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5. 单晶硅中氢与辐照缺陷的相互作用

5. 单晶硅中氢与辐照缺陷的相互作用
5. 单晶硅中氢与辐照缺陷的相互作用

单晶硅材料简介

单晶硅材料简介 摘要:单晶硅是硅的单晶体,具有完整的点阵结构,纯度要求在99.9999%以上,是一种良好的半导体材料。制作工艺以直拉法为主,兼以区熔和外延。自从1893年光生伏效应的发现,太阳能电池就开始在人们的视线中出现,随着波兰科学家发展了生长单晶硅的提拉法工艺以及1959年单晶硅电池效率突破10%,单晶硅正式进入商业化。我国更是在05年把太阳能电池的产量提高到10MW/年,并且成为世界重要的光伏工业基地。单晶硅使信息产业成为全球经济发展中增长最快的先导产业,世界各国也重点发展单晶硅使得单晶硅成为能源行业宠儿。地壳中含量超过25.8%的硅含量使得单晶硅来源丰富,虽然暂时太阳能行业暂时以P 型电池主导,但遭遇边际效应的P型电池终将被N型电池所取代。单晶硅前途不可限量。 关键字:性质;历史;制备;发展前景 Monocrystalline silicon material Brief Introduction Abstract: Monocrystalline silicon is silicon single crystal with complete lattice structure, purity over 99.9999%, is a good semiconductor materials.Process is given priority to with czochralski method, and with zone melting and extension.Since 1893 time born v effect, found that solar cells began to appear in the line of sight of people, with the development of polish scientist pulling method of single crystal silicon growth process and single crystal silicon battery efficiency above 10% in 1959, monocrystalline silicon formally enter the commercial.5 years of our country is in the production of solar cells to 10 mw/year, and become the world pv industrial base.Monocrystalline silicon makes information industry become the world's fastest growing economy in the forerunner industry, the world also make focus on monocrystalline silicon single crystal silicon darling become the energy industry.Content more than 25.8% of silicon content in the crust has rich source of monocrystalline silicon, while the solar industry to temporarily P type battery, but in the marginal effects of p-type battery will eventually be replaced by N type battery.Future of monocrystalline silicon. Key words: silicon;Properties;History;Preparation;Prospects for development 一、单晶硅基本性质以及历史沿革 硅有晶态和无定形两种同素异形体。晶态硅又分为单晶硅和多晶硅,它们均具有金刚石晶格,晶体硬而脆,具有金属光泽,能导电,但导电率不及金属,且随温度升高而增加,具有半导体性质。晶态硅的熔点1410C,沸点2355C,密度2.32~2.34g/cm3,莫氏硬度为7。 单晶硅是硅的单晶体。具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质,是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.9999%,甚至达到99.9999999%以上。 熔融的单质硅在凝固时硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核,如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒,则这些晶粒平行结合起来便结晶成单晶硅。单晶硅具有准金属的物理性质,有较弱的导电性,其电导率随温度的升高而增加,有显著的半导电性。超纯的单晶硅是本征半导体。在超纯单晶硅中掺入微量的ⅢA族元素,如硼可提高其导电的程度,而形成p型硅半导体;如掺入微量的ⅤA族元素,如磷或砷也可提高导电程度,形成n型硅半导体。 最开始是1893年法国的实验物理学家E.Becquerel发现液体的光生伏特效应,简称为光伏效应。在1918年的时候波兰科学家Czochralski发展生长单晶硅的提拉法工艺。1959年Hoffman电子实现可商业化单晶硅电池效率达到10%,并通过用网栅电极来显著减少光伏电池串联电阻;卫星探险家6号发射,共用9600片太阳能电池列阵,每片2c㎡,共20W。由此单晶硅生产的太阳能电池正式进入商业化方向。 同样在中国,单晶硅的发展也是伴随着太阳能电池的发展。在1958年的时候我国开始

