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不同真空镀膜技术的原理、优势与缺陷
作者：周翔宇
来源：《中国科技纵横》2019年第01期
摘要：真空镀膜技术是一种先进的在真空条件下进行的表面处理技术，具有传统镀膜技术无可比拟的优点。随着科学技术的不断发展，在电子、机械、医疗等领域的作用日益突出。本文介绍了几种常见的真空镀膜技术，总结了真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜等技术的原理与特点。本文重点分析了各种镀膜技术的优势与缺陷，并解释其不同运用与其优缺点间的关联。最后，对真空镀膜技术的前景与发展进行了展望。
关键词：真空镀膜技术;优势;缺陷
中图分类号：U463 文献标识码：A 文章编号：1671-2064（2019）01-0055-03
1 引言
随着科技的进步，基于材料与器件表面所特有的一系列性质与作用，人们越来越多的关注材料与器件的表面/界面问题。在当今科技的支柱产业半导体行业中，不同半导体材料间的接触与电荷传输、半导体表面的抗腐蚀性等在半导体器件的设计与制备中尤为重要[1-4]。针对界面与表面问题我们发展出了表面工程进行修饰与改造，对当今的科学研究与技术进步具有重要的意义。
真空镀膜技术是一种非常有效的薄膜沉积及表面镀层技术。真空镀膜技术是在真空条件下，将物质转变为气相并沉积到器件表面的技术[5-7]。相较于其他薄膜及涂镀层技术，由于真空镀膜技术的尺度在分子、原子层面，且又有真空技術的应用结合，真空镀膜不仅可以获得超薄的表面镀层，同时具有速度快、纯度高、附着力好、适用范围广、环保无公害等突出优点，在改善材料性能等方面意义重大。
真空镀膜技术种类繁多，如热蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜等。不同镀膜方式由于其所遵循的原理与使用的技术手段不同，因此适用的情况也不尽相同。通过探明各种镀膜方式的原理与技术，可以找到不同的真空镀膜技术的优缺点与适用范围，以指导各个领域根据实际应用的需求采用适宜的镀膜技术。
2 真空镀膜技术
真空镀膜技术主要分为两个部分，即“真空的获得”与“薄膜的形成”。具体到不同的镀膜技术，会对真空度、镀膜材料、材料气体的产生有不同的要求，从而将不同镀膜技术区分开来。
编号：SY-AQ-02596 ( 安全管理) 单位：_____________________ 审批：_____________________ 日期：_____________________ WORD文档/ A4打印/ 可编辑 电力设备安全隐患排查方法Investigation methods for hidden danger of power equipment
电力设备安全隐患排查方法 导语：进行安全管理的目的是预防、消灭事故，防止或消除事故伤害，保护劳动者的安全与健康。在安全管理的四项主要内容中，虽然都是为了达到安全管理的目的，但是对生产因素状态的控制，与安全管理目的关系更直接，显得更为突出。 设备安全隐患指可导致设备故障发生的危险状态;缺陷指已经发生的构成设备故障原因的设备损伤事故来自于隐患,放过一个事故隐患,等于埋下一颗定时炸弹防范事故的有效办法,就是主动排查综合治理各类隐患,把事故消灭在萌芽状态安全隐患排查的途径。 1.1按设备寿命周期法排查 设备寿命,即设备实体存在的时间,指设备制造完成,经使用维修直至报废为止的时间例如,辅机设备的轴承均有设计使用寿命,达到设计使用寿命就应更换,在轴承达到使用寿命前就应加强对设备的检查在状态检修情况下,如果设备没有异常,可以延长设备部件的使用时间例如,延长轴承的使用时间润滑油的使用时间滤芯的使用次数等这虽节约了生产费用,但设备会存在潜在隐患,此时就应该将此设备列为隐患排查的重点对象。 1.2按设备一般缺陷统计分析法排查
设备缺陷记录了曾经构成设备故障的原因,对以往的缺陷记录进行统计分析,可查找出存在的设备隐患首先编制设备一般缺陷统计分析表见表l (l)对于仅发生过1次的缺陷,应分析其是否存在事故隐患此类事故隐患分析需要工作人员有丰富的检修工作经验,面对首次发生的设备缺陷,知道应该进行哪些检查项目。 (2)发生过多次的缺陷,肯定存在事故隐患对此,要分析临时采取的整改措施能否确保设备安全,是否需采取更加可靠的整改措施例如,某电厂投运后1年时间里2台引风机轴承先后损坏更换,半年后新更换的轴承再次发生损坏,通过缺陷统计分析认为该风机轴承选型较小,更换轴承类型后4年时间没有再发生引风机轴承损坏. (3)往年某一时段发生的缺陷,今年的同一时段是否还发生;夏季的高温缺陷冬季的设备上冻缺陷等,整改措施是否到位例如,某电厂的循环水泵每到夏季轴承温度都易超温,该厂制订了增加通风道的整改措施,一举消除了这一设备隐患。 (4)发生过多次的缺陷,已采取整改措施,但仍然多次发生,说明设
