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GaAs纳米线及GaAsGaAs纳米线径向异质结构的无催化选区生长的实验研究

GaAs纳米线及GaAsGaAs纳米线径向异质结构的无催化选区生长的实验研究
GaAs纳米线及GaAsGaAs纳米线径向异质结构的无催化选区生长的实验研究

纳米线制备

模板法: 按模板材料可分为碳纳米管模板法、多孔氧化铝模板法、聚合物膜模板法和生命分子模板法。其中聚合物模板法廉价易得。模板法的模板主要有两种:一种是径迹蚀刻聚合物膜,如聚碳酸脂膜,另一种是多孔阳极氧化铝膜,两者相比,氧化铝模板具有较好的化学稳定性、热稳定性和绝缘性,其余还有介孔沸石法、多孔玻璃、多孔Si 模板、MCM-41、金属、生物分子模板、碳纳米光模板等聚碳酸脂膜(聚合物)模板法:聚碳酸脂膜模板是所有聚合物膜模板中使用最广的一种,C.Schonenoberge等以不同规格不同厂家的聚碳酸酯过滤膜为模板,用电化学沉积的方法成功涤制备出了不同直径的Ni、Co、Cu和Au纳米线。 多孔氧化铝模板:采用该方法时,多孔氧化铝模板只是作为模具使用,纳米材料仍需要常规的化学反应来制备,如电化学沉积、化学镀、溶胶-凝胶沉积、化学 气相沉积等方法。多孔阳极氧化铝模板(AAO: porous anodic aluminum oxide)是典型的自组织生长的纳米结构的多孔材料,微孔直径大约在10~500nm之间, 密度为二丄1「「个/諾之间,阳极氧化法制备的有序多孔氧化铝模板的孔径大小一致,排列有序,呈均匀分布的六方密排柱状。通常孔径在20?250nm范围内,孔间距在5?500nm范围内。目前大部分究主要局限在以草酸为电解液的中孔径模板的制备和研究中。这是由于在草酸电解液中制得的模板较厚、孔径均一、大 小适中。膜厚可达100卩m以上。 当然模板法中这些只是作为模具使用,具体的纳米材料仍需要一些其它的方法来得到,常用的有电化学沉积、化学气相沉积法(CVD)化学聚合、溶胶-凝胶沉积等电化学沉积:电沉积方法主要分为三步,1、阳极氧化铝模板的制备及孔径的调节; 2、对氧化铝模板及阻挡层的径蚀,释放出有序的纳米线阵列,再经后续处理得到所需的纳米材料,开发出各种纳米器件。电沉积法只能制备导电材料纳米线,如金属、合金、半导体、导电高分子等。 按照电源不同分为直流沉积、交流沉积、循环伏安法沉积、脉冲电沉积。Al 在阳极氧化的过程中,表面生成由致密阻挡层和多孔外层组成的氧化铝膜,极薄的阻挡层具有半导体的特性,在沉积之前要先从铝基底上将多孔薄膜剥离,通孔,通过离子喷射或热蒸发等在模板表面涂上一层金属薄膜作为电镀阴极。该方法比 较复杂,也有研究者试图不将薄膜从铝基底上剥离,采用磷酸腐蚀致密层薄膜,但是该方法同时使多孔膜变薄,不易控制,也影响了纳米线的纵横比。 交流电沉积方法工艺简单可行,且不需要将模板和铝基底分离,通过控制电流、电压、频率、时间等参数,可合成各种纳米线有序阵列,其缺点是只能在孔中组装单一的金属或合金,当前对于交流沉积时,电流是如何通过阻挡层还没有定论。交流电沉积过程中的阳极电压作用至关重要! 循环伏安法、脉冲电流法:Sun等采用该法,制备了长径比达500的Ag纳米线阵列,Kim采用脉冲电化学沉积法首次利用Ti涂层解决了AAO膜的阻挡层去除问题,并得到了Si基底上的Pd纳米线阵列。 交流电沉积没有滞留点沉积得到的排列有序且易堆叠,。AAO模板与循环伏安法相结合,被证实是一种制备形状与尺寸可控的有序金属或半导体自支持纳米线阵列结构的有效方法。与直流电沉积相比,脉冲电沉积具有高度可靠性,可补偿纳米孔区域内离子扩散输运动力的不足。 国内学者近几年来在这方面做的工作也较多,于冬亮等人分别在AAO 模板中采

异质结发展现状及原理

异质结发展现状及原理 pn结是组成集成电路的主要细胞。50年代pn结晶体管的发明和其后的发展奠定了这一划时代的技术革命的基础。pn结是在一块半导体单晶中用掺杂的办法做成两个导电类型不同的部分。一般pn结的两边是用同一种材料做成的(例如锗、硅及砷化镓等),所以称之为“同质结”。如果把两种不同的半导体材料做成一块单晶,就称之为“异质结“。结两边的导电类型由掺杂来控制,掺杂类型相同的为“同型异质结”。掺杂类型不同的称为“异型异质结”。另外,异质结又可分为突变型异质结和缓变型异质结,当前人们研究较多的是突变型异质结。 1 异质结器件的发展过程 pn结是组成集成电路的主要细胞,50年代pn结晶体管的发明及其后的发展奠定了现代电子技术和信息革命的基础。 1947年12月,肖克莱、巴丁和布拉顿三人发明点接触晶体管。1956年三人因为发明晶体管对科学所做的杰出贡献,共同获得了科学技术界的最高荣誉——诺贝尔物理学奖。 1949年肖克莱提出pn结理论,以此研究pn结的物理性质和晶体管的放大作用,这就是著名的晶体管放大效应。由于技术条件的限制,当时未能制成pn结型晶体管,直到1950年才试制出第一个pn结型晶体管。这种晶体管成功地克服了点接触型晶体管不稳定、噪声大、信号放大倍数小的缺点。 1957年,克罗默指出有导电类型相反的两种半导体材料制成异质结,比同质结具有更高的注入效率。 1962年,Anderson提出了异质结的理论模型,他理想的假定两种半导体材料具有相同的晶体结构,晶格常数和热膨胀系数,基本说明了电流输运过程。 1968年美国的贝尔实验室和联的约飞研究所都宣布做成了双异质结激光器。 1968年美国的贝尔实验室和RCA公司以及联的约飞研究所都宣布做成了GaAs—AlxGal—。As双异质结激光器l;人5).他们选择了晶格失配很小的多元合金区溶体做异质结对. 在70年代里,异质结的生长工艺技术取得了十分巨大的进展.液相夕随(LPE)、气相外延(VPE)、金属有机化学气相沉积(MO—CVD)和分子束外延(MBE)等先进的材料生长方法相继出现,因而使异质结的生长日趋完善。分子束外延不