2020年细胞和基因治疗CDMO行业调查报告

2020年细胞和基因治疗CDMO行业调查报告 1 细胞和基因治疗:创新疗法的新方向 (一)细胞治疗:CAR-T 是目前商业化的主流方向 细胞疗法的原理是通过向患者移植正常或生物工程改造过的人体细胞以替代失去正常功能的细胞。人体中包含200多种不同的特殊细胞类型,例如肌肉,骨骼或脑细胞。这些细胞在体内执行特定功能,疾病或衰老可能导致人体细胞失去这些分化细胞。在许多情况下,这种缺失是不可逆的,也就意味着患病或丢失的细胞不再能被健康的细胞所补充。细胞疗法旨在将新的健康细胞人为地引入患者体内,以替代患病或缺失的细胞。 细胞治疗最早可以追溯到上个世纪30年代,而近代细胞治疗的快速兴起则是在2011年之后。2011年10月,法国科学家拉尔夫·斯坦曼因“发现树突状细胞和其在后天免疫中的作用”获得诺贝尔医学奖,标志着生物免疫治疗成为癌症治疗的新型疗法。此后,细胞治疗迅速兴起,在一些复杂的肿瘤疾病治疗中率先进行临床试验,被Science杂志评为2013年10大科技突破之首。 细胞疗法按照引入的细胞种类可以分为干细胞治疗和免疫细胞治疗。 干细胞治疗是利用人体干细胞的分化和修复原理,把健康的干细胞移植到病人体内,以达到修复病变细胞或重建功能正常的细胞和组织的目的。干细胞是一类具有无限的或者永生的自我更新能力的细胞、能够产生至少一种类型的、高度分化的子代细胞,具有多能性和全能性、自我更新能力和高度增殖能力等优点。患者自体干细胞较易获得,致癌风险也很低,同时也没有免疫排斥及伦理争议等问题,被更多地应用于临床。用于临床治疗的干细胞种类主要有骨髓干细胞、造血干细胞、神经干细胞等。干细胞治疗被广泛应用于临床各类疾病的治疗,主要包括血液类疾病、器官移植、心血管系统疾病、肝脏疾病、神经系统疾病、组织创伤等方面。 干细胞的全能型可以被用于细胞治疗 免疫细胞治疗的原理是采集人体自身的免疫细胞并进行体外培养扩增,同时加强其靶向性和杀伤力,最后再输入到病人体内以消灭病原体、癌细胞。免疫细胞是指参与免疫应答或与免疫应答有关的细胞,包括NK细胞、T细胞、B 细胞、巨噬细胞等。目前免疫细胞疗法主要被运用于癌症的治疗,根据所使用的的免疫细胞不同,分为细胞因子诱导的杀伤细胞(CIK)疗法、API生物免疫治疗、DC+CIK细胞疗法、自然杀伤细胞(NK)疗法、DC-T细胞疗法等。 免疫细胞疗法在癌症治疗上的应用主要是通过过继性免疫治疗实现的。过继性免疫治疗是指从肿瘤患者体内分离免疫活性细胞,在体外进行扩增和功能鉴定,然后向患者回输,从而达到直接杀伤肿瘤或激发机体的免疫应答杀伤肿瘤细胞的目的。过继性免疫治疗主要分为三大类:一种方法是利用从患者的肿瘤中分离出的肿瘤浸润淋巴细胞(TIL),在实验室中扩大其数目,然后再注入患者体内;第二种方法是改造从患者身上收获的T细胞,使其表达肿瘤抗原特异性T细胞受体(TCR),以便T细胞可以识别和攻击表达这种抗原的肿瘤细胞;第三种方法与TCR类似,区别在于其在T 细胞上构建的是一个嵌合型抗体受体(CAR),从而让免疫T细胞不仅能够特异性地识别癌症细胞,同时可以激活T细胞杀死癌症细胞。 目前CAR-T是唯一被FDA批准的过继性免疫疗法。TIL和TCR治疗只能靶向和消除在特定情况下(当抗原与主要组织相容性复合物或MHC结合时)呈递其抗原的癌细胞。而CAR的主要优势在于,即使不通过MHC将抗原呈递到表面,

广东单晶硅项目可行性分析报告

广东单晶硅项目可行性分析报告 规划设计/投资分析/产业运营

广东单晶硅项目可行性分析报告 单晶硅产品自2015年开始逐步扩大市场份额。近年来,单晶组件在我 国光伏组件出口总量中所占比例逐渐增加的趋势开始得到遏制,目前单晶 多晶出口比例基本维持在6:4的比例,单晶组件仍占据大部分市场份额。 从主要出口目的地国家的角度来看,出口日本、荷兰、澳大利亚的光伏组 件以单晶居多,这些国家更偏向高效组件产品,我国单晶出口比例的上升 与荷兰市场的开辟有着直接关系。巴西、印度则具有价格导向型市场的特征,以多晶组件占据大多数。 该单晶硅棒项目计划总投资6282.05万元,其中:固定资产投资 4748.56万元,占项目总投资的75.59%;流动资金1533.49万元,占项目 总投资的24.41%。 达产年营业收入14483.00万元,总成本费用11520.10万元,税金及 附加124.39万元,利润总额2962.90万元,利税总额3495.97万元,税后 净利润2222.18万元,达产年纳税总额1273.80万元;达产年投资利润率47.16%,投资利税率55.65%,投资回报率35.37%,全部投资回收期4.33年,提供就业职位285个。 坚持“实事求是”原则。项目承办单位的管理决策层要以求实、科学 的态度,严格按国家《建设项目经济评价方法与参数》(第三版)的要求,

在全面完成调查研究基础上,进行细致的论证和比较,做到技术先进、可靠、经济合理,为投资决策提供可靠的依据,同时,以客观公正立场、科 学严谨的态度对项目的经济效益做出科学的评价。 ...... 进入21世纪以来,全球单晶硅片行业的发展经历了兴盛(2007年以前)——低迷(2008-2016年底)——逐渐复苏(2017年以来)。兴盛期间, 行业市场规模曾经超过120亿美元。低迷时期,下游需求不振,市场供过 于求,导致单晶硅片价格屡屡下滑,行业规模不断下降,2009年达到了67 亿美元的低值,且本已进入众多企业研发范畴的18英寸单晶硅片技术也因 此而搁浅。直到2016年,全球单晶硅片行业仍未走出低迷状态,年销售额 仅72亿美元左右。

