版图设计入门专题——快捷键汇总（原创）
要画版图，首先要熟悉所有的快捷键。要能熟练的画版图，那就要非常熟练的运用快捷键。运用快捷键越熟练，你画版图的速度就越快，效率就越高！
下面，我将网上最常见的快捷键进行了归纳，同时做出了相应的解释。在原来的基础上做了润色！既然要发原创的东西，肯定会有所不同，也同时肯定会有新的东西贡献给大家，供大家学习参考。
之前我发过有关快捷键的原创东西，现在将有关快捷键的资料汇总到一起，方便大家查看！
前面是大家最常见的快捷键归纳，我做了些润色和解释。
中间是Virtuoso Layout工具栏中的部分命令的解释。
最后是Add Some Special Layout Bindkeys的语法和解释。
Virtuoso Layout Editor快捷键归纳
鼠标快捷键操作
1、单击左键选中一个图形。
2、用左键框选，选中一片图形，某个图形要被完全包围才会被选中。
3、单击中键调出常用菜单命令。
4、右键点击拖放用来放大。放大后经常配合F键使用，恢复到全部显示。配合Tab键或
者方向键，平移视图。
5、Shift+左键加选图形，Ctrl+左键减选图形。(Cadence菜单中大写按Shift+A字母，或者
直接按大小写切换键Caps lock）。
6、右键常用命令（Right mouse）：
a.没有命令时重复上次命令；
b.move和Create instance时逆时针旋转，Shift＋Right mouse轮流关于x/y轴对称；
c.画path时，L90Xfirst和L90Yfirst之间切换，Ctrl＋Right mouse Path自动换层
（Path stitching）切换，只有techfile中有关contact的定义了之后才能使用Path stitching 的功能，Shift＋Right mouse换层时通孔旋转；
d.Reshape和split时，右键切换不同的高亮区域，以便下一步的操作；
键盘快捷键操作
F1显示帮助窗口，没反应。
F2保存。
F3控制在选取相应工具后是否显示相应属性对话框的。
F4英文是Toggle Partial Select，就是用来控制是否可以部分选择一个图形。
F5打开。
F6没反应。
F7没反应。
F8Guided Path Create切换至L90XYFirst。
F9是Filter Size。
Ctrl+A全选。
B键（Return To Level）返回上一级，类似Shift+B。
Shift+B（Return）返回到上一级视图。
C键（copy）复制。
Ctrl+C中断某个命令，不常用。一般多按几次Esc键取消某个命令。
Shift+C(Chop)切割，首先调用命令，选中要裁切的图形，后画矩形裁切。
Ctrl+D取消选择。这个也可用鼠标点击空白区域实现。有Shift+D，和D也是取消选择
E键设置display option
Shift+E设置layout editor option
F键满工作区显示
Ctrl+F显示上层等级
Shift+F显示所有等级。
G键(Gravity)开关引力，点击G键打开Gravity，再点击G键关闭Gravity。
Ctrl+G(Zoom To Grid)缩小到格点Grid。
I键(Instance)插入模块。
K键(Ruler)标尺工具。
Shift+K清除所有标尺。
L键（Label）标签工具。标签要加在特定的text层上。
M键（Move）移动工具。
Shift+M（Merge）合并工具。
N键（Diagonal）斜45°对角。
Ctrl+N（L90XFirst）先横后竖。
Shift+N（Orthogonal）直角正交。
O键（Create Contact）插入接触孔。
Shift+O（Rotate）旋转工具。
P键（Create Path）路径。
Ctrl+P（Create Choice Of Pin）插入引脚。
Shift+P（Create Polygon）多边形工具。
Q键图形对象属性。
Shift+Q打开设计属性对话框。选中一个图形先。
R键矩形工具。
Ctrl+R是Redraw重画。
Shift+R是Reshape重定形。就是在原来的图形上再补上一块图形。
S键（Stretch）拉伸工具。
Ctrl+S（Split），添加拐点。配合Stretch命令可以是原来直的Path打弯。
Shift+S（Search）查找。
T键（Layer Tap）层切换。按过T后点击一个图形，就自动切换到刚刚点击图形的的层上去了。有了这个快捷键就不必频繁点击LSW窗口了。
Ctrl+T(Zoom to Set)选中图形放大到全屏
Shift+T(Tree)层次tree。
U键（Undo）撤销。
Shift+U（Redo）返回到撤销前。
V键（Attatch）关联。将一个子图形(child)关联到一个父图形(parent)后。关联后，若移动parent，child也将跟着移动；移动child，parent不会移动。可以将Label关联到Pad上。Ctrl+V(Type in CIW)。
Shift+V打开小窗口。
W键（Previous View）前一视图。
Ctrl+W（close window）关闭窗口。
Shift+W(Next View)下一个视图。
X键(Edit in Place)。进入下一层次编辑。
Ctrl+X（Fit Edit）适合编辑。功能同F键。
Shift+X（Descend）下降一等级。直接进入下一层次编辑。
Y键（Yank）区域复制。和Copy是有区别的，Copy只能复制完整图形对象。
Ctrl+Y（Cycle Select）
Shift+Y（Paste）粘贴。配合Yank使用。
Z键视图放大。
Ctrl+Z（Zoom In by2）视图放大两倍。
Shift+Z（Zoom Out by2）视图缩小两倍。
ESC键（Cancel）取消命令。
Tab键（Pan）平移视图，按Tab，用鼠标点击视图区中某点，视图就会移至以该点为中心。Delete键删除。
BackSpace键撤销上一点。
Enter键确定一个图形的最后一点。也可双击鼠标左键结束。
Ctrl+方向键移动Cell。
Shift+方向键移动鼠标。每次半个格点的距离。
方向键移动视图。
工具栏中的部分命令
Tools
Dracula Interactive调用Dracula工具，对版图进行DRC/LVS/LPE等检查。
Layout版图编辑界面，进行版图操作。
Design
Save As另存为，将版图或者原理图另存为其他名字
Hierarchy层次操作。
Refresh刷新功能，对Cell View的改变更新。
Discard Edits放弃丢弃编辑，就是返回到最初编辑之前，类似U键，但比其更强大。Make Read Only只读模式，无法编辑。
Summary总结版图信息。
