材料，玻璃研磨，镜片玻璃研磨及抛光，压力喷砂研磨，石英半导体研磨、切割及抛光、岩石表面处理及滚磨。
法国
Kemet Europe S.A.R.L.荷兰
Kemet Europe B.V.
澳大利亚
Kemet Australia Pty Ltd
日本
Kemet Japan
ISO 9001 : 2000 Cert No. 2467
近年来，在世界范围内制造业的竞争变得越来越激烈，企业在尽可能短的时间内高效率， 低消耗的为顾 客提供个性化高品质产品的能力，已成为企业竞争能力的一个标志。模具品质的高低将直接 影响到产品的质量、产量、成本、新产品投资及老产品更新换代要求。那么，如何才能更有 效的提高模具品质呢？也就是说，如何才能让模具在高精度、低成本、高效率条件下，生产 出高品质的合格制件？这与模具表面处理有很大关系，也日益成为各企业关注的焦点。模具 表面处理并不是一个简单的话题，它包括模具抛光与模具焊接等。 模具抛光 众所周知，模具钢需要一个很好的抛光技能来体现材料本质的性能，但抛光问题一直是企 业无法根本解决的一个难题。桥本工业已达到高品质顾客企业所认同的研磨技术的要求。日 益精进的技术，创造出无法仿效的镜面精加工效果，从对使用钢材的建议到微小孔的解决等 问题，及各种形状复杂的精密零件，桥本HASHIMOTO皆可对应。 抛光中遇到的最大问题就是“抛光过度”，抛光过度是指抛光时间越长，模具表面质量越差。发生抛光过度时有两种现象，即“桔皮”和“微坑”，抛光过度多发生于机械抛光。 “桔皮” 不规则、粗糙的表面被称为“桔皮”，产生“桔皮”有许多不同的原因。最常见的原因是由于 抛光压 力过大及抛光时间过长，以及抛光方法不当等。发现表面质量不好，许多人就会增加抛光压力，并延长抛光时间，加上抛光流程的不当，往往会使表面质量变得更差。 “微坑” “微坑”或“砂孔”的形成是由于钢种的非金属夹杂物（杂质），通常是硬而脆的氧化物；在 抛光过 程中从钢材表面被拉出，形成“微坑”或“砂孔”。主要影响因素如下： 1、抛光压力和抛光时长； 2、钢材的纯净度，特别是硬性夹杂物（杂质）的含量； 3、抛光工具； 4、研磨材料。 抛光操作的流程 如何选择研磨和抛光的操作次序，完全取决于抛光操作者的经验及其使用的工具与设备。 材料的特性 对操作程序也有影响。 抛光流程1 考虑加工效率首先要确认加工品的粗糙程度，这个作业要谨慎进行不能有错误，根据粗糙 程度也有不 能作业的可能，确认加工品的粗糙程度然后根据形状选定油石进行抛光，抛光方法的次序是 根据油石的粒
基本镜面抛光步骤(手工抛光 1、用氧化铝砂轮WA400#把前EDM表面白层及过回火层彻底去除。 2、用油石条(由粗至幼打磨表面如下: 180#—240#—320#—400#—600#—800#(校直平面度—1000#(用800#通常用作校正表面平直度,避免在其后抛光时易出现波纹 3、用Sic砂纸(由粗至幼打打磨表面如下: 400#—600#—800#—1000#—1200#—1500#—2000#(预硬钢一般不建议用1500#砂纸打磨,以防表面过热 4、9um用木条(软,6um,3um用毛毡辘,1um用100%棉,配合钻石膏进行抛光; 9um(1800#—6um(3000#—3um(8000#—1um(14000#若需进行更精细抛光如 1/2um(60000#和1/4um(100000#,请确保在无尘环境进行。 NOTE: 1、用砂纸打磨时,应把砂纸粘附在木条或竹片上才进行: 木条或竹片(硬——适合硬度低,平面或边角打磨 木条或竹片(软——适合硬度高,圆面或形状复杂部位打磨 2、每次转换砂纸或钻石膏前,手和模面必须彻底清洗干净,工件用洗模水,工件用肥 皂做清洁。 3、每次转换砂纸或油石条时,应改变打磨方向(45-90度以确保前道磨痕被彻底去除,