纳米线的制备方法

纳米线的制备方法 与零维量子点相比,纳米线具有阵列结构因此有更大的表面或体积比,尤其是他们所具有的直线电子传输特性,十分有利于光能的吸收和光生载流子的快速转移,由此使得这类准一维纳米结构更适宜制作高效率太阳电池(Si纳米线太阳电池)。《TiO2纳米线和ZnO纳米线则主要用于染料敏化太阳电池的光阳极制作》。 Si纳米线的生长方法: 迄今为止,已采用各种方法制备了具有不同直径、长度和形状的高质量的Si纳米线,利用各种表征技术对其结构特征进行了检测分析,就制备方法而言,目前主要有热化学气相沉积、低压化学气相沉积、等离子体化学气相沉积、激光烧浊沉积、热蒸发、电子束蒸发(EBE)、溶液法和水热法等;就生长机制而言,则主要有气—液—固(VLS)法、气—固(VS)法、气—固—固(VSS)法、固—液—固(SLS)法等,就纳米线类型而言,又有本证Si纳米线和掺杂Si 纳米线之分。研究指出,Si纳米线的生长于Si纳米晶粒和量子点的形成不同,后者只需衬底表面具有合适密度与尺寸的成核位置,而前者除了具备上述条件外,还需要同时满足线状结构的生长规律与特点,因此工艺技术要求更加严格。研究者从实验中发现,如果能够利用某一催化剂进行诱导,使纳米点或团簇在催化剂的方向趋使作用下按一定去向生长,预计可以形成纳米线及其阵列结构。大量的研究报道指出,以不同的金属作为Si纳米线合成的催化剂,利用VLS机制

可以实现在Si晶体表面上Si纳米线的成功生长。 目前,作为制备Si纳米线的主流工艺应首推采用金属催化的VLS 生长技术,这种方法的主要工艺步骤是:首先在Si衬底表面上利用溅射或蒸发等工艺沉积一薄层具有催化作用的金属(Au、Fe、Ni、Ga、Al),然后进行升温加热,利用金属与Si衬底的共晶作用形成合金液滴,该液滴的直径和分布于金属的自身性质、衬底温度和金属层厚度直接相关。此后,通过含Si的源气体(SiH4、Si2H6、SiCl4)的气相输运或固体靶的热蒸发,使参与Si纳米线生长的原子在液滴处凝聚成核,当这些原子数量超过液相中的平衡浓度以后,结晶便会在合金液滴的下部分析出并最终生长成纳米线,而合金则留在其顶部,也就是说,须状的结晶是从衬底表面延伸,按一定的方向形成具有一定形状、直径和长度Si纳米线的。 除了VLS机制外,SLS机制也可以用于Si纳米线的可控生长,在这种情况下,预先在Si衬底表面沉积一层约厚10nm的金属薄膜(Au、Ni、Fe),然后再N2保护下进行热处理,随着温度的升高,金属催化粒子开始向Si衬底中扩散在界面形成Au-Si合金,当温度达到二者的共熔点时,合金开始融化并形成合金液滴,此时将有更多的Si原子扩散到这些合金液滴中去,当氮气通入反应室中时,液滴便面温度会迅速降低,这将导致Si原子从合金的表面分离和析出,其后,在退火温度为1000°C和氮气流量为1.5L/min的条件下,便可以实现可控Si纳米线的生长。在这,SLS与VLS生长机制的主要不同是:前者是以Si晶片衬底作为参与Si纳米线生长的Si原子的原

异质结太阳能电池综述

异质结太阳能电池研究现状 一、引言: 进入21世纪,传统的化石能源正面临枯竭,人们越来越认识到寻求可再生能源的迫切性。据《中国新能源与可再生能源发展规划1999白皮书统计,传统化石能源随着人们的不断开发已经趋于枯竭的边缘,各种能源都只能用很短的时间,石油:42年,天然气:67年,煤:200年。而且,由于大量过度使用这些能源所造成的环境污染问题也日益严重,每年排放的二氧化碳达210万吨,并呈上升趋势,二氧化碳的过度排放是造成全球气候变暖的罪魁祸首;空气中大量二氧化碳、粉尘含量已严重影响人们的身体健康和人类赖以生存的自然环境。正是因为这些问题的存在,人们需要一种储量丰富的洁净能源来代替石油等传统化石能源。而太阳能作为一种可再生能源正符合这一要求。太阳能每秒钟到达地面的能量高达80万千瓦,若把地球表面0.1%的太阳能转为电能,转变率5%,每年发电量就可达5.6×1012千瓦小