Window
Utilities使用工具。
Copy Window复制当前窗口
Show Selected Set显示选中项的信息
Create
Multipart path复合path，配合F3来设置
Conics圆锥曲线
Circle圆形
Ellipse椭圆形
Donut圆环
Layer Generation层生成
Edit
Hierarchy等级、层次
Make Cell创建单元
Flatten打散
Other其他
Modify corner将图形修改成圆角或者切角，radial所需设置的半径大小，chamfer所需设置的切角的大小。
Size尺寸缩放，选择图形，在此基础上增大或者缩小相应尺寸
Align图形对齐。
1、先把Selection Mod设置为Set reference to align preselected objects，然后选择
Alignment Direction，再选择未对齐的图形，然后点击Set New Reference再在
layout窗口选择一个对齐点，所有选择的图形就会对齐。
2、先把Selection Mod设置为Set reference and select objects to be aligned，然后选择
Alignment Direction，再点击Set New Reference，先选择一个图形的边界作为参考边，然后选择其他图形与这个参考边对齐。
Convert to Polygon转化为多边形
Move origin移动到原点
Add Some Special Layout Bindkeys（原创）
对于画版图的朋友们，熟悉virtuoso的快捷键是一项必修课，了解并熟练的运用快捷键很大程度上能够提高Layout的工作效率。如果自己能够根据自己的需求来设置快捷键，那是最好不过的。
常见快捷键的用法网上随便就能够搜到，这里不再详述。版图快捷键存放路径/home/cadence/ic5141/tools/dfII/local/leBindkeys.il。
下面是我自己根据需要，写出来的快捷键语法，经过实践尝试，都是可以运用的。在此分享给大家，让画版图的朋友们体验一下自己设置快捷键的乐趣。当然只要你懂得一些常见的skill语法，那么设置快捷键就是件随心所欲的事情了。
Add some special bindkeys
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""
bk("Layout""Shift
bk("Layout""Shift
bk("Layout""Ctrl
bk("Layout""Ctrl
bk("Schematics""
bk("Schematics""
bk("symbol""
bk("Symbol""
bk("Schematics""
bk("symbol""
蓝色字体部分可以根据自己的实际情况需要来设置快捷键。
西安科技大学 高新学院 微电子专业实验报告 专业：微电子 班级：1001 姓名：黄升 学号：1001050120 指导老师：王进军
设计软件：tanner软件 实验目的和要求： 1、掌握L-edit软件的基本设定和集成电路工艺和版图的图层关系。 2、根据性能和指标要求，明确设计要求和规则。 3、电路版图实现过程中电源线的走法。 4、掌握L-edit和S-edit仿真环境，完成异或门的仿真。 5、掌握LVS环境变量。 异或门版图的设计方法： 1、确定工艺规则。 2、绘制异或门版图。 3、加入工作电源进行分析。 4、与LVS比较仿真结果。 实验内容： 完成COMS异或门版图设计，COMS异或门原理如下，要求在S-edit 中画出每一电路元件，并给出输入输出端口及电源线和地线。（一）异或逻辑关系式及真值表：F=A⊕B=A′B+ AB′
（二）原理图： （三）版图：
（四）仿真分析： Main circuit:Module0 .include“E:\ProgramFiles\tannerEDA\T-Spice10.1\models\m12_125.md M1 N3 A Gnd Gnd NMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M2 F B N3 Gnd NMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M3 F N3 B Gnd NMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M4 N3 A Vdd Vdd PMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M5 F B A Vdd Vdd PMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M6 F A B Vdd Vdd PMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u v7 Vdd Gnd 5.0 v8 B Gnd pulse(0.05.00 In In 100n 200n) v9 A Gnd pulse(0.05.00 In In 100n 400n) .tran In 800n .print tran v(A) v(B) v(F) End of main circuit:Module0
面向对象设计之定义领域服务 若遵循基于面向对象设计范式的领域驱动设计，并用以应对纷繁复杂的业务逻辑，则强调领域模型的充血设计模型已成为社区不争事实。我将Eric提及的战术设计要素如EnTIty、Value Object、Domain Service、Aggregate、Repository与Factory视为设计模型。这其中，只有EnTIty、Value Object和Domain Service才能表达领域逻辑。 为避免贫血模型，在封装领域逻辑时，考虑设计要素的顺序为： Value Object -》EnTIty -》Domain Service 切记，我们必须将Domain Service作为承担业务逻辑的最后的救命稻草。之所以把Domain Service放在最后，是因为我太清楚领域服务的强大魔力了。开发人员总会有一种惰性，很多时候不愿意仔细思考所谓职责（封装领域逻辑的行为）的正确履行者，而领域服务恰恰是最便捷的选择。 就我个人的理解，只有满足如下三个特征的领域行为才应该放到领域服务中： 领域行为需要多个领域实体参与协作 领域行为与状态无关 领域行为需要与外部资源（尤其是DB）协作 假设某系统的合同管理功能允许客户输入自编码，该自编码需要遵循一定的编码格式。在创建新合同时，客户输入自编码，系统需要检测该自编码是否在已有合同中已经存在。针对该需求，可以提炼出两个领域行为： 验证输入的自编码是否符合业务规则 检查自编码是否重复 在寻找职责的履行者时，我们应首先遵循信息专家模式，即拥有信息的对象就是操作该信息的专家，因此可以提出一个问题：领域行为要操作的数据由谁拥有？针对第一个领域行为，就是要确认谁拥有自编码格式的验证规则？有两个候选： 拥有自编码信息的合同（Contract）对象