真空镀膜的现状与发展趋势 发布日期：2010-07-17 <<返回前一页 -------------------------------------------------------------------------------- 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。 真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。 1.真空蒸发镀膜法 真空蒸发镀膜法是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸发镀膜又可以分为下列几种： 1.1 电阻蒸发源蒸镀法 采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。 利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。 电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的最高温度有限，加热器的寿命液较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。据日本专利报道，可采用20％～30％的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制作坩锅，并在表面涂上一层含62％～82％的锆，其余为锆硅合金材料。 1.2 电子束蒸发源蒸镀法 将蒸发材料放入水冷钢坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。 依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形枪，直枪，e型枪和空心阴极电子枪等几种。 环形枪是由环形的阴极来发射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴极发射，聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜材料融化和蒸
( 安全管理 ) 单位：_________________________ 姓名：_________________________ 日期：_________________________ 精品文档 / Word文档 / 文字可改 配电设备缺陷管理制度(标准 版) Safety management is an important part of production management. Safety and production are in the implementation process
配电设备缺陷管理制度(标准版) 为加强设备缺陷管理，明确缺陷处理程序，确保设备的健康水平能够始终满足为客户安全供电的需求，特制定本制度。 一配电设备缺陷的定义 配电设备缺陷：是指配电线路及其附属设备本身任何部件的损伤、绝缘不良或处于不正常运行状态。 二设备缺陷分类 设备缺陷分类：按严重程度一般分为如下三类 1、危急设备缺陷：不立即处理将威胁人身及设备安全，或严重影响设备出力，使设备使用寿命缩短的设备缺陷。 如：线路导、地线断股，导线接头接触不良超过允许值，配电变压器套管裂纹，杆塔拉线被盗，线路耐张金具变质损坏致使机械强度达不到规定的安全系数，配电变压器严重过负荷，避雷器预试不合格，开关机构失灵等等。
2、重大设备缺陷：对设备出力和使用寿命有影响或可能发展成为对人身与设备安全有威胁，但允许尽快安排处理的缺陷。 如：线路杆塔铁构件生锈严重，绝缘瓷件破损超过规程规定，拉线严重受力不均，杆塔、拉线基础有被冲刷的可能或已冲刷300MM 深，开关容量随负荷的增加已不能满足要求等等。 3、一般缺陷：对人身设备安全无威胁，且不致在短期内发展成为重大或危急缺陷，对设备出力及经济运行无影响的缺陷。 除1、2中所列以外的设备缺陷均为一般缺陷，此类缺陷可以列入正常检修工作计划或随设备的正常停运及在设备带电情况下进行处理。 三各级人员的职责 1、运行维护班组的职责： ①加强设备巡视检查，及时发现设备缺陷，填写设备缺陷记录薄和设备缺陷单，并上报分公司。 ②按发现缺陷的严重程度对缺陷进行分类，并提出初步处理意见。