时。而我国太阳能资源非常丰富,理论储量达每年1700亿吨标准煤,太阳能资源开发利用的前景非常广阔。在太阳能的有效利用中,太阳能光电利用是近些年来发展最快,最具活力的研究领域,是其中最受瞩目的项目之一。太阳能电池的研制和开发日益得到重视。本文简要地综述了各种异质结太阳能电池的种类及其国内外的研究现状。 二、国外异质结太阳能电池 1、TCO/TiO2/P3HT/Au三明治式结构的p-n异质结的太阳能电池 2005年5月份,Kohshin Takahashi等发表了TCO/TiO2/P3HT/Au三明治式结构的p-n异质结的太阳能电池,电池结构如图1。 图1 ITO/PEDOT:PSS/CuPc/PTCBI/Al结构太阳能电池 简图 图2 TCO/TiO2/P3HT/Au电池结构示意图 同时采用了卟啉作为敏化剂吸收光子,产生的电子注入

金纳米棒的制备

金纳米棒的制备 2016-05-02 13:05来源:内江洛伯尔材料科技有限公司作者:研发部 金纳米棒的制备由于贵金属在医学,光学及其他运用场景下发挥的作用与其形貌特征有很大的关系。以往对于金等贵金属主要是从制备纳米球形的方向入手,这是最简单,最容易控制成核及尺寸的,但是棒状金纳米材料在其优异的性能影响下,越来越的研究也开始了。人们发现金纳米棒的尺寸和晶体结构的差异对于应用有着显著的影响,对金纳米棒合成的有效调控直接决定着其后续应用研究的效果。 采用模板法,电化学法,种子生长法和无种子生长法对金纳米棒进行制备,采用TEM等对金纳米棒进行深入的研究发现:电化学合成的金纳米棒具有单晶结构,这是经典的银离子辅助合成金纳米粒子,在无银离子辅助条件下合成的金纳米棒具有五重孪晶结构,这与银离子辅助条件下合成的单晶结构差别很大。研究发现,一旦种子长到一定的尺寸,孪晶层积缺陷便会产生以降低体系的表面能。影响金纳米棒生长,行核的关键因素主要有表面活性剂,卤化物,溴化物,他们决定着金纳米棒粒子的行核机制和生长尺寸等。同样,对于制备的金纳米棒粒子来说,分离纯化也是一个重要的过程。目前合成出来的产物中还存在着一定程度的形状和尺寸多分散性,因此需要进一步纯化产物,目前常用的分离方法是离心分离,它的一个重要作用是除去溶液中未反应的原料,如过量的CTAB,此外离心还有助于进行形状分离与长径比分离,由于颗粒的直径对其沉降速率影响最大,因此直径越大越容易沉降。另外对于分离纯化高长径比的金纳米棒也是一个重要的过程,目前主要利用重力沉降,静置10-12h后,纳米棒和纳米片沉降于离心管底部,球形颗粒仍留在液体中,将底部的产物取出分散后,加入复合物Au(Ⅲ)/CTAB,利用氧化刻蚀速率的形状依赖性,可使片状颗粒体积减少40%并转变为圆形的纳米盘,而纳米棒体积只减少20%。

纳米晶体

纳米晶体 摘要:本文主要介绍了金属纳米晶体、金属氧化物纳米晶体和一些其他纳米晶体的合成方法,并对它们的性能做了些简单的介绍。纳米晶体有许多独特优异的性能,本文对相关的纳米晶体的应用也进行了介绍,随着纳米晶体制备技术的发展,纳米晶体的应用会更加广泛。 关键词:纳米晶体;金属;金属氧化物 0引言 纳米材料是指组分尺寸至少在某一个维度上介于1~100nm之间的材料。纳米材料就其结构上可以分为纳米晶体、纳米颗粒、纳米粉末、纳米管等。由于纳米材料的纳米尺寸效应,使得纳米材料出现了许多不同于常规条件下的材料性能,例如光学性、电导性、抗腐蚀性等,因此人们对纳米材料在未来材料领域的应用与发展寄予了很大期望。但由于纳米材料在结构上存在表面效应和小尺寸效应,使其能量高于平衡态,表面上原子数增多,具有较高的表面能,使得这些表面原子具有较高的活性,非常不稳定,满足一定激活条件时,就会释放出过剩自由能,粒子长大,从而也将失去纳米材料所具有的特性,使块状纳米材料的制备产生困难。而纳米晶体由于晶界数量增加,使材料的强度、密度、韧性等性能大为改善。 纳米晶体指的具有纳米尺度的晶体材料。本文将分类介绍有关纳米晶体在制备、性能、应用等方面的研究进展。 1金属纳米晶体 同传统的金属晶体相比,金属纳米晶体材料由金属纳米晶粒构成,其晶粒尺寸很小( < 100 nm) ,晶界比例很大(30% ~50% ) ,晶体的缺陷密度很高,因此它所表现出来的性能,尤其是对结构敏感的性能与粗晶材料有很大差别。 刘伟[1]等用纯度为99.8%的紫铜丝作为原料,采用自悬浮定向流技术制备出金属Cu纳米粉末,制得平均晶粒尺寸为25 nm的金属Cu纳米晶体材料,其显微硬度为1155~1190GPa,约为普通粗晶Cu材料的3~4倍,硬度随压制工艺而变化,压力增大,保压时间延长,硬度增大. 且样品硬度值受表面抛光的影响。 李才臣[2]等以工业纯铝粉为原料,采用高能球磨法制备了纯铝纳米晶体并对其硬度进行了分析,经实验发现,球磨12 小时后可得平均晶粒尺寸约34nm, 而且此时的硬度最高,可达111HV, 纯铝纳米晶的硬度随着球磨时间的延长先升高后降低,随温度的增加先升高后下降。 对于金属纳米晶体的研究不仅局限在制备方法和显微硬度方面,对于纳米晶体的生长形态和结构稳定性方面也有相关的研究。 张吉晔[3]等对Ag纳米晶体的生长形态进行了相关的研究。他们在利用电化学方法在ITO 基板上沉积出银纳米晶体,然后研究了ITO基板上的沉积电位对Ag纳米晶体生长形态的影响。如图1所示,(a)和(b)中的银纳米粒子具有良好的分散性,粒径较均匀,此时沉积电位为0.3 V 时,粒子的分布密度较小。在(c)中,晶体形貌具有显著的羽毛状形态。(d)中银纳米晶体