《机械设计基础》答案
《机械设计基础》作业答案 第一章平面机构的自由度和速度分析1－1 1－2 1－3 1－4
1－5 自由度为： 1 1 19 21 1 )0 1 9 2( 7 3 ' )' 2( 3 = -- = - - + ? - ? = - - + - =F P P P n F H L 或： 1 1 8 2 6 3 2 3 = - ? - ? = - - = H L P P n F 1－6
自由度为 1 1 )0 1 12 2( 9 3 ' )' 2( 3 = - - + ? - ? = - - + - =F P P P n F H L 或： 1 1 22 24 1 11 2 8 3 2 3 = -- = - ? - ? = - - = H L P P n F 1－10 自由度为： 1 1 28 30 1 )2 2 1 14 2( 10 3 ' )' 2( 3 = -- = - - ? + ? - ? = - - + - =F P P P n F H L 或： 1 2 24 27 2 1 12 2 9 3 2 3 = -- = ? - ? - ? = - - = H L P P n F 1－11
22 424323=-?-?=--=H L P P n F 1－13：求出题1-13图导杆机构的全部瞬心和构件1、3的角速度比。 1334313141P P P P ?=?ωω 1 41314133431==P P P P ωω 1－14：求出题1-14图正切机构的全部瞬心。设s rad /101=ω，求构件3的速度3v 。
实验报告 课程名称：集成电路原理 实验名称：模拟集成电路版图设计与验证小组成员： 实验地点：科技实验大楼606 实验时间：2017年6月19日 2017年6月19日 微电子与固体电子学院
一、实验名称：模拟集成电路版图设计与验证 二、实验学时：4 三、实验原理 1、电路设计与仿真 实验2内容，根据电路的指标和工作条件，然后通过模拟计算，决定电路中各器件的参数（包括电参数、几何参数等），EDA软件进行模拟仿真。 2、工艺设计 根据电路特点结合所给的工艺，再按电路中各器件的参数要求，确定满足这些参数的工艺参数、工艺流程和工艺条件。 3、版图设计 按电路设计和确定的工艺流程，把电路中有源器件、阻容元件及互连以一定的规则布置在Candence下的版图编辑器内。并优化版图结构。 四、实验目的 本实验是基于微电子技术应用背景和《集成电路原理》课程设置及其特点而设置，为IC设计性实验。其目的在于： 1、根据实验任务要求，综合运用课程所学知识自主完成相应的模拟集成电路版图设计，掌握基本的IC版图布局布线技巧。 2、学习并掌握国际流行的EDA仿真软件Cadence的使用方法，并进行版图的的设计与验证。 通过该实验，使学生掌握CMOS模拟IC版图设计的流程，加深对课程知识的感性认识，增强学生的设计与综合分析能力。 五、实验内容 1、UNIX操作系统常用命令的使用，Cadence EDA仿真环境的调用。
2、根据实验2所得参数，自主完成版图设计，并掌握布局布线的基本技巧。 3、整理版图生成文件，总结、撰写并提交实验报告。 六、实验仪器设备 （1）工作站或微机终端一台 （2）EDA仿真软件1套 七、实验步骤 1、根据实验指导书掌握Cadence EDA仿真环境的调用。熟悉版图编辑器Layout Editor的使用。了解基本的布局布线方法及元器件的画法。 2、根据实验2所计算验证的两级共源CMOS运放的元器件参数如表1所示，在版图设计器里画出相应的元器件，对V+、V-、V out、V DD、GND的压焊点位置合理化放置，通过金属画线将各个元器件按实验2的电路图合理连接，避免跳线。 表 1运放各器件版图参数
第十四章 机械系统动力学 14-11、在图14-19中，行星轮系各轮齿数为123z z z 、、，其质心与轮心重合，又齿轮1、2对质心12O O 、的转动惯量为12J J 、，系杆H 对的转动惯量为H J ，齿轮2的质量为2m ，现以齿轮1为等效构件，求该轮系的等效转动惯量J ν。 2222 2121221 12323121 13212 1 13222 12311212213121313 ( )()()()1()()()( )()()()o H H H o H J J J J m z z z z z z z z z O O z z z z z z z O O J J J J m z z z z z z z z νννωωω ωωωω ωω ωωωωνω=+++=-= += +=+-=++++++解： 14-12、机器主轴的角速度值1()rad ?从降到时2()rad ?，飞轮放出的功 (m)W N ，求飞轮的转动惯量。 max min 122 2 121 ()2 2F F Wy M d J W J ?ν??ωωωω==-=-? 解： 14-15、机器的一个稳定运动循环与主轴两转相对应，以曲柄和连杆所组成的转动副A 的中心为等效力的作用点，等效阻力变化曲线c A F S ν-如图14-22所示。等效驱动力a F ν为常数，等效构件（曲柄）的平均角速度值25/m rad s ?=， 3 H 1 2 3 2 1 H O 1 O 2
不均匀系数0.02δ=，曲柄长度0.5OA l m =，求装在主轴（曲柄轴）上的飞轮的转动惯量。 (a) W v 与时间关系图 （b ）、能量指示图 a 2 24()2 3015m Wy=25N m 25 6.28250.02 c va OA vc OA OA va F W W F l F l l F N Mva N J kg m νν=∏?∏=∏+==∏= =?解：稳定运动循环过程 14-17、图14-24中各轮齿数为12213z z z z =、，，轮1为主动轮，在轮1上加力矩1M =常数。作用在轮 2 上的阻力距地变化为： 2r 22r 020M M M ??≤≤∏==∏≤≤∏=当时，常数；当时，，两轮对各自中心的转动惯量为12J J 、。轮的平均角速度值为m ω。若不均匀系数为δ，则：（1）画出以轮1为等效构件的等效力矩曲线M ν?-；（2）求出最大盈亏功；（3）求飞轮的转动惯量F J 。 图14-24 习题14-17图 40Nm 15∏ 12.5∏ 22.5∏ 15Nm ∏ 2∏ 2.5∏ 4∏ 25∏ 1 1 z 2 z 2 r M 2 M ∏ 2∏ 2?