干细胞行业分析

干细胞行业分析报告 贵州省科技风险投资管理中心 贵州省科技风险投资有限公司 贵州鼎信博成投资管理有限公司

目录 一、干细胞概述 (3) (一)产品定义 (3) (二)干细胞产品分类 (3) 二、干细胞行业及发展概况 (5) (一)国际行业发展概况 (5) (二)国内行业发展概况 (6) (三)干细胞行业特点 (8) 三、国内外干细胞临床研究的概况 (10) (一)国外干细胞临床研究现状 (10) (二)国内干细胞临床研究现状 (10) 四、干细胞市场现状分析 (11) 五、干细胞市场供需分析 (16) 六、涉及干细胞技术研究与应用的上市公司基介绍 (21) 七、干细胞行业产业链及投资价值分析 (22) 附件一:2011年最新国外干细胞研发企业及其相关产品 (25) 附件二:干细胞产业政策研究 (33) 附件三:人类干细胞之伦理原则与监管政策 (35)

一、干细胞概述 (一)产品定义 干细胞(stem cells,SC)是一类具有自我复制能力(self-renewing)的多潜能细胞,在一定条件下,它可以分化成多种功能细胞。干细胞(Stem Cell)是一种未充分分化,尚不成熟的细胞,具有再生各种组织器官和人体的潜在功能,改变了人类疾病的应对方法,医学界称为“万用细胞”。 (二)干细胞产品分类 1、干细胞具有自我更新能力(Self-renewing),能够产生高度分化的功能细胞。干细胞按照生存阶段分为以下五类: (1)胚胎干细胞 胚胎干细胞当受精卵分裂发育成囊胚时,内层细胞团(Inner Cell Mass)的细胞即为胚胎干细胞。胚胎干细胞具有全能性,可以自我更新并具有分化为体内所有组织的能力。 (2)成体干细胞 成年动物的许多组织和器官,比如表皮和造血系统,具有修复和再生的能力。成体干细胞在其中起着关键的作用。在特定条件下,成体干细胞或者产生新的干细胞,或者按一定的程序分化,形成新的功能细胞,从而使组织和器官保持生长和衰退的动态平衡。

单晶硅行业分析报告

单晶硅行业分析报告 1、单晶硅分为半导体级和太阳能级两种,半导体级单晶硅是电子信息材料中最基础的材料,主要用于制造半导体和集成电路,太阳能级多晶硅主要用于制造太阳能电池。 2、日本、美国和德国是世界上硅材料的主要生产国,我国硅材料和日本同时起步,但技术较国际先进水平差距较大。目前国内企业主流产品为3”—6”硅片,而国际主流产品则为8”—12”硅片,且正在向12”硅片靠拢。 3、目前半导体单晶硅高端技术主要被几家国际大公司垄断,日本的信越公司、SUMCO公司、德国的WACKER公司和美国的MEMC等大型跨国企业占据了半导体单晶和硅片市场的90%。国内企业发展单晶硅面临技术和资金两大瓶颈,但我国太阳能级多晶硅技术接近国际先进水平,生产产量和出口额排名世界第一。 4、从市场供应状况看,全球和国内3”--6”电子级单晶硅片市场基本趋于饱和,受原材料市场影响基本没有利润空间,大尺寸单晶硅片市场需求增长迅猛,利润非常可观,已基本成为市场主流产品。太阳能级单晶硅今年呈高速增长趋势,但国内外的产能也在不断扩大,供需基本平衡。 5、全球太阳能多晶硅制造技术由发达国家的七家公司垄断,这七家公司占全球90%以上的市场份额。近两年,我国太阳能级多晶硅行业发展可谓突飞猛进,许多上规模的项目纷纷投产,从2008年起太阳能级多晶硅市场基本趋于供需平衡,到2008年下半年,伴随世界金融危机的蔓延,太阳能级多晶硅市场又面临严重的半停顿状态,价格快速回落,而且是有价无市。但电子级单晶硅技术由于被世界几大厂商垄断,国内仅有新光硅业一家能生产,供需矛盾非常突出,未来价格会居高不下。 6、单晶硅下游半导体器件市场一直呈平稳增长趋势,随着规律性起伏,也会产生一些调整,但总体增长趋势不变。而2005-2008年,太阳能市场呈爆发型市场增长态势,因此,市场对太阳能级多晶硅及单晶硅的需求较为旺盛。而半导