题名 “一维纳米结构和纳米线有序阵列”

题名“一维纳米结构和纳米线有序阵列” 作者张立德;孟国文;李广海;叶长辉;李勇; 中文关键词 单位 中文摘要<正>随着纳米材料研究的不断深入,对性能的研究愈来愈迫切。但研究无序随机排列的纳米材料性能却非常困难,既便能获得一些结果,却由于试样之间的不统一与不均匀,使不同研究者获得的同类实验结果没有对比性。为此,我们发展了基于有序多孔氧化铝模板的纳米线有序阵列制备技术,实现了纳米线直径可控、密度可调。为纳米材料性能的研究提供了保障,为纳米材料的应用奠定了基础。 基金 刊名中国科技奖励 年2007 期03 第一责任人张立德; 2 题名纳米线阵列及纳米图形制备技术的研究进展 作者雷淑华;林健;黄文旵;卞亓; 中文关键词纳米线阵列;;纳米图形;;信息技术 单位同济大学材料科学与工程学院,同济大学材料科学与工程学院,同济大学材料科学与工程学院,同济大学材料科学与工程学院上海200092,上海200092,上海200092,上海200092 中文摘要当今纳米技术研究的前沿和热点之一是将纳米线按一定方式排列与组装构成纳米线阵列及纳米图形,它们是下一代纳米结构器件设计的材料基础,在激光技术、信息存储及计算技术、生物技术等各领域均有广阔的应用前景。介绍了在纳米线阵列材料制备以及纳米图形制作方面的技术研究进展,详述了模板法、自组装法以及纳米刻蚀法等技术的发展。 基金国家自然科学基金资助项目(50572069) 刊名材料导报 年2007 期01 第一责任人雷淑华; 3 题名硅纳米线阵列的制备及其光伏应用 作者吴茵;胡崛隽;许颖;彭奎庆;朱静; 中文关键词硅纳米线阵列;;减反射;;太阳电池 单位清华大学材料科学与工程系,清华大学材料科学与工程系,北京市太阳能研究所,清华大学材料科学与工程系,清华大学材料科学与工程系北京100084,北京100084,北京100083,北京100084,北京100084 中文摘要采用金属催化化学腐蚀方法在单晶硅片表面可以制备出大面积排列整齐、与原始硅片取向一致的硅纳米线阵列,得到的硅纳米线单晶性好、轴向可控且掺杂浓度不受掺杂类型和晶向的影响。基于此,我们成功制备了大面积硅纳米线p-n结二极管阵列。此外,硅纳米线阵列结构具有优异的减反射性能,探索了其在太阳电池中的应用。目前初步研制出了基于硅纳米线阵列的新型太阳电池,获得了最高为9.23%电池效率。同时也研究了限制硅纳米线阵列太阳电池转换效率的主要因素,为以后的应用做了前期的探索工作。 基金 刊名太阳能学报

3.1 金纳米粒子性质

金纳米粒子性质 1 金纳米粒子类型 不同形状的金纳米粒子对应着不同的应用目的。目前为止,人们已经制备了多种不同形状的金纳米粒子,主要有棒状,球状,壳状,笼状,多面体,星状等,不同形状的金纳米粒子有着自身独特的优势。例如棒状的金纳米粒子具有良好的光热性能,而笼状的金纳米粒子更适合于内部物质的负载等。 根据金纳米粒子的尺寸可以将其分为金纳米团簇及金纳米晶,通常来说,金属粒子具有一定的导电性,而当金纳米粒子的尺寸小于2 nm时,金纳米粒子的性质由原来的金属导电性质变为了绝缘体性质,因此这个尺寸被称为临界尺寸。通过这个临界尺寸可以将金纳米粒子分成两类:尺寸小于2 nm的金纳米粒子,被称为金纳米团簇;而金粒子的粒径尺寸大于2 nm时,通常被称为金纳米晶。 2 金纳米粒子特性 块状的金在通常被认为是惰性金属,而纳米金却显示出了区别于宏观尺寸的高活性。金纳米粒子作为纳米材料中的贵金属纳米粒子的一类,金纳米粒子除了具有纳米材料的普遍特性之外还具有自身独特的性质,主要表现在以下几个方面: 2.1 表面等离子体共振特性 有较高的比表面积,其表面自由电子较多,自由电子受到原子核的正电荷束缚较小,电子云在表面自由运动,当表面的电子云产生相对于核的位移时,来自电子和核之间的库仑引力会产生一个恢复力,从而产生表面电子云的震荡,振荡频率由四个因素决定:电子密度、有效电子质量电荷分布的形状和大小。表面等离子体(surface plasmons),又被称为表面等离子体激元,是由于金属粒子表面的自由电子的集体谐振而产生。当金属纳米粒子被一定波长的光照射后,入射的光子与表面自由电子相互作用,入射的光子与金属表面自由电子耦合后产生的疏密波。当入射光的振动频率与金属粒子表面的自由电子谐振频率相同时产生的共振被称为表面等离子体共振。 金纳米粒子的表面等离子体共振对光子产生的吸收能够使用UV-vis-vis光谱检测,通过不同的吸收峰值反映金纳米粒子的形貌,大小等特性,实心球形的金纳米粒子具有一个单峰,不同尺寸的金纳米粒子具有的峰位不同,而金棒具有两个典型的吸收峰,分别为横向和纵向,而笼状的金粒子的吸收峰也有别于球状和棒状,而即使同为球形金粒子,壳层结构的金粒子的吸收峰也有很大的区别。金纳米粒子的这种表面等离子体共振特性被广泛应用与检测,传