而且,用800#或更幼砂纸打磨时,建议打磨次。 4、每道打磨抛光应从难抛部位(如边角位,凹槽位开始,尽量不要抛圆,边角位选 择较硬的抛光工具进行抛光。 5、每一种抛光工具仅能使用一种粒度的钻石膏并保存在无尘的容器中,每个盛载打磨 或抛光工具的容器应只存放一种打磨抛光工具。 6、手工抛光时,钻石膏涂于抛光工具上,机械抛光时,钻石膏涂于工件上。 7、每一道抛光应争取在最短时间内完成,抛光力度亦应随着抛光工具的硬度和钻石膏 的粒度而调整,对于最幼的钻石膏,抛光压力应仅仅等于抛光工具的重量。 8、最后一道抛光应在产品脱料方向进行。 9、由砂纸转换钻石膏前,应把表面彻底清洗干净,用100%棉加小量苯可有效把表面油 渍去除。 10、表面未经EDM加工,可直接从步骤3开始进行加工,另外,若表面EDM加工时 电介液内掺有硅粉,加工后模具表面光洁度会提高,所以,加工后可直接从步骤4 开始进行抛光。 11、如模具须进行热处理,热处理前应用400#左右砂纸预先打磨表面。 12、如模具需进行表面氨化处理,氨化前应用1200#左右砂纸预先打磨表面,氨化后再
摘要 研磨是一种重要的精密和超精密加工方法，它是利用磨具通过磨料作用于工件表面，进行微量加工的过程。研磨加工可以得到很高的尺寸精度和形状精度，甚至可以达到加工精度的极限。本设计采用现代设计方法学为指导，给出了圆柱端面研磨机的黑箱模型和整机功能的形态学矩阵，依据形态学矩阵制定出研磨机机具体方案。通过MATlAB软件中的优化函数对方案中主要运动部件的参数进行优化。设计出了一台双驱动两自由度行星式圆柱端面研磨机。建立数学模型，计算出工作时加工零件的运动方程，通过MATLAB软件绘制了运动运动轨迹。最后通过对研磨轨迹的分析，确定了系杆和内齿轮的转速范围。 【关键词】行星式研磨机功能分析运动轨迹 MATLAB软件 Abstract
Lapping is an important precision and ultra precision machining method, which is the use of abrasive through the abrasive effect on the surface, the micro machining https://www.doczj.com/doc/0e10200599.html,pping can get very high dimensional accuracy and form accuracy, even up to the limits of precision. The design uses a modern design methodology as a guide, cylindrical lapping machine is given black-box model and the whole function of the morphological matrix, based on morphological matrix to develop specific programs grinder machine. By MATlAB optimal function in the software program in the main moving parts of the parameters were optimized. Design of a dual drive planetary two degrees of freedom cylindrical grinding machine. Established Mathematical model, calculate the equation of motion of machine parts,through the MATLAB software to draw the motion traces. Finally, through the analysis of lapping trajectory to determine the tie rod and the gear speed range. 【Key words】planetary; functional Analysis; lapping machine; motion traces; MATLAB software