×××电力公司设备缺陷管理办法 1 总则 1.1 为了加强设备缺陷管理，提高设备健康水平，保证发、供、变、送、配电设备的安全、稳定、经济运行，根据州电力总公司关于检修管理暂行办法、湖北省电力公司《输变电设备缺陷管理规定》，结合公司实际情况，特制定本管理办法。 2 范围 2.1 本办法规定了发电厂、变电站、输配电线路设备缺陷管理的职责、管理内容与要求等。 2.2 本办法适用于公司所属发、变、送、配电设备、设施及其附属设备的缺陷管理。 3 缺陷分类 电网中使用的电力设备（简称设备）和建（构）筑物（简称设施）发生了异常，虽能继续使用但影响安全运行者称为有缺陷设备。缺陷分为紧急（危急）缺陷、重大缺陷、一般缺陷。 3.1 紧急缺陷：指严重威胁主设备安全运行及人身安全，或已造成出力降低和影响对外输送电力的重大缺陷。 3.2 重大缺陷：指暂不影响设备继续运行，但对设备安全经济运行或人身安全有一定的威胁，继续发展亦将导致停止运行或损坏设备，需停运或降低出力才能消除的重要缺陷。 3.3 一般缺陷：指不需要停用主设备或降低出力就可以消除的设备缺陷及不影响主设备正常运行的一般缺陷。 4 缺陷管理 4.1 设备缺陷台帐的建立 4.1.1 在变电站运行班、发电厂水机班、锅炉班、汽机班、电气班、电力试验所、调度所通信、自动化、继电保护专业，试验所一、二次专业、线路工区线路维护班、供电所线路维护班、营业管理班建立《设备缺陷登记簿》。 4.1.2 在变电站、线路工区、发电厂、调度所、供电所建立所辖设备的《设备台帐》。 4.1.3 在变电站运行班、发电厂水机班、锅炉班、汽机班、电气班、电力试验所、调度所通信、自动化、继电保护专业，试验所一、二次专业、线路工区线路维护班、供电所线路维护班、营业管理班分别建立《设备缺陷统计台帐》。 4.1.4 《设备缺陷
真空镀膜实验 一、 实验目的 真空镀膜技术广泛地应用在现代工业和科学技术中，光学仪器的反射镜，增透镜，激光器谐振腔的高反射膜，计算机上存储和记忆用的磁性薄膜，以及材料表面的超硬薄膜。此外在电子学、半导体等其它各尖端学科也都采用了真空技术。 本实验的目的是学习真空蒸发镀膜技术。通过本门实验，要求学生掌握如下几点：①较系统了解真空镀膜仪器的结构；②了解真空系统各组件的功能；③了解石英晶体振荡器测厚原理；④掌握真空蒸镀的基本原理；⑤了解真空镀膜仪器的基本操作。 二、预习要求 要求学生在实验之前对真空系统有一定了解，可以通过以下几本相关书籍获得相关信息。《薄膜材料制备原理、技术及应用》—— 唐伟忠著，冶金工艺出版社出版社；《薄膜物理与技术》—— 杨邦朝，王文生编著，电子科学出版社；《薄膜技术》—— 王力衡，清华大学出版社；《薄膜技术》—— 顾培夫，浙江大学出版社；《真空技术物理基础》—— 张树林，东北工学院出版社；《真空技术》—— 戴荣道，电子工业出版社。 三、实验所需仪器设备 实验过程需要的主要设备为DMDE 450型光学多层镀膜机。 真空镀膜机：本实验使用DMDE-450光学多层镀膜机，其装置结构如图3所示。它主要由真空系统、蒸发设备及膜厚监控系统组成。真空系统由各种真空器件组成，主要包括：真空室；真空泵（机械泵、和分子泵）；真空导管；各种真空阀门和测量真空度的真空计等。高真空阀门为碟式，机械泵与分子泵的连通阀门为三同式，将阀门拉出时，机械泵可以直接对镀膜室抽气，推入时机械泵与分子泵连通，同时也切断了机械泵与镀膜室的连接。 蒸发系统由真空钟罩，蒸发电极（共有二对）， 活动挡板，蒸发源，底盘等组成。蒸发源安装在电 图3镀膜机装置图 1电离管 2高真空碟阀 3分子泵 4机械泵 5低真空磁力阀 6储气桶 7低真空三同阀 8磁力充气阀 9热偶规 10钟罩 11针型阀
?综述与专论? 生物技术通报 B I O TECHNOLO G Y BULL ET I N 2006年增刊 D HP LC 系统工作原理及其应用 李莉 王翀 陈瑶生 (华南农业大学动物科学学院,五山 510642) 摘 要: 变性高效液相色谱(DHP LC )是一种高通量筛选DNA 序列变异的新技术,从该仪器设备的组成、工作原理、基本操作方法、主要技术特点等作一综述,并对其在基因组领域的应用如S NP 分析、双链DNA 片段分析、微卫星分析、mRNA 定量分析、引物纯度检测等方面及在医学、遗传学方面的应用作了较详细的综述。 关键词: DHP LC 原理 应用 W orki n g Pr i n c i ples and Appli cati on of DHP LC Syste m L i L i W ang Chong Chen Yaosheng (College of A ni m al Science,South China A gricultural U niversity,Guangzhou 510642) Ab s tra c t: Denaturing H igh Perf or mance L iquid Chr omat ography (DHP LC )is a kind of high thr oughout ne w tech 2 nique t o detect the mutati on of the