纳米线的制备综述

现代材料制备技术 期末报告 姓名:翁小康 学号:12016001388 专业:材料工程 教师:朱进

2017年6月24日

Si纳米线的制备方法总结及其应用 摘要:Si纳米线是一种新型的一维纳米半导体材料,具有独特的电子输运特性、场发射特性和光学特性等。此外,硅纳米线在宽波段、宽入射角范围内有着优异的减反射性能以及在光电领域的巨大应用前景。传统器件已不满足更快更小的要求,因此纳米线器件成为研究的热点。关于硅纳米线阵列的制备方法,本文主要从“自下而上”和“自上而下”两大类出发,分别阐述了模板辅助的化学气相沉积法、化学气相沉积结合Langmuir-Blodgett技术法和金属催化化学刻蚀法等方法。最后介绍了Si纳米线在场效应晶体管、太阳能电池、传感器、锂电池负极材料等方面相关应用。 关键词:Si纳米线;阵列;制备方法;器件应用 0 引言 近年来,Si纳米线及其阵列的制备方法、结构表征、光电性质及其新型器件应用的研究,已成为Si基纳米材料科学与技术领域中一个新的热点课题。人们之所以对Si纳米线的研究广泛关注,是由于这种准一维纳米结构具有许多显著不同于其他低维半导体材料的电学、光学、磁学以及力学等新颖物理性质,从而使其在场发射器件、单电子存储器件、高效率激光器、纳米传感器以及高转换效率太阳电池等光电子器件中具有重要的实际应用[1]。 硅纳米线阵列( silicon nanowires arrays,简称SiNWs阵列) 是由众多的一维硅纳米线垂直于基底排列而成的,SiNWs阵列与硅纳米线之间的关系如同整片森林与单棵树木一样,它除了具有硅纳米线的特性外,还表现出集合体的优异性能:SiNWs阵列独特的“森林式”结构,使其具有优异的减反射特性,在宽波段、宽入射角范围都能保持很高的光吸收率,显著高于目前普遍使用的硅薄膜。例如,对于波长300—800 nm的光,在正入射的情况下,硅薄膜的平均光吸收率为65% ,而SiNWs阵列的平均光吸收率在80% 以上;在光入射角为60°时,硅薄膜的平均光吸收率为45%,而SiNWs阵列的平均光吸收率达70%[2]。这对于硅材料在太阳能高效利用方面,具有十分重要的意义。本文将对国内外关于硅纳米线阵列的制备及其在光电领域应用的研究进展进行系统阐述。 1 Si纳米线阵列的制备方法 近年来,为制备有序的SiNWs阵列,研究者先后开发出多种制备方法,这些方法大体上可分为两类:“自下而上( bottom-up )”和“自上而下( topdown)”。前者是从原子或分子出发控制组装成SiNWs阵列;而后者则是从体硅(硅片)出

异质结纳米材料光催化性能

密级★保密期限:(涉密论文须标注) Z S T U Zhejiang Sci-Tech University 硕士学位论文 Master’s Thesis 中文论文题目: p-n型Cu2O/TiO2异质结纳米材料的结构及其光催化性能研究 英文论文题目:Structure and photocatalytic performance of p-n heterojunction Cu2O/TiO2 nanomaterals 学科专业:应用化学 作者姓名:周冬妹 指导教师:王惠钢 完成日期:2015年1月

浙江理工大学学位论文独创性声明 本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。除了文中特别加以标注和致谢的地方外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果,也不包含为获得浙江理工大学或其他教育机构的学位或证书而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明并表示谢意。 学位论文作者签名: 签字日期:年月日

目录 中文摘要 ..................................................................................................................................... I Abstract .......................................................................................................................................... II 第一章前言. (1) 1.1背景 (1) 1.2文献综述 1.2.1纳米TiO2概述 (1) 1.2.2纳米Cu2O概述 (2) 1.2.3 p-n异质结用于光催化的基本原理 (2) 1.2.4p-n型Cu2O/TiO2异质结纳米材料光催化反应的研究进展 (4) 1.3本课题的选题思路及研究内容 (6) 参考文献 (7) 第二章还原法制备的Cu2O/TiO2异质结纳米颗粒及其光催化性能 (11) 2.1引言 (11) 2.2实验 (11) 2.2.1主要试剂和仪器 (11) 2.2.2实验方法和步骤 (12) 2.3实验结果与讨论 (13) 2.3.1Cu2O/TiO2颗粒的表征 (13) 2.3.1.1XRD表征 (13) 2.3.1.2XPS表征 (14) 2.3.1.3SEM与TEM表征 (15) 2.3.1.4PL表征 (17) 2.3.1.5DRS表征 (18) 2.3.2光催化性能实验 (19) 2.3.2.1光催化降解装置 (19) 2.3.2.2对亚甲基蓝的光催化降解性能 (19) 2.3.3Cu2O/TiO2复合材料中Cu2O颗粒的粒径调控 (20) 本章小结 (23)

