屏幕的电容,从而实现触摸的功能。
2. 电阻型传感器
电阻型传感器通过监测物体与传感器之间的电阻变化来检测物理量。
当物体接近传感器时,电阻会发生变化,传感器可以测量并转换这种变化为电信号。
电阻型传感器的一个常见应用是压力传感器。
当压力施加在传感器上时,传感器的电阻会发生变化,从而可以测量压力的大小。
另一个常见应用是温度传感器,当温度变化时,传感器的电阻也会发生变化,从而可以测量温度。
总的来说,固态传感器的工作原理是通过测量物体与传感器之间的电容或电阻变
化来检测物理量。
这种原理使得固态传感器具有稳定性高、寿命长、精度高等优点,因此在各行各业都得到了广泛的应用。
CMOS图像传感器芯片OV5017及其应用1 CMOS图像传感器的一般特征目前,CCD(电荷耦合器件)是主要的实用化固态图像传感器件,它具有读取噪声低、动态范围大、响应灵敏度高等优点。
但CCD技术难以与主流的CMOS 技术集成于同一芯片之中。
这样,诸如定时产生、驱动放大、自动曝光控制、模数转换及信号处理等支持电路就不能与像素阵列做同一芯片上,以CCD为基础的图像传感器难以实现单片一体化,因而具有体积大、功耗高等缺点。
CMOS图像传感器是近向年发展较快的新型图像传感器,由于采用了相同的CMOS技术,因此可以将像素阵列与外围支持电路集成在同一块芯片上。
实际上,CMOS图像传感器是一个较完成的图像系统(Camera on Chip),通常包括:一个图像传感器核心、单一时钟、所有的时序逻辑、可编程功能和模数转换器。
其基本结构见图1。
与CCD相比,CMOS图像传感器将整个图像系统集成在一块芯片上,具有以下优点:(1)体积小、重量轻、功耗低;(2)编程方便、易于控制;(3)平均成本低。
2 OV5017的性能与特点2.1 OV5017的基本性能OV5017是美国OmniVision公司开发的CMOS黑白图像传感器芯片,该芯片将CMOS光感应核与外围支持电路集成在一起,具有可编程控制与视频模/数混合输出等功能,其输出的视频为黑白图像,与CCIR标准兼容。
OV5017芯片的基本参数为:(1)图像尺寸4.2mm×3.2mm,像素尺寸11μm×11μm。
(2)信噪比SNR>42dB。
(3)帧频50时,最小照度为0.5lux@f1.4;(4)帧频50时,峰值功耗小于100mW。
OV5017输出模拟视频信号,格式为逐行扫描。
OV5017内部嵌入了一个8bit的A/D,因而可以同步输出8位的数字视频流D[7…0]。
在输出数字视频流的同时,还提供像素时钟PCLK、水平参考信号HREF、垂直同步信号VSYNC,便于外部电路读取图像。
解析图像传感器的功能固态图像传感器(Solid-state image sensor)也称之为成像器(Imager),是一种将通过成像透镜形成的光学图像转换为电子信号的半导体器件。
通过调整它的结构与材料,图像传感器的感光范围很广,可从X射线到红外波长区域。
而人眼可见的光谱范围只有380nm-780nm,对应的是可见光传感器。
1. 光电转换若一定通量的光子以高于半导体带隙能量Eg的能量进入半导体,即在厚度为dx的区域中所吸收的光子数量与光子通量Φ(x)的数值成正比,这里x表示距离半导体表面的距离。
可见光图像传感器的材料多是硅,硅的带隙能量为1.1eV,所以波长短于1100nm的光会被吸收,并且发生光子到信号电荷的转换,而硅对波长超过1100nm的光本质上是透明的。
光子通量吸收的连续性方程如下:这里α是吸收系数,与波长相关。
边界条件为代入得可以看出,光子通量随着与表面距离的增大呈现指数衰减。
吸收的光子在半导体中产生电子-空穴对,其密度分布服从上式。
图1显示了硅的吸收系数与波长的关系。
图1:硅的吸收系数与波长的关系图2显示了光通量的吸收过程。
横坐标为穿透深度,即1/α,代表光通量衰减到1/e时的深度。
如图2所示,蓝光(450nm)的穿透深度仅为0.42um,而红光(600nm)的穿透深度已经增大为2.44um 了。
图2:光通量的吸收过程2.电荷收集与积累图3为一个反向偏置的光电二极管用作电荷收集器件的原理。
图3:反向偏置光电二极管图3中,p型区域接地,而n+区域首先被复位到一个正电压V R。
之后二极管保持反偏条件并进入浮空状态。
由于内建电场的作用,被光子激发出的电子倾向于在n+区域聚集,从而此区域的电势减小;同时,空穴流入地端。
在这种情况下,电子就是信号电荷。
数码相机领域的所有的CCD和CMOS图像传感器都工作在这种电荷积分模式下,这种模式由G.Weckler在1967年首次提出。
图4为一个反向偏置的MOS二极管用作电荷收集器件的原理。