单晶硅太阳能电池的性能研究

目录 第一章绪论................................................... 错误!未定义书签。 1.1 太阳能是人类最理想的能源............................... 错误!未定义书签。 1.2 太阳能发电是最理想的新能源技术......................... 错误!未定义书签。 1.3 太阳能发电的应用....................................... 错误!未定义书签。 1.4 太阳能发电的前景....................................... 错误!未定义书签。第二章单晶硅太阳能电池的理论基础............................. 错误!未定义书签。 2.1 关于P-N结............................................. 错误!未定义书签。 2.2 光电流................................................. 错误!未定义书签。 2.3 光电压................................................. 错误!未定义书签。 2.4 太阳电池的等效电路..................................... 错误!未定义书签。第三章单晶硅太阳能电池的性能分析............................. 错误!未定义书签。 3.1 硅太阳电池的结构....................................... 错误!未定义书签。 3.2 单晶硅太阳电池的主要性能参数........................... 错误!未定义书签。 3.2.1 输出特性与光强关系............................... 错误!未定义书签。 3.2.2 光照角特性....................................... 错误!未定义书签。 3.2.3 响应时间......................................... 错误!未定义书签。 3.2.4 光反射持性....................................... 错误!未定义书签。 3.2.5 温度特性......................................... 错误!未定义书签。 3.2.6 热性质........................................... 错误!未定义书签。 3.2.7 使用寿命......................................... 错误!未定义书签。 3.3 温度和光照强度对电池性能的影响......................... 错误!未定义书签。 3.3.1 温度影响......................................... 错误!未定义书签。 3.3.2 光照强度影响..................................... 错误!未定义书签。 3.3.3 温度和光照强度的综合影响......................... 错误!未定义书签。 3.4 辐照对电池性能的影晌................................... 错误!未定义书签。 3.4.1 辐照损伤......................................... 错误!未定义书签。 3.4.2 提高光电抗辐射能力的方法......................... 错误!未定义书签。第四章工艺参数对电池性能的影响............................... 错误!未定义书签。 4.1 硅片的表面处理......................................... 错误!未定义书签。 4.1.1 表面损伤层....................................... 错误!未定义书签。 4.1.2 表面织构化....................................... 错误!未定义书签。 4.2 扩散................................................... 错误!未定义书签。 4.2.1 扩散温度和时间................................... 错误!未定义书签。 4.2.3 常规P扩型对于性能的影响......................... 错误!未定义书签。 4.3 减反射膜............................................... 错误!未定义书签。 4.3.1 氮化硅膜厚度..................................... 错误!未定义书签。 4.3.2 折射率........................................... 错误!未定义书签。 ....................................................... 错误!未定义书签。 4.3.4 H含量............................................ 错误!未定义书签。 4.3.5 硅氮比例......................................... 错误!未定义书签。 4.3.6 薄膜的折射率随Si/N的变化........................ 错误!未定义书签。 ....................................................... 错误!未定义书签。 ....................................................... 错误!未定义书签。 4.4 电极加工及烧结中的影响因素............................. 错误!未定义书签。

干细胞抗衰老行业现状分析报告

目录 一、干细胞行业的“万用功能“及发展前景 (2) 二、干细胞行业相关政策分析 (4) 三、干细胞抗衰老作用机理 (4) 1.骨髓间充质干细胞 (5) 2.脐带血干细胞 (6) 3.脂肪干细胞 (7) 4.胚胎干细胞 (7) 四、干细胞产业链分析 (8) 五、干细胞国内相关企业分析 (9) 1.中源协和:中国干细胞产业链的整合者,全面布局上下游 (9) 2.北科生物:干细胞技术全球领先,有望成为中国的“苹果” (10) 3.金卫医疗:通过CCBC股权间接经营干细胞存储业务 (11) 4.冠昊生物:依托技术优势进军干细胞治疗领域 (12)

图表目录 图表1:干细胞治疗应用方向 (3) 图表2:干细胞抗衰老行业相关政策 (4) 图表3:随着年龄的增长,骨髓中干细胞数目急剧下降 (5) 图表4:小鼠骨髓间充质干细胞具有抗衰老作用 (6) 图表5:脐带血干细胞可以促进细胞增殖,修复受伤组织 (6) 图表6:肌肉注射胚胎干细胞后各系统疗效(临床改善指数) (7) 图表7:干细胞产业链 (8) 图表8:北科生物发展历程 (11) 图表9:金卫医疗发展历程 (12)

一、干细胞行业的“万用功能“及发展前景 干细胞是具有自我复制和多向分化潜能的原始细胞,是机体的起源细胞,是形成人体各种组织器官的原始细胞。在一定条件下,它可以分化成多种功能细胞或组织器官,医学界称其为“万用细胞”,对应干细胞治疗具有极大的潜力。干细胞按发育状态分为胚胎干细胞、成体干细胞。按分化潜能分为全能干细胞、多能干细胞、单能干细胞。 干细胞治疗则是把健康的干细胞移植到病人或自己体内,以达到修复病变细胞或重建功能正常的细胞和组织的目的。即干细胞治疗从细胞层上治疗疾病,相较很多传统治疗方法具有无可比拟的优点: (1)安全:低毒性(或无毒性); (2)在尚未完全了解疾病发病的确切机理前也可以应用; (3)治疗材料来源充足; (4)治疗范围广阔; (5)是最好的免疫治疗和基因治疗载体; (6)传统疗法认为是“不治之症”的疾病,又有了新的疗法和新的希望。 因此干细胞治疗作为一种比较优势突出的新型治疗,临床上应用的领域包括治疗心血管疾病、神经系统疾病、血液病、肝病、肾病、糖尿病、骨关节疾病等,现在比较成熟的如应用骨髓移植治疗白血病等恶性血液病,随着未来越来越多临床试验的成功,产业发展前景将十分广阔。 图表1:干细胞治疗应用方向 资料来源:银联信