异质结

异质结 百科名片 异质结,两种不同的半导体相接触所形成的界面区域。按照两种材料的导电类型不同,异质结可分为同型异质结(P-p结或N-n结)和异型异质(P-n 或p-N)结,多层异质结称为异质结构。通常形成异质结的条件是:两种半导体有相似的晶体结构、相近的原子间距和热膨胀系数。利用界面合金、外延生长、真空淀积等技术,都可以制造异质结。异质结常具有两种半导体各自的PN结都不能达到的优良的光电特性,使它适宜于制作超高速开关器件、太阳能电池以及半导体激光器等。 目录[隐藏] [编辑本段] 基本特性 所谓半导体异质结构,就是将不同材料的半导体薄膜,依先后 异质结 次序沉积在同一基座上。例如图2所描述的就是利用半导体异质结构所作成的雷射之基本架构。半导体异质结构的基本特性有以下几个方面。 (1) 量子效应:因中间层的能阶较低,电子很容易掉落下来被局限在中间层,而中间层可以只有几十埃(1埃=10-10米)的厚度,因此在如此小的空间内,电子的特性会受到量子效应的影响而改变。例如:能阶量子化、基态能量增加、能态密度改变等,其中能态密度与能阶位置,是决定电子特性很重要的因素。 (2) 迁移率(Mobility)变大:半导体的自由电子主要是由于外加杂质的贡献,因此在一般的半导体材料中,自由电子会受到杂质的碰撞而减低其行动能力。然而在异质结构中,可将杂质加在两边的夹层中,该杂质所贡献的电子会掉到中间层,因其有较低的能量(如图3所示)。因此在空间上,电子与杂质是分开的,所以电子的行动就不会因杂质的碰撞而受到限制,因此其迁移率就可以大大增加,这是高速组件的基本要素。 (3)奇异的二度空间特性:因为电子被局限在中间层内,其沿夹层的方向是不能自由运动的,因此该电子只剩下二个自由度的空间,半导体异质结构因而提供了一个非常好的物理系统可用于研究低维度的物理特性。低维度的电子特性相当不同于三维者,如电子束缚能的增加、电子与电洞复合率变大,量子霍尔效应,分数霍尔效应[1]等。科学家利用低维度的特性,已经已作出各式各样的组件,其中就包含有光纤通讯中的高速光电组件,而量子与分数霍尔效应分别获得诺贝尔物理奖。

金钯核壳结构纳米结构制备

N,N-B i s(2-hydroxyethy l)-2-am i noethanesu lf on i c Ac i d-ass i sted L i qu i d-phase Growth o f Au@Pd Core-She ll Nanopart i c l es w i th H i gh Cata l yt i c Act i v i ty We i Zhang,Hu i p i ng Zhao,Zhong Lu,Fengx i Chen,*and Rong Chen* Schoo l o f Chem i stry and Env i ronmenta l Eng i neer i ng,Wuhan Inst i tute o f Techno l ogy,Wuhan430073,P.R.Ch i na (E-ma il:rchenhku@w i https://www.doczj.com/doc/291108326.html,,f xchen@w i https://www.doczj.com/doc/291108326.html,) Au@Pd core-she ll nanopart i c l es were success f u ll y synthes i zed v i a sequent i a l reduct i on o f Au(III)and Pd(II)sa l ts w i th BES at room temperature.The Au@Pd nanopart i c l es exh i b i ted s i gn i?cant l y h i gher cata l yt i c act i v i ty f or var i ous Suzuk i react i ons than monometa lli c Pd or Au nanopart i c l es.S i ze-dependent cata l yt i c act i v i ty was a l so observed,i.e., the Au@Pd nanopart i c l es o f<10nm showed h i gher act i v i ty. REPRINTED FROM Vol.44No.102015p.1371–1373 CMLTAG October5,2015 The Chemical Society of Japan

半导体纳米晶

第一章绪论 近数十年以来,纳米科学技术得到了极为迅速的兴起和发展,并越来越受 到各界科学家和科研工作者的关注,逐渐成为目前最为活跃的前沿学科领域之 一。最近几年来,由于不断深入的理论支持研究和各种各样的制备与表征手段 的改进发展,以及扫描电子显微镜(SEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)等高 端测试仪器的广泛使用,纳米材料的许多奇异的性质逐渐显露在人们面前,展 现出它在化工环保方面、医药健康方面、电子信息方面、能源动力方面等诸多 方面的广阔的应用前景,纳米科学技术已经发展成为21世纪的占据主导地位的 新型技术之一。 1.1半导体纳米晶简介 纳米材料,又常常被人们所称之为纳米结构材料,我们一般可以从两个不 同的角度和方面,对该材料进行定义:从第一方面来说,当一种材料的尺寸, 处于纳米的尺度范围内,即1到100纳米之间,并且在三维空间中,至少在一 个维度上是这样的;从另外一个方面来看,该材料因为其物理尺度上尺寸的减 小,从而使该材料与之对应的物理性能和化学性质,相对于同材料的块体材料 而言,发生了显著变化。其实,从十九世纪60年代,"胶体化学"诞生的时期 开始,许多的科学工作者便开始了对纳米材料的探讨和研究,只是在那时,尺 寸为一到一百纳米的弥散粒子,被称之为胶体。而纳米科学技术的正式提出, 是直到二十世纪的1959年时,在美国的物理学会曾经一次召开的会议上[1]。之后,扫描隧道电子显微镜(STM),在1982年时,被G. Buning和H. Robrer所发 明创造出来了。由于扫描隧道电子显微镜(STM)的出现和使用,使人们能够在纳 米的尺度范围内,直接的观察和操纵原子的功能得到了实现,而该项发明也极 大的推动了纳米科学技术的快速的发展与兴起。综上所述,纳米科学技术的研 讨和探究,使人们能够通过直接的作用于原子和分子的排布,从而创造出具有 全新的功能性新物质,并且,这将同时、同样的标志着,人类改造自然的能力 己经拓展到了原子和分子的水平[1]。 纳米材料中,纳米晶材料是不可忽视的一员。当一种金属或半导体的颗粒 粒度半径小于该材料的激子的玻尔半径时,我们将之称为纳米晶体材料.通常 情况下,对于半导体材料而言,我们也习惯将之称之为半导体纳米颗粒,或者 半导体纳米晶。在过去,很多时候也曾存在着纳米量子点、纳米超微粒、纳米 量子球或者纳米微晶等等各种不同的称呼和定义[2]。由于纳米晶材料拥有比较特殊的结构、异于寻常的物理性能和化学性质,所以,在今天,纳米晶材料在光 电器件生产应用领域、生物医药生产应用领域、信息技术生产应用领域以及化 工生产应用领域等诸多方面都具有着非常重要的、不可小觑的应用前景,而越 来越多的广大科学工作者也对其显现出极大的科研兴趣,纳米晶材料已经成为 物理领域、化学领域、生物领域和材料等领域的研究热点之一。时至今日,已 研究的纳米晶材料,涵盖了磁性型纳米晶材料(Co, Fe304)、贵金属型纳米晶材 料(Au, Pt)、半导体型纳米晶材料(CdSe, ZnS)、金属单质型纳米晶材料(Fe, Ni) 和氧化物型纳米晶材料(Ti02, Zr02)等诸多类型。在以上诸多类型的材料之中, 半导体纳米晶材料,也可以被称之为半导体量子点材料,在众多纳米材料中, 尤为引起诸多科研工作者的注意。迄今为止,经过诸多科学家的努力,己经成 功的制备出了各种形貌的半导体纳米材料,其中包括半导体纳米点型材料、半 导体纳米带型材料、半导体纳米线型材料、半导体纳米管型材料、半导体纳米 薄层型材料等等,通过各种验证,发现了半导体纳米材料的、许多的、与常规