汽车抛光技术工艺流程 抛光操作方法及流程： 如果说洗车是车体护理的基础，研磨时漆面翻新的关键，那么抛光应是漆面护理的艺术创作。 汽车漆面抛光有三个步骤即研磨、抛光、还原。抛光之所以能产生无比光亮的效果主要是靠研磨，即靠摩擦材料把细微划痕去除，其次是靠车蜡，抛光剂里大多含有增亮成分，可以依靠抛光剂的光泽来弥补漆面的缺陷。 抛光原理： 1、表面粗糙，不平：任何一点光线的射入角和折射角不一样，造成表面亮度降低。 2、表面平滑：镜面反射，射入角和反射角一致，可得到最高反射亮度。所以，美容施工一定首先要将漆面整平，才有最佳的表面亮度和保护层。 操作方法：用于研磨作业的研磨剂是在随着抛光机和研磨剂摩擦作业进行，由于磨擦起热,使研磨剂中所含的"水"，"溶剂"成分减少，最后研磨剂变成干燥的粉状。研磨的初期阶段，研磨剂起着润滑剂的作用，几乎没有研磨力，研磨剂薄薄地随这着抛光机的转动向外涂抹；研磨溶剂中所含的水分和溶剂为了保护研磨粒子会慢慢的干燥，研磨粒子因为有了水和溶剂保护研磨粒子就会使研磨的时间比较长；水，溶剂由于磨擦发热而被蒸发，含量也减
少，变的不能保护研磨粒子，不能受到保护的研磨粒子渐渐开始破碎，研磨力下降，但是光泽呈现出来了。为了有效的使用这种时间带，为了不让发热而进行作业，如果用过大的力进行研磨就容易起热，研磨剂很就快会完全干燥，不仅研磨剂变的失去作用，而且还会因研磨剂颗粒留下出现伤痕。抛光研磨作业不是用力和快速进行的，而是为了有效的使用研磨剂的切削性来进行。 抛光的基础使用方法 1、盘面带有角度的情况 抛光机倾斜度比较的大的情况下会使漆面起热快，而且抛光盘的边的部位摩擦力加大，容易研磨坏车漆，也会使抛光盘面的接触漆面面积会变狭窄。 2、移动抛光机的基本方法 研磨作业是为了把漆面均匀地进行研磨做为基础，为此，需要想办法"在一定程度上控制抛光所承受的压力"。 （1）按动的压力--以抛光机自身的重量为基础，把在平面上的抛光机的自身重量作为基础，不要不需要使用太大的压力，即使在侧面进行抛光作业，也是需要使用与平面同等压力。不要增加或减少压力，这样就不容易因为压力不均匀产生有的部分抛的严重有的部位较轻而产生的光圈或是划痕没有清除。 （2）盘面与抛光的角度--避免在局部增加压力 抛光是根据盘面的形状使用压力。如果过度地抛光会形成"研磨面不均匀"，"抛光分界线"，"抛光伤痕"等原因，由于局部发热，会
平面双面研磨抛光 学校名称：重庆职业技术学院 院系名称：电子工程系 学生学号：20042348 平面双面研磨抛光 学科、专业：光电技术应用 学生姓名：李士全 指导老师姓名：王君
重庆职业技术学院电子工程系 摘要 光学加工中，抛光就是研磨，是精磨以后的主要工序。工件在精磨之后，虽然具有一定的光滑和规则的表面形状，但它还不完全透明而且表面形状也不是所要求的，需要经过抛光才能成为所要求的抛光表面。研磨抛光是获得光学表面的最主要的工序。 平面双面研磨抛光顾名思义就是对大量平面零件上下两个表面同时加工进行高速抛光。抛光中主要的是对磨盘的修正（修盘）、工艺参数、抛光液的浓度、PH值、机器的清洗等系列的掌握和理解。 抛光是零件加工中的最后工序，质量的要求很高，面对划痕、麻点、破边等系列的问题都有他的解决方法。 光学玻璃在抛光过程中及抛光下盘以后的腐蚀问题,长期以来一直影响着这些光学玻璃零件的加工质量和生产效率。例如对化学稳定性差的光学玻璃抛光液中,添加适当的ｐＨ值调节剂，减少了一系列化学稳定性差的光学玻璃在抛光过程中的腐蚀问题,显著提高了抛光表面质量和合格率,并进一步提高了光学玻璃零件加工的效率和效益及其工艺技术水平。 在科技领先的现在，具有丰富的理论知识、实践经验、可操作技术才能进一步提高了光学冷加工的效率和效益及其工艺技术水平，在光学以后的发展进步中才有立足之地,。 关键词：修盘、PH值、疵病 1
平面双面研磨抛光 目录 引言 (1) 一、抛光的基础 (2) 二、平面双面抛光 (3) 三、抛光常见问题及处理方法 (7) 四、总结 (11) 参考文献 (11) 2
不锈钢镜面抛光工艺及方法和要求 不锈钢抛光工艺可以分为打磨和出光两部分。现将该两部分工艺和方法总结如下： Ⅰ.打磨 不锈钢焊接件打磨主要目标是去掉焊点，达到表面粗糙度为R10um的工件，为出光做准备！ 打磨部分概括来说有： 三个工序：粗磨，半精磨，精磨 三个面：两个侧面一个棱边 九个抛光机 二十七个调节机构， 详细说明如下： 1、对上道转入抛光工序的工件进行目测检验，如焊缝是否有漏焊，焊穿，焊点深浅不均匀，偏离接缝太远，局部凹陷，对接不齐，是否有较深划痕，碰伤，严重变形等在本工序无法补救的缺陷，如果有上述缺陷应返回上道工序修整。如果无上述缺陷，进入本抛光工序。 2、粗磨，用600#的砂带在三面上往返磨削工件，本工序要达到的目标是去掉工件焊接留下的焊点，以及在上步工序出现的碰伤，达到焊口圆角初步成型，水平面和垂直面基本无大划痕，无碰伤，经此步工序后工件表面的粗糙度应能达到R0.8mm。注意在抛光过程中注意砂带机的倾斜角度和控制好砂带机对工件的压力。一般来说以与被抛面成一条直线比较适中！