最新社交电商行业分析报告

欢迎大家下载,下载后可自由编辑修改 社交电商行业分析报告

前言 社交电商有的做精选,有的做拼团,有的依托网红,有的从垂直领域出发,爆发的节点此起彼伏.蘑菇街、小红书、拼多多同属于社交电商,各自的角色定位有所重合,所以面临的行业挑战是相同的。不论如何,消费离不开社交。社交往往会带动消费,从这个层面上看,社交电商的发展前景很大,只是发展的道路免不了荆棘遍野。金准人工智能专家结合过去半年多的行业先进性观察,梳理了十家具有鲜明特质的社交电商。 渠道早已中心化的传统电商正在遭到颠覆,颠覆的主角正是以人群为重要节点,去中心化的社交电商。伴随微信生态释放的巨大红利,电商的社交化成为一大趋势,大量资本和企业涌入这条赛道,仅最近半年多,社交电商融资额达到数十亿美元。从百亿云集到千亿拼多多,在社交网络上分销、拼团等新玩法层出不穷,对准一线到四五线,中产到普通消费者等不同层级用户的争夺,更像是让众多社交电商之间,乃至和传统线上线下零售商,陷入到了一场久违、全面的洗牌战争。 金准人工智能专家发现在社交电商背后,一些共通的底层逻辑和商业价值。对于消费群体的分割,产品的选择,轻重模式的确定,决定了它们能否长远和做大。 一、中国社交电商市场现状分析 1.1电商行业发展 金准人工智能专家预计2018年中国移动购物市场交易额将达5.7万亿元,同时移动电商用户突破5亿人,增长至5.12亿人。中国电子商务行业发展迅速,移动支付技术的发展则促使移动端电商行业日渐成熟,移动电商用户不断扩大,消费者已养成网购消费习惯。中国电商行业的高速发展客观上为社交电商发展奠定基础。

1.2政策逐步完善 对于仍处于发展初期的社交电商,国家相关机构陆续出台相关政策,鼓励社交电商行业发展,同时对市场环境进行规范。金准人工智能专家认为,由早期微商到近期依托微信小程序发展加速的社交电商行业,处于初期发展阶段,虽然社交电商行业发展潜力巨大,但需要政策对市场进行规范,以促进行业健康有序发展。

单晶硅与多晶硅的区别、功能及优缺点

单晶硅与多晶硅的区别、功能及优缺点 单晶硅 硅有晶态和无定形两种同素异形体。晶态硅又分为单晶硅和多晶硅,它们均具有金刚石晶格,晶体硬而脆,具有金属光泽,能导电,但导电率不及金属,且随温度升高而增加,具有半导体性质。 单晶硅在日常生活中是电子计算机、自动控制系统等现代科学技术中不可缺少的基本材料。电视、电脑、冰箱、电话、手表、汽车,处处都离不开单晶硅材料,单晶硅作为科技应用普及材料之一,已经渗透到人们生活中的各个角落。 单晶硅在火星上是火星探测器中太阳能转换器的制成材料。火星探测器在火星上的能量全部来自太阳光,探测器白天休息---利用太阳能电池板把光能转化为电能存储起来,晚上则进行科学研究活动。也就是说,只要有了单晶硅,在太阳光照到的地方,就有了能量来源单晶硅在太空中是航天飞机、宇宙飞船、人造卫星必不可少的原材料。人类在征服宇宙的征途上,所取得的每一步进步,都有着单晶硅的身影。航天器材大部分的零部件都要以单晶硅为基础。离开单晶硅,卫星会没有能源,没有单晶硅,航天飞机和宇航员不会和地球取得联系,单晶硅作为人类科技进步的基石,为人类征服太空作出了不可磨灭的贡献。 单晶硅在太阳能电池中得到广泛的应用。高纯的单晶硅是重要的半导体材料,在光伏技术和微小型半导体逆变器技术飞速发展的今天,利用硅单晶所生产的太阳能电池可以直接把太阳能转化为光能,实现了迈向绿色能源革命的开始。单晶硅太阳能电池的特点:1.光电转换效率高,可靠性高; 2.先进的扩散技术,保证片内各处转换效率的均匀性; 3.运用先进的PECVD成膜技术,在电池表面镀上深蓝色的氮化硅减反射膜,颜色均匀美观;4.应用高品质的金属浆料制作背场和电极,确保良好的导电性。 单晶硅广阔的应用领域和良好的发展前景北京2008年奥运会将把"绿色奥运"做为重要展示面向全世界展现,单晶硅的利用在其中将是非常重要的一环。现在,国外的太阳能光伏电站已经到了理论成熟阶段,正在向实际应用阶段过渡,太阳能硅单晶的利用将是普及到全世界范围,市场需求量不言而喻。

