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半参数面板回归模型的变点分析

FDI创新溢出与门槛效应——基于非线性面板平滑转换回归模型的分析

FDI创新溢出与门槛效应 ——基于非线性面板平滑转换回归模型的分析 摘要:本文采用面板数据的变系数模型和非线性面板平滑转换回归模型对1998~2008年我国高技术产业13个细分行业中FDI的创新溢出和门槛效应进行检验和测算,结果显示:FDI创新溢出效应在我国高技术产业各细分行业中存在明显差异;行业技术水平、人力资本、市场竞争程度对高技术产业FDI创新溢出效应皆存在门槛效应,具体而言,当内资企业行业技术水平超过0.756的门槛值后,FDI创新溢出提升的速度明显加快;当内资企业的人力资本跨过的7.79门槛值后,FDI创新溢出效应出现显著的跃升;FDI创新溢出效应只有在市场竞争程度较激烈(赫芬达指数<638.0)的行业才更为明显;与人力资本、市场竞争程度相比,行业技术水平对FDI创新溢出的影响最为显著。 关键词:创新溢出效应,门槛效应,面板平滑转换回归模型 一、引言 在全球经济一体化步伐不断加快和国际市场竞争日趋激烈的情况下,如何有效提高企业的技术创新能力,已成为各国政府、企业与学术界高度关注的一个焦点问题。大多数学者的研究显示,FDI研发活动的溢出效应是企业技术创新的重要来源之一。我国作为吸收FDI最多的发展中国家,FDI的大量流入及其在华研发投资力度不断加大是否促进了我国内资企业技术创新能力的提升?FDI的创新溢出在不同的行业是否存在差异性和门槛效应?本文拟采用我国高技术产业行业水平的面板数据,在研究FDI创新溢出效应行业差异的基础上,运用非线性面

板平滑转换回归(PSTR)模型对我国高技术产业FDI创新溢出的门槛效应做进一 步的检验,以揭示FDI创新溢出效应与若干影响因素之间的非线性关系,并对各影响因素的门槛水平进行测度。 关于FDI外部性的研究是从研究FDI的技术溢出效应开始的,学者们进行了大量的理论和经验研究。在这类研究中,研究者大多从整体上分析FDI对东道国整体技术进步的影响,较少涉及FDI对东道国技术创新能力的影响。而关于FDI 创新溢出效应的研究则起步较晚,研究文献相对薄弱,研究结论也不尽相同。Hu & Jefferson[1]采用大中型企业的数据研究了FDI对我国技术创新能力的影响,得出了正向溢出的结论;Cheung & Lin[2]采用1995~2000年地区层面的面板数据分析了FDI对我国专利申请量的影响,结果表明滞后一期FDI对专利申请量存在显著影响;侯润秀和官建成[3]运用我国1998~2002年大中型工业企业省际面板数据分析FDI对企业技术创新能力的影响时发现,FDI的流入对区域创新能力产生了显著的溢出效应;冼国明和严兵[4]采用我国1998~2003年的省际面板数据分析了FDI对专利申请量的影响,结果显示在经济发展水平相对落后的中、西部地区,FDI的创新溢出效应并不明显,而在溢出效应较为显著的东部地区,FDI 创新溢出效应则主要表现在一些技术水平相对较低的创新项目中;蒋殿春和夏良科[5]认为FDI的竞争效应不利于国内企业创新能力的成长,但通过示范效应和人员流动效应促进国内企业的研发活动。 现有的研究表明,FDI的溢出效应多发生在发达国家或那些经济发展水平较高、基础设施较为完善的发展中国家,这说明FDI的溢出效应并不是自动发生的,而要受到相关因素的制约。Perez[6]认为只有当东道国具备一定的技术水平,FDI 的技术溢出效应才能得到充分利用,这一现象被Borensztein et al.[7]称为“门槛效应”。FDI创新溢出的存在也存在类似的门槛效应。Liu & Trevor [8]运用

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