3、半精磨，用800#的砂带按照前面往返磨削工件的方法中磨工件的三面，主要是对前面工序出现的接缝进行修正以及对粗磨后产生的印痕进行进一步的细磨，对前面工序留下的印痕要反复磨削，达到工件表面无划痕，基本变亮。本工序表面粗糙度应能达到R0.4mm。（注意本工序不要产生新的划痕及碰伤，因为在后面的工序无法修补此类缺陷。） 4、精磨，用1000#的砂带主要是对前步工序出现的细小纹线的修正磨削，磨削方法与上同。本工序要达到的目标是磨削部分与工件未磨削部分的接缝基本消失，工件表面进一步光亮，通过本工序磨削后的工件要基本接近镜面效果，工件表面粗糙度应能达到R0.1mm 5、关于更换砂带的说明：一般来说，600#的砂带可以抛磨1500mm长的工件6-8根，800#的砂带可以抛磨工件4-6根，1000#的砂带可以抛磨工件1-2根，具体情况还需以工件焊接焊点情况，抛光使用的压力，以及打磨的方式方法有很大的关系。另外还需注意更换砂带必须保证砂带在海绵轮上能平稳转动，以达到均匀磨削工件的目的。 打磨三个面说明：焊接件需要打磨以焊接棱边为分界线的水平和竖直的两面，具体来说一共需打磨三面，其打磨示意图如下图所示：
湘潭大学兴湘学院 毕业设计说明书 题目：硬脆质材料双面/研磨抛光机的设计____ 专业：机械设计制造及其自动化_________ 学号： 32__________________ 姓名：王林森______ 指导教师：周后明____________________ 完成日期： 5月20___________________
湘潭大学兴湘学院 毕业论文（设计）任务书 论文（设计）题目：硬脆材料双面研磨抛光机的设计 学号：32 姓名：王林森专业：机械设计制造及其自动化 指导教师：周后明系主任：刘柏希 一、主要内容及基本要求 研磨抛光是硬脆材料获得光滑和超光滑高表面质量的重要加工方法。本设计为硬脆材料双面研磨抛光机的设计，其主要技术指标与要求如下： 1、研磨盘的直径：250mm； 2、工件研具相对速度：5~500m/min，连续可调； 3、运动形式：上研磨盘固定，下研磨盘与太阳齿轮、内齿轮转动 4、整机形式：立式，要求构造简单、成本低 设计要求： 1、完成硬脆材料双面研磨抛光机的方案设计和选型论证 2、硬脆材料双面研磨抛光机的结构设计，绘制部件装配图和主要零件图，图纸总量折合成A0，不少于2张 3、撰写设计说明书，关键零件应进行强度和刚度计算，说明书字数不少于1~5万 4、完成资料查阅和3000字的文献翻译 二、重点研究的问题 硬脆材料双面研磨抛光机的结构设计及相关强度校核。
三、进度安排 序号各阶段完成的内容完成时间 1 查阅资料、调研第1，2周 2 制订设计方案第3，4周 3 分析与计算第5，6周 4 绘部件装配图第7，8、9周 5 绘零件图第10，11周 6 撰写设计说明书第12，13周 7 准备答辩材料第14周 8 毕业答辩第15周 四、应收集的资料及主要参考文献 1、机械设计手册 2、机械传动设计手册 3、于思远，林彬. 工程陶瓷材料的加工技术及其应用[M] . 北京：机械工业出版社,2008. 4、袁哲俊，王先逵. 精密和超精密加工技术-第2版[M]. 北京：机械工业出版社,2007. 5、袁巨龙. 功能陶瓷的超精密加工技术[M]. 哈尔滨：哈尔滨工业大学出版社，2000 6、王先逵. 精密加工技术实用手册[M]. 北京：机械工业出版社,2007 7、相关网络资信
产品培训资料—线轮 2013年5月20日修订版 一、原张布车线轮： 1、产品介绍：原张布车线轮又叫珠宝轮、镜光轮，是以白布、黄布、蓝布、红布、漂白布、粗斜布等车制 而成，每个布轮上的布是同一种布料，通过人手编排好，再上机车线，然后中间打孔，最后 再用孔定位切边成型。 2