DNA sequence .The structure of the instru ment,working Princi p les,basic mani pulating method and main technical characteristic were revie wed .The app licati ons in the medicine,genetics and genome domain such as analysis of S NP,the frag ment of double strains,m icr osatellite,the quantitative mRNA,the pure detecti on of the p ri m e,et al were revie wed in detail . Key wo rd s: DHP LC Princi p le App licati on 基金项目:国家自然科学基金资助(30300249) 作者简介:李莉(19822),女,硕士研究生,专业方向:动物遗传育种与繁殖,电话:020********* 通讯作者:王翀(19682),女,博士,副教授,主要研究方向:分子遗传学,电话:020*********,E 2mail:betty@scau .edu .cn 变性高效液相色谱(denaturing high perf or mance liquid chr omat ography,DHP LC )是一种新的高通量筛选DNA 序列变异的新技术,这一技术最先由美国Stanf ord 大学Oefner 及Underhill 等于1995年报道, 美国Transgenom ic 公司采用该原理制造专利化仪器,专利产品为WAVE μ DNA 片段分析系统 (WAVE μDNA frag ment analysis syste m )。1.1 仪器主要组成部分 硬件部分:变性高效液相色谱仪(WAVE μ 3500HT ):WAVE μ L 27100型四元梯度溶液注入系 统(含四元梯度泵),WAVE μ L 27250型Peltier 可冷 却、加热自动进样器,WAVE μ L 27300p lus 型高精度Peltier 柱箱,WAVE μ L 27400型紫外/可见光检测 器,WAVE μ L 2700在线去气装置:四通道,样品池(可容纳4个96孔PCR 板,以便进行大规模分析筛 查),WAVE μ Maker 数据工作站系统(硬件)等。 软件部分:M icr os oft W indows μ NT 操作系统,HS MD 27000数据工作站控制接口软件,WAVE μ Maker 核苷酸片段分析系统专用软件包。1.2 DHP LC 基本原理及其应用 用离子对反向高效液相色谱法:①在不变性的温度条件下,检测并分离分子量不同的双链DNA 分子或分析具有长度多态性的片段,类似RF LP 分析,也可进行定量RT 2PCR 及微卫星不稳定性测定 (MSI );②在充分变性温度条件下,可以区分单链DNA 或RNA 分子,适用于寡核苷酸探针合成纯度 分析和质量控制;③在部分变性的温度条件下,变异型和野生型的PCR 产物经过变性复性过程,不仅分别形成同源双链,同时也错配形成异源双链,根据柱子保留时间的不同将同源双链和异源双链分离,
真空镀膜技术 磁控溅射膜即物理气相沉积(PVD) 金属镀膜不一定用磁控溅射，可以根据成本&工艺需求选择合理的沉积方法，具体有： 物理气相沉积(PVD)技术 第一节概述 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在最近30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术。，并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子柬、激光束、离子束高能轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。 溅射镀膜基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(Qc)溅射，射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。 离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。 物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤： (1)镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。 (2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。 (3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