硅单晶中晶体缺陷的腐蚀显示

硅单晶中晶体缺陷的腐蚀显示 实验安排:4人/组 时间:两小时 地点:北方工业大学第三教学楼2403房间 实验所用主要设备:金相显微镜 一、实验目的 硅单晶中的各种缺陷对器件的性能有很大的影响,它会造成扩散结面不平整,使晶体管中出现管道,引起p-n 结的反向漏电增大等。各种缺陷的产生和数量的多少与晶体制备工艺和器件工艺有关。晶体缺陷的实验观察方法有许多种,如透射电子显微镜、X光貌相技术、红外显微镜及金相腐蚀显示等方法。对表面缺陷也可以用扫描电子显微镜来观察。由于金相腐蚀显示技术设备简单,操作易掌握,又较直观,是观察研究晶体缺陷的最常用的方法之一。金相腐蚀显示可以揭示缺陷的数量和分布情况,找出缺陷形成、增殖和晶体制备工艺及器件工艺的关系,为改进工艺,减少缺陷、提高器件合格率和改善器件性能提供线索。 二、原理 硅单晶属金刚石结构,在实际的硅单晶中不可能整块晶体中原子完全按金刚石结构整齐排列,总又某些局部区域点阵排列的规律性被破坏,则该区域就称为晶体缺陷。硅单晶中的缺陷主要有点缺陷、线缺陷和面缺陷等三类。晶体缺陷可以在晶体生长过程中产生,也可以在热处理、晶体加工和受放射性辐射时产生。 在硅单晶中缺陷区不仅是高应力区,而且极易富集一些杂质,这样缺陷区就比晶格完整区化学活拨性强,对化学腐蚀剂的作用灵敏,因此容易被腐蚀而形成蚀坑,在有高度对称性的低指数面上蚀坑形状通常呈现相应的对称性,如位错在(111)、(100)、(110)面上分别呈三角形、方形和菱形蚀坑。 用作腐蚀显示的腐蚀剂按不同作用大体可分为两类,一类蚀非择优腐蚀剂,它主要用于晶体表面的化学抛光,目的在于达到清洁处理,去除机械损伤层和获得一个光亮的表面;另一类是择优腐蚀剂,用来揭示缺陷。一般腐蚀速度越快择择优性越差,而对择优腐蚀剂则要求缺陷蚀坑的出现率高、特征性强、再现性好和腐蚀时间短。 通常用的非择优腐蚀剂的配方为: HF(40-42%):HNO3(65%)=1:2.5 它们的化学反应过程为: Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2+4H2O 通常用的择优腐蚀剂主要有以下二种: (1)希尔腐蚀液(铬酸腐蚀液) 先用CrO3与去离子水配成标准液: 标准液=50g CrO3+100g H2O 然后配成下列几种腐蚀液: A. 标准液:HF(40-42%)=2:1(慢速液) B. 标准液:HF(40-42%)=3:2(中速液) C. 标准液:HF(40-42%)=1:1(快速液) D. 标准液:HF(40-42%)=1:2(快速液) 一般常用的为配方C液,它们的化学反应过程为: Si+CrO3+8HF=H2SiF6+CrF2+3H2O (2)达希腐蚀液

无锡单晶硅项目投资分析报告

无锡单晶硅项目投资分析报告 规划设计/投资方案/产业运营

报告说明— 单晶硅产品自2015年开始逐步扩大市场份额。近年来,单晶组件在我国光伏组件出口总量中所占比例逐渐增加的趋势开始得到遏制,目前单晶多晶出口比例基本维持在6:4的比例,单晶组件仍占据大部分市场份额。从主要出口目的地国家的角度来看,出口日本、荷兰、澳大利亚的光伏组件以单晶居多,这些国家更偏向高效组件产品,我国单晶出口比例的上升与荷兰市场的开辟有着直接关系。巴西、印度则具有价格导向型市场的特征,以多晶组件占据大多数。 该单晶硅棒项目计划总投资13496.29万元,其中:固定资产投资11584.57万元,占项目总投资的85.84%;流动资金1911.72万元,占项目总投资的14.16%。 达产年营业收入14039.00万元,总成本费用11089.29万元,税金及附加225.42万元,利润总额2949.71万元,利税总额3581.99万元,税后净利润2212.28万元,达产年纳税总额1369.71万元;达产年投资利润率21.86%,投资利税率26.54%,投资回报率16.39%,全部投资回收期7.60年,提供就业职位303个。 从生产工艺来看,单多晶生产工艺差别主要体现在拉棒和铸锭环节,其中单晶硅棒工艺对设备、生产人员的要求严格,早期单晶硅片因长晶炉

投料量、生长速率、拉棒速度等方面技术不够成熟,生产成本居高不下,而多晶硅锭使用铸锭技术成本优势明显而占据主要市场份额。

目录 第一章概述 第二章项目建设单位 第三章项目建设必要性分析第四章项目市场调研 第五章建设规划 第六章项目选址可行性分析第七章项目工程方案分析第八章工艺说明 第九章项目环境影响分析第十章安全卫生 第十一章建设及运营风险分析第十二章项目节能方案分析第十三章实施安排 第十四章项目投资情况 第十五章经济效益 第十六章总结评价 第十七章项目招投标方案

单晶硅中可能出现的各种缺陷分析

单晶硅中可能出现的各种缺陷分析 缺陷,是对于晶体的周期性对称的破坏,使得实际的晶体偏离了理想晶体的晶体结构。在各种缺陷之中,有着多种分类方式,如果按照缺陷的维度,可以分为以下几种缺陷: 点缺陷:在晶体学中,点缺陷是指在三维尺度上都很小的,不超过几个原子直径的缺陷。其在三维尺寸均很小,只在某些位置发生,只影响邻近几个原子,有被称为零维缺陷。 线缺陷:线缺陷指二维尺度很小而们可以通过电镜等来对其进行观测。 面缺陷:面缺陷经常发生在两个不同相的界面上,或者同一晶体内部不同晶畴之间。界面两边都是周期排列点阵结构,而在界面处则出现了格点的错位。我们可以用光学显微镜观察面缺陷。 体缺陷:所谓体缺陷,是指在晶体中较大的尺寸范围内的晶格排列的不规则,比如包裹体、气泡、空洞等。 一、点缺陷 点缺陷包括空位、间隙原子和微缺陷等。 1、空位、间隙原子 点缺陷包括热点缺陷(本征点缺陷)和杂质点缺陷(非本征点缺陷)。 1.1热点缺陷 其中热点缺陷有两种基本形式:弗仑克尔缺陷和肖特基缺陷。单晶中空位和间隙原子在热平衡时的浓度与温度有关。温度愈高,平衡浓度愈大。高温生长