集成电路版图设计 班级12级微电子姓名陈仁浩学号2012221105240013 摘要：介绍了集成电路版图设计的各个环节及设计过程中需注意的问题，然后将IC版图设计与PCB版图设计进行对比，分析两者的差异。最后介绍了集成电路版图设计师这一职业，加深对该行业的认识。 关键词: 集成电路版图设计 引言: 集成电路版图设计是实现集成电路制造所必不可少的设计环节，它不仅关系到集成电路的功能是否正确，而且也会极大程度地影响集成电路的性能、成本与功耗。近年来迅速发展的计算机、通信、嵌入式或便携式设备中集成电路的高性能低功耗运行都离不开集成电路掩模版图的精心设计。一个优秀的掩模版图设计者对于开发超性能的集成电路是极其关键的。 一、集成电路版图设计的过程 集成电路设计的流程：系统设计、逻辑设计、电路设计（包括：布局布线验证）、版图设计版图后仿真（加上寄生负载后检查设计是否能够正常工作）。集成电路版图设计是集成电路从电路拓扑到电路芯片的一个重要的设计过程，它需要设计者具有电路及电子元件的工作原理与工艺制造方面的基础知识，还需要设计者熟练运用绘图软件对电路进行合理的布局规划，设计出最大程度体现高性能、低功耗、低成本、能实际可靠工作的芯片版图。集成电路版图设计包括数字电路、模拟电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路等的版图设计。具体的过程为： 1、画版图之前，应与IC 工程师建立良好沟通在画版图之前，应该向电路设计者了解PAD 摆放的顺序及位置，了解版图的最终面积是多少。在电路当中，哪些功能块之间要放在比较近的位置。哪些器件需要良好的匹配。了解该芯片的电源线和地线一共有几组，每组之间各自是如何分布在版图上的？ IC 工程师要求的工作进度与自己预估的进度有哪些出入？ 2、全局设计：这个布局图应该和功能框图或电路图大体一致,然后根据模块的面积大小进行调整。布局设计的另一个重要的任务是焊盘的布局。焊盘的安排要便于内部信号的连接，要尽量节省芯片面积以减少制作成本。焊盘的布局还应该便于测试，特别是晶上测试。 3、分层设计：按照电路功能划分整个电路，对每个功能块进行再划分，每一个模块对应一个单元。从最小模块开始到完成整个电路的版图设计，设计者需要建立多个单元。这一步就是自上向下的设计。 4、版图的检查： （1）Design Rules Checker 运行DRC，DRC 有识别能力，能够进行复杂的识别工作，在生成最终送交的图形之前进行检查。程序就按照规则检查文件运行，发现错误时，会在错误的地方做出标记，并且做出解释。
集成电路版图设计笔试面试大全 1. calibre语句 2. 对电路是否了解。似乎这个非常关心。 3. 使用的工具。 , 熟练应用UNIX操作系统和L_edit，Calibre, Cadence, Virtuoso, Dracula 拽可乐(DIVA),等软件进行IC版图 绘制和DRC，LVS，ERC等后端验证 4. 做过哪些模块 其中主要负责的有Amplifier，Comparator，CPM，Bandgap，Accurate reference，Oscillator，Integrated Power MOS，LDO blocks 和Pad，ESD cells以及top的整体布局连接 5. 是否用过双阱工艺。 工艺流程见版图资料 在高阻衬底上同时形成较高的杂质浓度的P阱和N阱，NMOS、PMOS分别做在这两个阱中，这样可以独立调节两种沟道MOS管的参数，使CMOS电路达到最优特性，且两种器件间距离也因采用独立的阱而减小，以适合于高密度集成，但是工艺较复杂。 制作MOS管时，若采用离子注入，需要淀积Si3N4，SiO2不能阻挡离子注入，进行调沟或调节开启电压时，都可以用SiO2层进行注入。 双阱CMOS采用原始材料是在P+衬底(低电阻率)上外延一层轻掺杂的外延层P-(高电阻率)防止latch-up效应(因为低电阻率的衬底可以收集衬底电流)。 N阱、P阱之间无space。
6. 你认为如何能做好一个版图,或者做一个好版图需要注意些什么需要很仔细的回答～答:一，对于任何成功的模拟版图设计来说，都必须仔细地注意版图设计的floorplan，一般floorplan 由设计和应用工程师给出，但也应该考虑到版图工程师的布线问题，加以讨论调整。总体原则是 模拟电路应该以模拟信号对噪声的敏感度来分类。例如，低电平信号节点或高阻抗节点，它们与输入信号典型相关，因此认为它们对噪声的敏感度很高。这些敏感信号应被紧密地屏蔽保护起来，尤其是与数字输出缓冲器隔离。高摆幅的模拟电路，例如比较器和输出缓冲放大器应放置在敏感模拟电路和数字电路之间。数字电路应以速度和功能来分类。显而易见，因为数字输出缓冲器通常在高速时驱动电容负载，所以应使它离敏感模拟信号最远。其次，速度较低的逻辑电路位于敏感模拟电路和缓冲输出之间。注意到敏感模拟电路是尽可能远离数字缓冲输出，并且最不敏感的模拟电路与噪声最小的数字电路邻近。 芯片布局时具体需考虑的问题，如在进行系统整体版图布局时，要充分考虑模块之间的走线，避免时钟信号线对单元以及内部信号的干扰。模块间摆放时要配合压焊点的分布，另外对时钟布线要充分考虑时延，不同的时钟信号布线应尽量一致，以保证时钟之间的同步性问题。而信号的走线要完全对称以克服外界干扰。 二(电源线和地线的布局问题
领域驱动设计（DDD）架构的实践
前言 至少30年以前，一些软件设计人员就已经意识到领域建模和设计的重要性，并形成一种思潮，Eric Evans将其定义为领域驱动设计（Domain-Driven Design，简称DDD）。在互联网开发“小步快跑，迭代试错”的大环境下，DDD似乎是一种比较“古老而缓慢”的思想。 然而，由于互联网公司也逐渐深入实体经济，业务日益复杂，我们在开发中也越来越多地遇到传统行业软件开发中所面临的问题。本文就先来讲一下这些问题，然后再尝试在实践中用DDD的思想来解决这些问题。 问题 过度耦合 业务初期，我们的功能大都非常简单，普通的CRUD就能满足，此时系统是清晰的。随着迭代的不断演化，业务逻辑变得越来越复杂，我们的系统也越来越冗杂。模块彼此关联，谁都很难说清模块的具体功能意图是啥。修改一个功能时，往往光回溯该功能需要的修改点就需要很长时间，更别提修改带来的不可预知的影响面。