美国科学家揭示金纳米颗粒微观结构

表1烧结后Zr O2陶瓷微球的性能 Table1The pr operty of sintered Zr O2micr ospher es Density/ (g#cm-3)Sphericity H ardnes s(H V) Compressive strength/kN Elas tic modulus/GPa Fracture toughness /(MPa#m1/2) Thermal conductivity /(W#m-1K-1) 6.01 1.01117 7.20.6425016.511. 图5ZrO2微球的宏观形貌(a)振动分散;(b)不加振动Fig15T he images of ZrO2ceramic microspheres (a)vibration dis persion;(b)un vibration dispersion 佳黏度为40~50mPa#s之间,浆料固相体积分数在45%~65%之间。 (2)真空除泡的时间延长,浆料黏度增大。这是由于浆料中的水分挥发和氧阻聚作用减小共同作用的结果。 (3)引发剂的加入量影响浆料的固化时间,为了保证分散工艺的进行,合适的引发剂加入量为浆料质量的011%。 (4)将催化剂加入至二甲基硅油中,既可以有效降低浆料固化所需温度,又可以避免浆料提前固化。利用振动分散工艺可以获得尺寸分布均匀的陶瓷微球。 参考文献 [1]OM ATET E O O,JANNE M A,ST EREHL OW,et al1Gelcasting2 a new ceram ic formin g process[J]1Am Ceram Soc Bull,1991,70 (10):1641-16491 [2]YONG A C,OMAT ETE O O,JAN NE M A,et al1Gelcas tin g of alu mina[J]1J Am Ceram Soc,1991,74(3):612-6161 [3]杨金龙,黄勇,蔡锴1制备陶瓷小球的方法和装置[P]1中国专利: CN1468826A,20042012211 基金项目:清华大学基础研究基金资助项目(JC2007042) 收稿日期:2006212219;修订日期:2007204208 作者简介:李承亮(1982-),男,硕士研究生,主要从事注凝成型制备陶瓷微球的研究,联系地址:上海市长宁区法华镇路499弄2号301室(200052)。 p 美国科学家揭示金纳米颗粒微观结构 纳米颗粒的广泛应用,并不意味着科学家对其微观结构已经了如指掌。美国科学家的一项最新研究,揭开了科研中经常用到的一种金纳米颗粒的神秘面纱。 由于金的活动性弱且对空气和光线都不敏感,实验室中常用金纳米颗粒作为示踪剂,比如探测样本中是否存在某种DNA或者蛋白质。为防止不同金纳米颗粒的原子之间形成化学键,科学家经常在金纳米颗粒表面覆盖一层保护性分子层,最常用的是含硫分子团。如果改造这些含硫分子团,使其具有特殊的绑定位点或者荧光标记,观察和区分金纳米颗粒将更加容易。 尽管如此,科学家对金纳米颗粒的结构却没有清晰的认识,有人认为金纳米颗粒是胶质的,形状杂乱、大小不一,还有人认为它们是具有同一尺寸和结构的离散分子。 在最新的研究中,美国斯坦福大学Roger Kornberg领导的小组成功制备出有单层硫醇保护的金纳米颗粒晶体,并利用X射线结晶学技术,对它们的精确结构进行了成像。值得注意的是,制备晶体和确定结构一样,都是突破性的进展。 研究人员发现,他们研究的金纳米颗粒由102个金原子和44个硫醇分子组成,其中金原子排列成球状。三维高清图像表明,金纳米颗粒中心的原子排列与金块中相差无几。不过,该中心周围却环绕着两个/盖子0,每个都由15个轻微扭曲的金原子组成。此外,与一些模型中预测硫醇分子团直接与金表面绑定不同,硫醇分子团会与最外层的金原子结成一体,它再与最中心金原子发生微弱的相互作用。 研究人员还注意到,金纳米颗粒是手性的,这与金原子和硫醇分子团的排列有关。 研究人员认为,新研究有望最终打消人们对纳米颗粒及其毒性的疑虑。美国佐治亚理工学院的Robert Whetten表示/如果一种物质的组成和结构得到确定,化学家可能会以截然不同的方式对其进行处理。这是一项应该被写入教科书的重要发现。0 66材料工程/2007年12期