的硅单晶,在冷却过程中过饱和的间隙原子和空位要消失,其消失的途径是:空位和间隙原子相遇使复合消失;扩散到晶体表面消失;或扩散到位错区消失并引起位错攀移。间隙原子和空位目前尚无法观察。 1.2杂质点缺陷 A、替位杂质点缺陷,如硅晶体中的磷、硼、碳等杂质原子 B、间隙杂质点缺陷,如硅晶体中的氧等 1.3点缺陷之间相互作用 一个空位和一个间隙原子结合使空位和间隙原子同时湮灭(复合),两个空位形成双空位或空位团,间隙原子聚成团,热点缺陷和杂质点缺陷相互作用形成复杂的点缺陷复合体等。 2、微缺陷 2.1产生原因 如果晶体生长过程中冷却速度较快,饱和热点缺陷聚集或者他们与杂质的络合物凝聚而成间隙型位错环、位错环团及层错等。Cz硅单晶中的微缺陷,多数是各种形态的氧化物沉淀,它们是氧和碳等杂质,在晶体冷却过程中,通过均质成核和异质成核机理形成。 2.2微缺陷观察方法 1)择优化学腐蚀: 择优化学腐蚀后在横断面上呈均匀分布或组成各种形态的宏观漩涡花纹(漩涡缺陷)。宏观上,为一系列同心环或螺旋状的腐蚀图形,在显微镜下微缺陷的微观腐蚀形态为浅底腐蚀坑或腐蚀小丘(蝶形蚀坑)。在硅单晶的纵剖面上,微缺陷通常呈层状分布。 2)热氧化处理: 由于CZ硅单晶中的微缺陷,其应力场太小,往往需热氧化处理,使微缺陷缀饰长大或转化为氧化层错或小位错环后,才可用择优腐蚀方法显示。 3)扫描电子显微技术,X射线形貌技术,红外显微技术等方法。 2.3微缺陷结构

干细胞库建设项目可行性研究报告

干细胞研究项目 二OO九年十一月十日

目录 内容提要 第1章总论....................................................... 11 §1.1 项目背景 ................................................ 11 §1.1.1 项目名称........................................... 11 §1.1.2 项目出资方及资本结构............................... 11 §1.1.3 项目拟建地点....................................... 11 §1.1.4 立项依据........................................... 11 §1.2 可行性研究结论 .......................................... 22 §1.2.1 市场预测和项目规模................................. 22 §1.2.2 公用系统供应.. (2) §1.2.3 项目地址 (102) §1.2.4 环境保护 (102) §1.2.5 组织及劳动定员 (113) §1.2.6 项目建设进度 (114) §1.2.7 投资估算和资金筹措 (114) §1.2.8 项目财务和经济评价 (124) §1.2.9 项目综合评价结论 (126) 第2章项目背景和发展概况 (137) §2.1 项目提出的背景 (137) §2.1.1 国家及行业发展规划 (137) §2.1.2 项目发起人和发起原因 (7) §2.2 项目发展概况 (148) §2.3 投资的必要性 (15) 第3章市场分析与营销方案 (1710) §3.1 市场调查 (1710) §3.2 市场预测 (11) §3.3 价格策略 (28) §3.4 销售收入预测 (13)

山东单晶硅项目可行性分析报告

山东单晶硅项目可行性分析报告 规划设计/投资方案/产业运营

报告说明— 单晶硅产品自2015年开始逐步扩大市场份额。近年来,单晶组件在我国光伏组件出口总量中所占比例逐渐增加的趋势开始得到遏制,目前单晶多晶出口比例基本维持在6:4的比例,单晶组件仍占据大部分市场份额。从主要出口目的地国家的角度来看,出口日本、荷兰、澳大利亚的光伏组件以单晶居多,这些国家更偏向高效组件产品,我国单晶出口比例的上升与荷兰市场的开辟有着直接关系。巴西、印度则具有价格导向型市场的特征,以多晶组件占据大多数。 该单晶硅棒项目计划总投资9444.36万元,其中:固定资产投资7250.97万元,占项目总投资的76.78%;流动资金2193.39万元,占项目总投资的23.22%。 达产年营业收入20559.00万元,总成本费用16074.99万元,税金及附加190.73万元,利润总额4484.01万元,利税总额5293.22万元,税后净利润3363.01万元,达产年纳税总额1930.21万元;达产年投资利润率47.48%,投资利税率56.05%,投资回报率35.61%,全部投资回收期4.31年,提供就业职位381个。 从生产工艺来看,单多晶生产工艺差别主要体现在拉棒和铸锭环节,其中单晶硅棒工艺对设备、生产人员的要求严格,早期单晶硅片因长晶炉