3、参数说明 直径：直径从2寸到18寸可以生产，如果超过18寸的要先咨询能否正常生产。 中孔：圆孔（3 mm、10mm、12mm、20mm、25mm、30mm、45mm、50mm）六角孔 （32MM），遇到其他的中孔要咨询一下。 厚度：厚度一般是以布料的页数计算的，为了防止与客户的产品厚度的出入，计算了布料的页数，最好能跟客户说明页数对应的厚度是多少CM的。最厚的可车线的页数根据原布料不同而有少数的出入。 因为缝韧机的原因，布轮的厚度是有一个极限的，最厚只能达到2CM。如果客户要加厚就需要用两个车好线的轮子加胶水粘合或者用钉子钉在一起。 4、用途：常用于金属的抛镜光使用，抛首饰（铜、银、不锈钢、钛合金等）金属的一般用8寸以下的为 多，中孔常用3MM左右的孔，因为抛首饰的电机是很小的，轴的尖口很尖，没有平截面的。10MM 以上的孔一般用于五金类金属器件的抛光，中孔则根据不同的机器搭配的。 5、用法：根据不同的镜光效果要求，搭配不同的抛光腊使用，一般这种布轮在刚开始使用的时候都需要起 毛，起毛的作用是使得毛线最细化，抛出来的纹路更细。 6、可抛光的工件：所有金属工件抛镜光用、亚克力、塑料、漆面等。 7、产品搭配：白腊、绿腊等其它能出镜光的抛光腊。 8、工序说明： 1）一般在抛镜光前会先用麻轮进行抛光，再用本产品进行最后抛镜光，有些镜光要求高的，可能会使用两次或以上镜光轮，一个偏粗的最后一个偏细。 2）高档镜面抛光需要用到原张布轮。如果客户要求镜面效果不高，建议用碎布车线轮。 二、碎布车线轮： 1、产品介绍：是以杂色布、牛仔布、绸布、羽布等碎布或边角料车制而成，每个线轮上的布不一定是同一种布料，通过人手编排好，再上机车线，然后中间打孔，最后再用中孔定位切边成型。
手工金属抛光镜面教程 内容来源网络，由“深圳机械展（11万㎡，1100多家展商，超10万观众）”收集整理！ 更多cnc加工中心、车铣磨钻床、线切割、数控刀具工具、工业机器人、非标自动化、数字化无人工厂、精密测量、3D打印、激光切割、钣金冲压折弯、精密零件加工等展示，就在深圳机械展. 1．用氧化铝砂轮WA400#把前EDM 表面白层及过回火层彻底去除； 2．用油石条（由粗至幼）打磨表面如下：180#--240#--320#--400#--600#--800#（校直平面度）---1000#（800#通常用作校正表面平直度，避免在其后抛光时易出现波纹） 3．用SiC 砂纸（由粗至幼）打磨表面如下：400#--600#--800#--1000#--1200#--1500#--2000#（预硬钢一般不建议用1500#砂纸打磨，以防表面过热） 4．9μm 用木条（软），6μm，3μm 用毛毡辘，1μm 用100%棉，配合钻石膏进行抛光： 9μm（1800#）---6μm（3000#）----3μm（8000#）---1μm（14000#） 若需进行更精细抛光如1/2μm（60000#）和1/4μm（100000#），请确保在无尘环境进行。 NOTE： 1．用砂纸打磨时，应把砂纸粘附在木条或竹片上才进行：木条或竹片（硬）-----适合硬度低，平面或边角打磨；木条或竹片（软）-----适合硬度高，圆面或形状复杂部位打磨 2．每次转换砂纸或钻石膏前，手和模面必须彻底清洗干净，工件用洗模水，工件用肥皂做清洁； 3．每次转换砂纸或油石条时，应改变打磨方向（45-90 度）以确保前道磨痕被彻底去除，而且，用800#或更幼砂纸打磨时，建议打磨两次； 4．每道打磨抛光应从难抛部位（如边角位，凹槽位）开始，尽量不要抛圆，边角位选择较硬的抛光工具进行抛光； 5．每一种抛光工具仅能使用一种粒度的钻石膏并保存在无尘的容器中，每个盛载打磨或抛光工具的容器应只存放一种打磨抛光工具； 6．手工抛光时，钻石膏涂于抛光工具上，机械抛光时，钻石膏涂于工件上； 7．每一道抛光应争取在最短时间内完成，抛光力度亦应随着抛光工具的硬度和钻石膏的粒度而调整，对于最幼的钻石膏，抛光压力应仅仅等于抛光工具的重量； 8．最后一道抛光应在产品脱料方向进行；
三江学院 本科生毕业设计（论文） 题目高速平面研磨机机械结构设计高职院院（系）机械设计制造及其自动化专业 学生姓名常芷铭学号 G095152003 指导教师沈仙法职称讲师 指导教师工作单位三江学院 起讫日期 2012.12.27～2013.4.5