从纳米晶到三维超晶格结构

[综合评述] 03-0429-08 收稿日期:2010- 10-12.基金项目:国家重大科学研究计划项目(批准号:2011CB932401)和国家自然科学基金创新研究群体项目(批准号:20921001)资助. 联系人简介:李亚栋,男,博士,教授,博士生导师,主要从事纳米材料的合成及应用研究.E- mail :ydli@mail.tsinghua.edu.cn 彭卿,男,博士,副教授,主要从事无机半导体纳米材料的制备及性能研究. E-mail :pengqing@mail.tsinghua.edu.cn 在过去的20年间,晶态胶体粒子的制备技术有了长足的发展[1 9].人们在不断获得各类新型纳米晶的同时,也一直致力于探寻它们的功能性质,特别是希望在一定尺度上实现其规模化应用.将纳米晶作为构建单元,组装成三维有序的高级结构(组装体),并发挥整体的集合性能,被认为是由微观材料向介观甚至宏观器件模块迈进的一条可能的途径. 胶体纳米晶三维有序组装体是纳米晶按照一定的规则立体堆积而形成的周期结构.这种结构往往 与晶体中原子的长程有序阵列有很多相似性,也被人们称为纳米晶的“超结构”或者 “超晶格”.其中规模较大的(尺寸不小于微米量级)、块状的纳米晶超晶格又被称为“超晶体” 或“胶体晶体”.超晶格的构筑主要依靠纳米晶本身或者其表面修饰分子之间存在的范德华力、电性力、磁作用力、分子表面作用和熵驱动作用等,Grzybowski 等 [10]已经就此作出了较为全面的论述(表1).Table 1 Interaction potentials for nanocrystals (spherical models )[10] Interaction type Formula Range

异质结发展概况

异质结发展概况 半导体异质结是由两种禁带宽度不同的半导体材料形成的结。两种材料禁带宽度的不同以及其他特性的不同使异质结具有一系列同质结所没有的特性,在器件设计中将实现某些同质结不能实现的功能。例如,在异质结晶体管中用宽带一侧做发射极将得到很高的注入比,因而可获得较高的放大倍数。 早在二十世纪三十年代初期,前苏联列宁格勒约飞技术物理研究所的学者们就开始了对半导体异质结的探索,到了1951年,由Gubanov首先提出了异质结的概念,并进行了一定的理论分析工作,但是由于工艺技术的困难,一直没有实际制成异质结。20世纪60年代初期,pn结晶体管取得了巨大的成功,人们开始关注对异质结的研究,对异质结的能带图、载流子在异质结中的输运过程以及异质结的光电特性等提出了各种理论模型并做了理论计算。但是由于制备工艺的原因,未能制备出非常理想的异质结,所以实验特性和理论特性未能达到一致,实验上也未能制备出功能较好的器件。在20世纪70年代里,异质结的生长工艺技术取得了十分巨大的进展。液相外延(LPE)、气相外延(VPE)、金属有机化学气相淀积(MO-CVD)和分子束外延(MBE)等先进的材料生长方法相继出现,使异质结的发展逐渐趋于完善。分子束外延技术不仅能生长出很完整的异质结界面,而且对异质结的组分、掺杂、各层厚度都能在原子量级的范围内进行精确控制。 工艺技术的进步促进了对异质结进一步深入研究,对异质结的宏观性质,如pn结特性、载流子输运过程、光电特性、能带图、结构缺陷、复合和发光等方面的问题,有了更细致的了解。这对异质结器件的原理和设计都有指导作用。在异质结器件方面,首先在异质结半导体激光器上取得了突破性进展。异质结的禁带宽度之差造成了势垒对注入载流子的限制作用和高注入比特性,都有助于实现粒子数反转分布。两种材料折射率的不同,有助于实现光波导,以减少光在谐振腔以外的损失,因而异质结激光器能在室温下实现连续工作。 1968年江崎和朱兆祥提出了超晶格的思想,自此,对异质结超晶格的研究也逐步深化。目前,已有多种异质结对做成了超晶格结构,并对他们的电学、光学及输运特性进行了广泛的理论和实验研究。近几年,对异质

异质结原理与器件小论文

异质结原理与器件小论文 (小组) 题目:GaN——第三代半导体的新势力队长:刘敏物理1001 成员:马丹丹光信1001 李秋虹光信1002

目录 选题背景 (3) 一、GaN材料的发展概述 (4) 二、GaN材料的特性 (4) 2.1化学特性 (6) 2.2结构特性 (6) 2.3电学特性 (7) 2.4光学特性 (7) 三、GaN材料的应用 (8) 3.1新型电子器件 (8) 3.2光电器件 (8) 四、GaN的优缺点 (10) 4.1GaN材料的缺点 (10) 4.2GaN材料的优点 (11) 五、总结 (12) 六、参考文献 (13) 七、异质结小组分工及时间安排 (13)

GaN——第三代半导体的新势力 选题背景:自20世纪60年代,发光二极管(Light Emitting Diode,LED)的发展非常迅速,它具有体积小、耐冲击、寿命长、可靠度高与低电压低电流操作等优良的特性,适用于在各种环境的使用,而且符合未来环保节能的社会发展趋势。初期的以砷化镓(GaAs)、铝铟磷镓(AIGalnP)材料为基础之发光二极管,实现了红光至黄绿光波段的电激发光。GaN材料的研究与应用是目前全球半导体研究的前沿和热点,是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料,并与SIC、金刚石等半导体材料一起,被誉为是继第一代Ge、Si半导体材料、第二代GaAs、InP化合物半导体材料之后的第三代半导体材料。它具有宽的直接带隙、强的原子键、高的热导率、化学稳定性好(几乎不被任何酸腐蚀)等性质和强的抗辐照能力,在光电子、高温大功率器件和高频微波器件应用方面有着广阔的前景。 关键词:氮化镓半导体材料特性应用

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