电力设备缺陷的分类标 准 Document serial number【NL89WT-NY98YT-NC8CB-NNUUT-NUT108】
电力设备缺陷的分类标准1、紧急缺陷 变电部分 设备接头发热烧红、变色。 设备瓷件有明显裂缝。 设备内部有明显的放电声或异音。 设备的绝缘、温升等技术参数超过极限值。 主设备与地网没有可靠连接。 外绝缘有严重放电现象。 高、低压室、开关柜防小动物措施失效。 变压器 冷却装置故障严重，影响出力或威胁安全运行。 分接开关操作卡阻或跳档。 铁芯接地电流不合格，串接电阻后仍不能满足运行要求，并有发展的趋势。 本体漏油严重或大量喷油。 套管漏油，套管油位超过下限，密封失效。 主变油箱进水。 潜油泵损坏，金属物可能进入油箱。 电气及油试验结果严重超标。 高压断路器
操动机构有卡涩，运行中有拒合、拒分或误合、误分的现象，储能元件损坏， 液（气）压机构的压力超出闭锁限额，油开关严重漏油或大量喷油，不能保 证安全运行者； 开关短路开断电流不能满足运行要求，又无保证安全运行的措施，额定电流 小于负荷电流者。 SF6开关设备的SF6气体质量不合格，或有严重漏气，其压力低于制造厂规定的下限。 真空开关的真空泡有裂纹或严重漏气者。 真空开关的真空泡失去光泽、发红。 液(气)压机构油(气)泵频繁启动，打压间隔时间小于10分钟，连续5次及以 上者。 断路器辅助接点、液(气)压闭锁接点失灵。 断路器绝缘拉杆脱落。 刀闸、母线 瓷件有破裂，刀闸触头铸铝件部分有裂纹。 刀闸严重锈蚀，以致操作卡阻，不能正常停送电。 母线一串绝缘子串上零值或破损瓷瓶片数110kV 3片、220kV 4片、500kV 4片及以上者。
某某电厂 设备缺陷管理制度 第一章总则 第一条为了加强某某电厂设备缺陷的管理程序,明确职责权限，及时消除设备及系统存在的缺陷，确保设备长周期、安全、经济和稳定运行，特制订本制度。 第二条本制度适用于某某电厂生产区域所有设备设施消缺管理。 第二章管理与职能 第三条管理责任体系 (一)职能与分工 1. 生产技术部在分管生产副厂长领导下，是全电厂设备缺陷的管理监督部门，负责检查、监督、考核设备缺陷的处理，保证设备完好。 2. 发电运行部、设备维护部是分管设备缺陷管理的责任部门，对设备缺陷要从发现到消除进行全过程管理，保证设备完好。 3. 各管理、物资供应部要为设备缺陷管理做好服务工作 (二)生产副厂长（总工程师） 1. 每周生产调度会听取各部门生产情况汇报，掌握全厂机组运行情况及一、二类设备缺陷情况，及时协调消缺。 1
2. 定期召集有关部门研究设备运行状况和存在的重大缺陷，安排各部门消缺，对设备重大缺陷提出指导性处理意见。 3. 组织总结、研究设备缺陷管理工作中的经验和不足，提出完善管理的主导性意见。 4. 负责组织对影响机组安全经济运行缺陷的诊断，对一类或重大缺陷决定是否停机、停炉处理。对消除重大或特殊设备缺陷的安全、技术措施进行审批。 (三)生产技术部 1. 是全厂设备缺陷管理的归口管理监督部门，负责检查、监督、指导设备缺陷的处理等管理工作。 2. 负责本制度的修订与补充，并监督执行。 3. 掌握全电厂生产设备缺陷的处理情况，对频发性和重大缺陷进行原因分析，及时采取安全技术措施予以消除并汇报主管生产副厂长（总工程师）。 4. 会同检修、运行人员，诊断一、二类设备缺陷，审核检修消缺的技术措施和组织措施，并监督执行。 5. 审核和补充设备维护部提出的消缺计划及其安全技术措施。 6. 参与所有设备缺陷转类、开口审核。 (四)设备维护部 1. 设备维护部经理应全面了解机组运行状况，掌握缺陷的发现、消除和发展情况，做到心中有数。根据上级工作安排，协调 2
Ａ、真空电镀原理: 一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 —4Toｒｒ程度进行(1Toｒr=１公厘水银柱高得压力,大气压为760Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~０、２微米、颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化得状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr＜!——[if ！supportＦoot<！--［en ｄｉｆ]——>l〈！--[if ！suｐｐortFｏoｔnｏtes]－－＞［1]<！--[endif]—－〉v#W？n8D＜!-—[if !sｕpportＦoｏtnｏtes]——〉[1］