下图是一个常见的系统耦合病例。 订单服务接口中提供了查询、创建订单相关的接口，也提供了订单评价、支付、保险的接口。同时我们的表也是一个订单大表，包含了非常多字段。在我们维护代码时，牵一发而动全身，很可能只是想改下评价相关的功能，却影响到了创单核心路径。虽然我们可以通过测试保证功能完备性，但当我们在订单领域有大量需求同时并行开发时，改动重叠、恶性循环、疲于奔命修改各种问题。 上述问题，归根到底在于系统架构不清晰，划分出来的模块内聚度低、高耦合。
有一种解决方案，按照演进式设计的理论，让系统的设计随着系统实现的增长而增长。我们不需要作提前设计，就让系统伴随业务成长而演进。这当然是可行的，敏捷实践中的重构、测试驱动设计及持续集成可以对付各种混乱问题。重构——保持行为不变的代码改善清除了不协调的局部设计，测试驱动设计确保对系统的更改不会导致系统丢失或破坏现有功能，持续集成则为团队提供了同一代码库。 在这三种实践中，重构是克服演进式设计中大杂烩问题的主力，通过在单独的类及方法级别上做一系列小步重构来完成。我们可以很容易重构出一个独立的类来放某些通用的逻辑，但是你会发现你很难给它一个业务上的含义，只能给予一个技术维度描绘的含义。这会带来什么问题呢？新同学并不总是知道对通用逻辑的改动或获取来自该类。显然，制定项目规范并不是好的idea。我们又闻到了代码即将腐败的味道。 事实上，你可能意识到问题之所在。在解决现实问题时，我们会将问题映射到脑海中的概念模型，在模型中解决问题，再将解决方案转换为实际的代码。上述问题在于我们解决了设计到代码之间的重构，但提炼出来的设计模型，并不具有实际的业务含义，这就导致在开发新需求时，其他同学并不能很自然地将业务问题映射到该设计模型。设计似乎变成了重构者的自娱自乐，代码继续腐败，重新重构……无休止的循环。 用DDD则可以很好地解决领域模型到设计模型的同步、演化，最后再将反映了领域的设计模型转为实际的代码。
集成电路基础工艺和版图设计测试试卷 （考试时间：60分钟，总分100分） 第一部分、填空题（共30分。每空2分） 1、NMOS是利用电子来传输电信号的金属半导体；PMOS是利用空穴来传输电信号的金属半导体。 2、集成电路即“IC”，俗称芯片，按功能不同可分为数字集成电路和模拟集成电路，按导电类型不同可分为 双极型集成电路和单极型集成电路，前者频率特性好，但功耗较大，而且制作工艺复杂，不利于大规模集成；后者工作速度低，但是输入阻抗高、功耗小、制作工艺简单、易于大规模集成。 3、金属(metal)—氧化物(oxid)—半导体(semiconductor)场效应晶体管即MOS管，是一个四端有源器件，其四端分别是栅 极、源极、漏极、背栅。 4、集成电路设计分为全定制设计方法和半定制设计方法，其中全定制设计方法又分为基于门阵列和标准单元 的设计方法，芯片利用率最低的是基于门阵列的设计方法。 第二部分、不定项选择题（共45分。每题3分，多选，错选不得分，少选得1分） 1、在CMOS集成电路中，以下属于常用电容类型的有（ABCD） A、MOS电容 B、双层多晶硅电容 C、金属多晶硅电容 D、金属—金属电容 2、在CMOS集成电路中，以下属于常用电阻类型的有（ABCD） A、源漏扩散电阻 B、阱扩散电阻 C、沟道电阻 D、多晶硅电阻 3、以下属于无源器件的是（CD ） A、MOS晶体管 B、BJT晶体管 C、POL Y电阻 D、MIM电容 4、与芯片成本相关的是（ABC） A、晶圆上功能完好的芯片数 B、晶圆成本 C、芯片的成品率 D、以上都不是 5、通孔的作用是（AB ） A、连接相邻的不同金属层 B、使跳线成为可能 C、连接第一层金属和有源区 D、连接第一层金属和衬底 6、IC版图的可靠性设计主要体现在（ABC）等方面，避免器件出现毁灭性失效而影响良率。 A、天线效应 B、闩锁（Latch up） C、ESD(静电泄放)保护 D、工艺角（process corner）分析 7、减小晶体管尺寸可以有效提高数字集成电路的性能，其原因是（AB） A、寄生电容减小，增加开关速度 B、门延时和功耗乘积减小 C、高阶物理效应减少 D、门翻转电流减小 8、一般在版图设计中可能要对电源线等非常宽的金属线进行宽金属开槽，主要是抑制热效应对芯片的损害。下面哪些做法符合宽金属开槽的基本规则？（ABCD） A、开槽的拐角处呈45度角，减轻大电流密度导致的压力 B、把很宽的金属线分成几个宽度小于规则最小宽度的金属线 C、开槽的放置应该总是与电流的方向一致 D、在拐角、T型结构和电源PAD区域开槽之前要分析电流流向 9、以下版图的图层中与工艺制造中出现的外延层可能直接相接触的是（AB）。 A、AA（active area） B、NW（N-Well） C、POLY D、METAL1
实验三： 1、反相器直流工作点仿真 1）偏置电压设置：Vin=1V；Vdd=2V； 2）NMOS沟道尺寸设置：Wnmos= ；Lnmos= ； 3）PMOS沟道尺寸设置：设置PMOS的叉指数为3，每个叉指的宽度为变量wf；这样Wpmos=3*wf；设置wf=Wnmos；Lpmos= ； 4）直流工作点仿真结果：Ids= ；Vout= ；NMOS工作在工作区域；PMOS 工作在工作区域；该反相器的功耗为； 2、反相器直流工作点扫描设置 1）偏置电压设置：Vin=1V；Vdd=2V； 2）在直流仿真下设置Wnmos= ；Lnmos= ；扫描参数为PMOS的叉指宽度wf，扫描范围为到；扫描步长为；仿真输出wf为横坐标、Vout为纵坐标的波形曲线； 观察wf对Vout的影响； 3）在上述步骤的基础上，记录输出电压Vout=1V时对应的PMOS的叉指宽度wf= ； 3、扫描反相器的直流电压转移特性 1）在上述步骤的基础上，记录Ids= ；该反相器的功耗Pdc= ； 2）扫描参数为Vin，扫描电压范围为到；扫描步长为；仿真输出Vin为横坐标、Vout为纵坐标的波形曲线；观察Vin对Vout的转移特性；结合理论分析在转移特性曲线上标出A、B、C、D、E五个工作区域； 3）扫描参数为Vin，扫描电压范围为到；扫描步长为；仿真输出Vin为横坐标、Ids为纵坐标的波形曲线；观察Vin对Ids的转移特性；结合理论分析反相器的静态功耗和动态功耗； 4、仿真反相器的瞬态特性 1）为反相器设置负载电容为； 2）设置Vin为Vpluse信号源，高电平为；低电平为；Rise time= ；Fall time= ； 周期为； 3）设置瞬态仿真stop time= ；step= ；maxstep= ； 4）观察仿真结果，该反相器的传输延迟= ；