摘要 高速研磨技术是一种既能保证研磨加工精度和加工质量，又能显著提高研磨加工效率，降低加工成本的新研磨加工先进技术。本设计是根据目前研磨加工现状，重点采用固着磨料高速研磨方法，设计了平面高速研磨机，这大大地提高了研磨加工精度、加工质量、加工效率及精度的稳定性，并且有效地降低了加工成本。本文主要设计的内容如下:开发设计平面高速研磨机的总体结构及其工作原理,进行系统的机械结构设计；进行系统的硬件设计和软件结构设计；平面高速研磨机固着磨料高速研磨对工件表面性能的影响分析,主要探讨固着磨料高速研磨中一些研磨参数对工件表面性能,如粗糙度、硬度、耐磨性、耐腐蚀性等的影响关系。 通过此次设计，真正熟悉高速研磨技术内部结构及其工作原理，把所学的知识运用到生产实践中去。 关键词：高速；研磨机；机械结构
ABSTRACT High-speed grinding technology is a kind of grinding machining precision and machining quality can be ensured, and can significantly improve the efficiency of grinding process, reduce the processing cost of the new grinding processing of advanced technology. This design is according to the current grinding processing present situation, mainly USES the fixation high-speed abrasive grinding methods, design the plane high-speed lapping machine, this greatly improves the milling machining precision and machining quality, machining efficiency and precision of stability, and effectively reduce the processing cost. This article main design content is as follows: design plane high-speed lapping machine overall structure and work principle, mechanical structure of the system design; System hardware design and software structure design; Plane fixation abrasives high-speed grinding machine grinding on the workpiece surface performance analysis of the influence of this paper mainly discusses some solid in high-speed grinding with abrasive grinding parameters on the surface properties, such as roughness, hardness, wear resistance, corrosion resistance, etc. The influence of the relationship. Through this design, familiar with real internal structure and working principle of high speed grinding technology, apply the learned knowledge into production practice. Key words: High-speed; grinding machine; mechanical structure