投料量、生长速率、拉棒速度等方面技术不够成熟,生产成本居高不下,而多晶硅锭使用铸锭技术成本优势明显而占据主要市场份额。

目录 第一章概论 第二章项目建设单位基本情况第三章建设背景 第四章项目市场空间分析 第五章产品规划及建设规模第六章选址可行性分析 第七章土建工程设计 第八章工艺分析 第九章项目环保分析 第十章安全卫生 第十一章风险评估 第十二章节能说明 第十三章计划安排 第十四章投资计划方案 第十五章经济效益可行性 第十六章项目综合评估 第十七章项目招投标方案

第三节硅单晶

第三节硅单晶 一、直拉硅单晶 1961年1月,上海有色金属研究所第三研究室组建直拉硅单晶研制组,从制作设备开始,制成华东地区第一台直拉硅单晶炉。8月26日拉出1根重30克的硅单晶,受到复旦大学谢希德教授的称赞。11月又试制成掺磷、电阻率1~10欧姆·厘米的硅单晶。 [硅单晶] 1961年12月,上海金属加工厂在国产直筒式直拉硅单晶炉上试拉单晶,翌年2月拉制出重36克硅单晶,最初液态硅易结晶,成晶困难,在内层保温罩上加一层钼片,状况改观,电阻率均匀性也有提高。 1964年10月,为研制百万次电子计算机需要,上海市冶金工业局、市科学技术委员会联合向上海有色金属研究所下达研制生产电阻率为0.025~0.03欧姆·厘米的重掺硼硅单晶。该所第四研究室组成研制组,采用充氩工艺,完成了20个品种,供上海元件五厂制作11伏和37.5伏稳压管,经试用性能满足要求。翌年3月市冶金工业局邀请有关专家鉴定,确认工艺稳定,质量可靠,用多种方法掺杂均获得满意结果,并成功地验证了美国贝尔电话公司发表的电阻率曲线,填补了国内空白。国家科委以《重掺硼单晶的科学研究》为题,印成500本单行本内部发行。 随后该所又研制成硅外延衬底用电阻率为0.001~0.009欧姆·厘米重掺砷硅单晶和电阻率为0.003~0.009欧姆·厘米重掺锑硅单晶。经该所硅外延组和中国科学院上海冶金研究所长期使用,质量稳定可靠,是理想的硅外延衬底材料。市科委硅外延领导小组确认该成果填补了国内空白,要求除该所继续生产外,总结经验移交上海金属加工厂生产。1965年,该厂生产的硅单晶头部有滑移线、小角度晶界等缺陷,总工程师葛涛组织有关人员专题研究,总结经验教训,采取“引晶细长,放肩圆滑,直径均匀,尾呈圆锥”的16字经验。并延长停炉时间,缺陷得到改善,位错密度在5×103个/平方厘米以下。1971年该厂在DJL-70硅单晶炉增加投料量试验,改进加热系统,扩大石墨器件尺寸,产量上升。1974年拉制出直径100毫米重5公斤硅单晶。为适应器件厂提高硅单晶的利用率的要求,1978年7月又首次拉制出符合质量要求的等直径硅单晶。 1970年,上海冶炼厂用直拉法制备硅单晶。为提高质量,1973年起采用偏心拉晶工艺,径向电阻率不均匀性小于20%,充氩减压工艺,降低氩气消耗

SOI技术的抗辐照能力报告.doc

SOI技术的抗辐照能力报告 SOISOI 技术的抗辐照能力报告技术的抗辐照能力报告目录目录 1 关于关于SOISOI 抗辐照技术的可行方案抗辐照技术的可行方案 3 2 2 SOISOI 技术简介技术简介.4 2.1 SOI 技术的定义4 2.2 SOI 技术的特点4 3 3 SOISOI 技术的研究现状技术的研究现状.7 3.1 常用的四种抗辐射材料.7 3.2 SOI 技术的应用7 3.3 SOI 技术国际主流公司8 3.4 SOI 产业联盟9 3.5 国内SOI 技术研究.9 3.6 SOI 技术的市场份额10 4 4 空间辐射问题空间辐射问题10 4.1 航天器面临的辐射环境.10 4.2 电子元器件所受到的辐射效应.12 5 5 SOISOI 抗辐照技术抗辐照技术.13 5.1 SOI 技术的抗辐射指标13 5.2 SOI 器件实例13 5.3 SOI 技术和体硅CMOS 技术两种技术抗辐射能力的对比14 5.4 SOI 不加固的抗辐照性能14 5.5 体硅不进行抗辐射加固的抗辐照性能.15 5.6 目前国内SOI 技术的工艺水平.16 5.6.1 0.8um 工艺芯片的集成度16 5.6.2 0.8um 工艺与0.18um 工艺集成度的差异17 6 6 STISTI 侧沟道隔离技术侧沟道隔离技术.17 6.1 隔离的目的.17 6.2 隔离技术的要求.18 6.3 常见的隔离工艺技术.18 6.4 LOCOS 隔离技术18 6.5 改进的LOCOS 结构隔离技术.20 6.6 STI 隔离技术22 1 关于关于SOISOI 抗辐照技术的可行方案抗辐照技术的可行方案国内现有四家做抗辐照方面研究的单位(1)七七一所目前在抗辐照芯片开发方面,

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