本文内容提要： 1. 领域驱动设计之领域模型 2. 为什么建立一个领域模型是重要的 3. 领域通用语言(Ubiquitous Language) 4.将领域模型转换为代码实现的最佳实践 5. 领域建模时思考问题的角度 6.领域驱动设计的标准分层架构 7. 领域驱动设计过程中使用的模式 关联的设计 实体（Entity） 值对象（Value Object） 领域服务（Domain Service） 聚合及聚合根（Aggregate，Aggregate Root） 工厂（Factory） 仓储（Repository） 8. 设计领域模型的一般步骤 9. 领域驱动设计的其他一些主题 10. 一些相关的扩展阅读 领域驱动设计之领域模型 2004年Eric Evans发表Domain-Driven Design – Tackling Complexity in the Heart of Software （领域驱动设计），简称Evans DDD。领域驱动设计分为两个阶段： 1. 以一种领域专家、设计人员、开发人员都能理解的―通用语言‖作为相互交流的工具，在不断交流的过程中不断发现一些主要的领域概念，然后将这些概念设计成一个领域模型； 2. 由领域模型驱动软件设计，用代码来表现该领域模型。 由此可见，领域驱动设计的核心是建立领域模型。领域模型在软件架构中处于核心地位；软件开发过程中，必须以建立领域模型为中心。 为什么建立一个领域模型是重要的 领域驱动设计告诉我们，在通过软件实现一个业务系统时，建立一个领域模型是非常重要和必要的，因为领域模型具有以下特点： 1. 领域模型是对具有某个边界的领域的一个抽象，反映了领域内用户业务需求的本质；领域模型是有边界的，只反应了我们在领域内所关注的部分；
版图设计实验报告 课程名称：集成电路版图设计 姓名： 学号； 专业；电子科学与技术 教师；老师
目录 （一）实验目的 (3) （二）实验步骤 (4) 1，搭建环境···································································································· 2，运用ic6151··························································································· 3，作图··········································································································· 4，Run DRC·························································································· 5，画原理图··························································································· 6，Run LVS········································································································（三）实验总结·················································································································
领域知识模型——企业应用系统的智慧中枢 摘要：企业应用系统有海量的领域对象和丰富的领域知识，这些领域知识一般被作为领域对象的业务逻辑或规则定义。本文认为领域知识是领域模型的一个知识切面且自成体系，结合领域驱动设计[DDD]和面向方面编程[AOP]的方法，对领域知识进行建模和应用，让面向业务活动的领域应用对象只需关注业务过程的组织和管理，用AOP技术把领域知识应用到具体的业务处理策略中，使领域应用对象和领域知识对象有更好内聚性且更轻量，不仅可大幅提升它们的可管理性和复用性，而且对系统开发效率、动态业务建模和装配能力也大有益处。 关键词：领域知识、领域模型、领域驱动设计、企业应用架构、DDD、AOP 1.前言 领域模型[Domain Model]和领域驱动设计[Domain-Driven Design][1]是目前在应用软件行业非常热门和前沿的话题，普遍认为这是构建高质量复杂系统最有效的方法和技术。领域模型在业界比较认可的定义是：领域模型是领域内的概念或者现实世界中对象的可视化表示，又称为概念模型、领域对象模型、分析对象模型，它专注于分析领域问题本身，领域对象是与技术无关的纯业务对象。领域建模的核心理念是把业务对象的属性、规则和职能封装在领域对象中，而不是被分散在用户界面层、应用层和持久化层中。 领域建模一般情况下是从应用功能或用例[Use Case]入手，因此，领域模型中的领域对象也是直接与应用功能或用例相关的业务对象，而这些领域对象模型涉及的领域知识，一般都作为领域对象的逻辑或者规则而存在。知识是应用领域问题的本质，是特定领域中一系列业务对象共有的知识切面，这个知识切面自成体系，本文中把这个知识体系的模型称为领域知识模型，与具体应用功能或者活动相关的领域对象模型称为领域应用模型。为了便于理解这些概念，我用一个与企业管理无关的通俗的例子来说明知识模型和应用模型的关系，比如对我喜欢的台球运动进行游戏建模，美式九球模型或者英式斯诺克模型是具体的领域应用模型，球台、球、球杆、运动员等是应用领域模型的核心领域对象，但要做出好玩的仿真游戏，台球碰撞中的基本物理知识是不可或缺的，用牛顿理论作为领域知识模型就涉及到质量、速度、动量等概念和动量守恒及能量守恒模型。知识模型是高度抽象并且可独立存在的模型，也是可以在各种业务情景中复用的模型，就如前面提到的台球游戏用到的牛顿理论模型，同样可以应用到保龄球游戏以及任何一款涉及到碰撞的游戏场景。企业管理领域也同样存在大量的知识模型，本文笔者致力于把企业管理领域涉及的领域知识进行分离、建模和应用的可行性分析和实践，希望以此进一步提升大型复杂企业应用系统的质量、动态业务建模和装配能力及组件复用水平。 2.企业应用系统中的领域知识问题分析 企业应用系统已逐渐成为企业经营管理的一体化应用平台，面向业务流程的行业深度应用
2016年3月7日IC版图设计基础课后作业 孙一川2013141223053 我在自己的电脑上安装了虚拟机，从实验室把红帽Linux IC拷回来在寝室完成这一个课堂作业。前面运行Linux创建file等日常步骤就不一一累述。直接进入正题。 首先看了PDF过后，知道最终目的是完成一个nmos，根据PDF上提供尺寸，先要计算出ndiff的长宽，由于是对称结构，所以长度可以计算一边的在乘二就行，一边的长度是contact的长度加上两个它到niff的距离的是 0.6u+0.9u+0.9u=2.4u，总长度便是4.8u。宽度是device width告诉了是 3.6u。先按照这个尺寸画出标尺。Linux系统必须要做完一部就要按esc来清 除掉之前的功能在去进行接下来的操作，所以要先按esc清除掉标尺操作在按rectangle选中diff-drw依照着之前画好的标尺来画出ndiff。如图： 接下来我们要花poly，这不分要用到path，path有自动适应标尺的功 能，一句PDF给出的poly的场是0.6u宽是4.8u。所以先依照着的poly的宽 画出标尺，在按esc后选中poly-drw，按快捷键p，从上往下拉，与之前不同
的是，这次画的是线，双击后会适应你的标尺来生成poly。如图： 接下来是要在ndiff上画出metal，这一部分可以看做将ndiff和poly这个左右对承德结构从中间分开，它离ndiff每条边的距离都是0.5u，所以他是一个长为1.4u宽为2.6u的矩形。所以画好标尺过后这一部分很容易就画出来了。如图：
画金属上的contact与画金属有异曲同工之处，因为contact到金属三条边的距离都是0.4u，contact本身是一个边长为0.6u的正方形。有了上图所示画好的标尺这一部分就非常好画了。最后如图所示：
11-1 解1）由公式可知： 轮齿的工作应力不变，则则，若，该齿轮传动能传递的功率 11-2解由公式 可知，由抗疲劳点蚀允许的最大扭矩有关系： 设提高后的转矩和许用应力分别为、 当转速不变时，转矩和功率可提高 69%。 11-3解软齿面闭式齿轮传动应分别验算其接触强度和弯曲强度。（ 1）许用应力查教材表 11-1小齿轮45钢调质硬度：210～230HBS取220HBS；大齿轮ZG270-500正火硬度：140～170HBS，取155HBS。 查教材图 11-7， 查教材图 11-10 , 查教材表 11-4取， 故： （ 2）验算接触强度，验算公式为：
其中：小齿轮转矩 载荷系数查教材表11-3得齿宽 中心距齿数比 则： 、，能满足接触强度。 （ 3）验算弯曲强度，验算公式： 其中：齿形系数：查教材图 11-9得、 则： 满足弯曲强度。 11-4解开式齿轮传动的主要失效形式是磨损，目前的设计方法是按弯曲强度设计，并将许用应力降低以弥补磨损对齿轮的影响。 （ 1）许用弯曲应力查教材表11-1小齿轮45钢调质硬度：210～230HBS取220HBS；大齿轮 45钢正火硬度：170～210HBS，取190HBS。查教材图11-10得 ,
查教材表 11-4 ，并将许用应用降低30% （ 2）其弯曲强度设计公式： 其中：小齿轮转矩 载荷系数查教材表11-3得取齿宽系数 齿数，取齿数比 齿形系数查教材图 11-9得、 因 故将代入设计公式 因此 取模数中心距 齿宽 11-5解硬齿面闭式齿轮传动的主要失效形式是折断，设计方法是按弯曲强度设计，并验算其齿面接触强度。
福州大学物信学院 《集成电路版图设计》 实验报告 姓名：席高照 学号：111000833 系别：物理与信息工程 专业：微电子学 年级：2010 指导老师：江浩
一、实验目的 1.掌握版图设计的基本理论。 2.掌握版图设计的常用技巧。 3.掌握定制集成电路的设计方法和流程。 4.熟悉Cadence Virtuoso Layout Edit软件的应用 5.学会用Cadence软件设计版图、版图的验证以及后仿真 6.熟悉Cadence软件和版图设计流程，减少版图设计过程中出现的错误。 二、实验要求 1.根据所提供的反相器电路和CMOS放大器的电路依据版图设计的规则绘制电路的版图，同时注意CMOS查分放大器电路的对称性以及电流密度（通过该电路的电流可能会达到5mA） 2.所设计的版图要通过DRC、LVS检测 三、有关于版图设计的基础知识 首先，设计版图的基础便是电路的基本原理，以及电路的工作特性，硅加工工艺的基础、以及通用版图的设计流程，之后要根据不同的工艺对应不同的设计规则，一般来说通用的版图设计流程为①制定版图规划记住要制定可能会被遗忘的特殊要求清单②设计实现考虑特殊要求及如何布线创建组元并对其进行布局③版图验证执行基于计算机的检查和目视检查，进行校正工作④最终步骤工程核查以及版图核查版图参数提取与后仿真 完成这些之后需要特别注意的是寄生参数噪声以及布局等的影响，具体是电路而定，在下面的实验步骤中会体现到这一点。 四、实验步骤 I.反相器部分： 反相器原理图：
反相器的基本原理：CMOS反相器由PMOS和NMOS构成，当输入高电平时，NMOS导通，输出低电平，当输入低电平时，PMOS导通，输出高电平。 注意事项： （1）画成插齿形状，增大了宽长比，可以提高电路速度 （2）尽可能使版图面积最小。面积越小，速度越高，功耗越小。 （3）尽可能减少寄生电容和寄生电阻。尽可能增加接触孔的数目可以减小接触电阻。（4）尽可能减少串扰，电荷分享。做好信号隔离。 反相器的版图： 原理图电路设计： 整体版图：
?领域驱动设计之领域模型 ?为什么建立一个领域模型是重要的 ?领域通用语言（UBIQUITOUS LANGUAGE） ?将领域模型转换为代码实现的最佳实践 ?领域建模时思考问题的角度 ?领域驱动设计的经典分层架构 ?用户界面/展现层 ?应用层 ?领域层 ?基础设施层 ?领域驱动设计过程中使用的模式 ?所有模式的总揽图 ?关联的设计 ?实体（Entity） ?值对象（Value Object） ?领域服务（Domain Service） ?应用层服务 ?领域层服务 ?基础层服务 ?聚合及聚合根（Aggregate，Aggregate Root） ?聚合有以下一些特点： ?如何识别聚合？ ?如何识别聚合根？ ?工厂（Factory） ?仓储（Repository） ?设计领域模型的一般步骤 ?在分层架构中其他层如何与领域层交互 ?对于会影响领域层中领域对象状态的应用层功能 ?关于Unit of Work（工作单元）的几种实现方法 ?对于不会影响领域层中领域对象状态的查询功能 ?为什么面向对象比面向过程更能适应业务变化 ?领域驱动设计的其他一些主题 ?一些相关的扩展阅读 ?CQRS架构 ?Event Sourcing（事件溯源） ?DCI架构 ?四色原型分析模式 ?时刻-时间段原型（Moment-Interval Archetype） ?参与方-地点-物品原型（Part-Place-Thing Archetype）?描述原型（Description Archetype） ?角色原型（Role Archetype） 领域驱动设计之领域模型
加一个导航，关于如何设计聚合的详细思考，见这篇文章。 2004年Eric Evans 发表Domain-Driven Design –Tackling Complexity in the Heart of Software （领域驱动设计），简称Evans DDD。领域驱动设计分为两个阶段： 以一种领域专家、设计人员、开发人员都能理解的通用语言作为相互交流的工具，在交流的过程中发现领域概念，然后将这些概念设计成一个领域模型； 由领域模型驱动软件设计，用代码来实现该领域模型； 由此可见，领域驱动设计的核心是建立正确的领域模型。 为什么建立一个领域模型是重要的 领域驱动设计告诉我们，在通过软件实现一个业务系统时，建立一个领域模型是非常重要和必要的，因为领域模型具有以下特点： 1.领域模型是对具有某个边界的领域的一个抽象，反映了领域内用户业务需求的本质；领 域模型是有边界的，只反应了我们在领域内所关注的部分； 2.领域模型只反映业务，和任何技术实现无关；领域模型不仅能反映领域中的一些实体概 念，如货物，书本，应聘记录，地址，等；还能反映领域中的一些过程概念，如资金转 账，等； 3.领域模型确保了我们的软件的业务逻辑都在一个模型中，都在一个地方；这样对提高软 件的可维护性，业务可理解性以及可重用性方面都有很好的帮助； 4.领域模型能够帮助开发人员相对平滑地将领域知识转化为软件构造； 5.领域模型贯穿软件分析、设计，以及开发的整个过程；领域专家、设计人员、开发人员 通过领域模型进行交流，彼此共享知识与信息；因为大家面向的都是同一个模型，所以 可以防止需求走样，可以让软件设计开发人员做出来的软件真正满足需求； 6.要建立正确的领域模型并不简单，需要领域专家、设计、开发人员积极沟通共同努力， 然后才能使大家对领域的认识不断深入，从而不断细化和完善领域模型； 7.为了让领域模型看的见，我们需要用一些方法来表示它；图是表达领域模型最常用的方 式，但不是唯一的表达方式，代码或文字描述也能表达领域模型； 8.领域模型是整个软件的核心，是软件中最有价值和最具竞争力的部分；设计足够精良且 符合业务需求的领域模型能够更快速的响应需求变化； 领域通用语言（UBIQUITOUS LANGUAGE） 我们认识到由软件专家和领域专家通力合作开发出一个领域的模型是绝对需要的，但是，那种方法通常会由于一些基础交流的障碍而存在难点。开发人员满脑子都是类、方法、算法、模式、架构，等等，总是想将实际生活中的概念和程序工件进行对应。他们希望看到要建立哪些对象类，要如何对对象类之间的关系建模。他们会习惯按照封装、继承、多态等面向对象编程中的概念去思考，会随时随地这样交谈，这对他们来说这太正常不过了，开发人员就是开发人员。但是领域专家通常对这一无所知，他们对软件类库、框架、持久化甚至数据库没有什么概念。他们只了解他们特有的领域专业技能。比如，在空中交通监控样例中，领域专家知道飞机、路线、海拔、经度、纬度，知道飞机偏离了正常路线，知道飞机的发射。他们用他们自己的术语讨论这些事情，
实验报告册 课程名称：集成电路版图设计教程姓名： 学号： 院系： 专业： 教师： 2016 年5 月15 日 实验一： OP电路搭建
一、实验目的： 1.搭建实体电路。 2.为画版图提供参考。 3.方便导入网表。 4.熟悉使用cadence。 二、实验原理和内容： 根据所用到的mn管分析各部分的使用方法，简化为几个小模块，其中有两个差分对管。合理运用匹配规则，不同的MOS管可以通过打孔O来实现相互的连接。 三、实验步骤： 1.新建设计库。在file→new→library；在name输入自己的学号；右边选择：attch to……；选择sto2→OK。然后在tools→library manager下就可看到自己建的库。 2.新建CellView。在file→new→CellView；cell栏输入OP，type →选择layout。 3.加器件。进入自己建好的电路图，选择快捷键I进行调用器件。MOS 管，在browse下查找sto2，然后调用出自己需要的器件。
4.连线。注意：若线的终点没有别的电极或者连线，则要双击左键才能终止画线。一个节点只能引出3根线。无论线的起点或是终点，光标都应进入红色电极接电。 5.加电源，和地符号。电源Vdd和地Vss的符号在analoglib库中选择和调用，然后再进行连线。 （可以通过Q键来编辑器件属性，把实验规定的MOS管的width和length数据输入，这样就可以在电路图的器件符号中显示出来） 6.检查和保存。命令是check and save。（检查主要针对电路的连接关系：连线或管脚浮空，总线与单线连接错误等）如果有错和警告，在‘schematic check’中会显示出错的原因，可以点击查看纠正。（画完后查看完整电路按快捷键F，连线一定要尽量节约空间，简化电路） 四、实验数据和结果： 导出电路网表的方法：新建文件OP，file→Export→OP（library browser 选NAND2），NAND.cdl，Analog √