怎样选择一款适合自己产品抛光的振动抛光机 产品表面抛光的亮度可以达到要求与振动研磨抛光机及研磨抛光材料的选择有着极为重要的关系。在选择振动抛光机前应明确产品需要达到的目的，确定产品想要的效果，来进行选择一款适合的振动抛光机。只有这样才能避免在振动抛光时出现的很多问题，使产品能顺利的起到想要达到的效果。 一、振动抛光机的工作原理 台湾地区生产的振动研磨机，大多叫做“三次元振动研磨机”，而大陆地区所生产的振动研磨机，一般叫做振动式光饰机，它们的原理是一样的，只是叫法不一样、性能有一些差异而已。振动研磨机在振动盘中安装有振动马达，振动盘通过振动弹簧与底座连接启动振动研磨机时，振动马达产生强大的激振力，通过振动弹簧带动振动盘中的研磨混合物（即研磨材料、研磨加工零件、研磨助剂等混合物）产生三个方向的运动，即上下振动、由里向外的翻转、螺旋式的顺时针旋转（因为这个原因，有些厂家的振动研磨机，也称“螺旋式振动研磨机或螺旋式振动光饰机”），“三次元”说的就是这个道理。振动马达是振动研磨机中的核心部件，它是一种特殊的振动马达（如上图所示），它在两端的轴心上安装有偏心块（也叫振动块）。通过调节这两块偏心块的相对角度、重量，可以很方便的调节振动机的振动频率、翻转速度，具体的调节方法可以参见我公司的说明书。那些需要研磨抛光的产品零配件，在这种立体的研磨方式下，与研磨抛光材料相互摩擦，达到表面抛光、去批锋、倒角、去毛边、除锈、粗磨光、精密磨光、光泽打光、电镀前细磨、振动出色等目的。 二、振动抛光机的用途及型号 振动抛光机，又称震动研磨机或三次元振（震）动研磨机，它适用于各种五金零件倒角、去毛边、披风（锋）及抛光，也可用于咖古工件振动出色，在树脂、粉末冶金、陶瓷方面也有广泛应用。[1] 机种容量（L）重量（KG）马力（HP）功率（KW）机台尺寸（MM）充填量（L） VB-25 25L 58KG 0.5HP 0.37 ￠570×670H 100 VB-50 50L 260KG 1HP 0.75 ￠696×850H 150 VB-100 100L 360KG 2HP 1.5 ￠906×990H 300 VB-150 150L 460KG 3HP 2.25 ￠1045×1035H 380 VB-250 250L 640KG 5HP 3.75 ￠1200×1260H 650 VB-350 350L 750KG 7.5HP 5.62 ￠1340×1330H 950 VB-500 500L 1070KG 10HP 7.2 ￠1560×1560H 1200 三、振动抛光机的优点及缺点： 1、振动研磨的优点：节省人力成本，提高生产效率，研磨均匀，可避免人工去毛边或抛光时因用力不均而造成的产品平整度或光亮度差异。对于较小工件和角位，人工操作不方便，振动研磨亦能解决。 2、振动研磨的缺点：去除较厚的毛边披锋时没人工打砂快，抛光的效果也没人工磨光好。因此要视乎产品的加工要求来选用。
随着塑料制品日溢广泛的应用，如日化用品和饮料包装容器等，外观的需要往往要求塑料模具型腔的表面达到镜面抛光的程度。而生产光学镜片、镭射唱片等模具对表面粗糙度要求极高，因而对抛光性的要求也极高。抛光不仅增加工件的美观，而且能够改善材料表面的耐腐蚀性、耐磨性，还可以使模具拥有其它优点，如使塑料制品易于脱模，减少生产注塑周期等。因而抛光在塑料模具制作过程中很重要的一道工序。 1 抛光方法 目前常用的抛光方法有以下几种： 1.1 机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用种方法。 1.2 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。 1.3 电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步： （1）宏观整平溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra＞1μm。 （2）微光平整阳极极化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。 1.4 超声波抛光
去毛刺、除披锋、清夹缝、倒角、洗净一次完成 价格特优—质保六年—终身维护 科技改变你的生产工艺：科技为你实现去毛刺自动化；科技为你提高经济效益，专业铸就品质；品质铸就品牌。有毛刺找国林；国林为你解决精密去毛刺困惑。公司专注于五金件表面处理研究事业的最前沿，我司专业提供磁力抛光机，磁力研磨机，磁力去毛刺机，精密去毛刺设备，振动研磨机，离心光饰机，螺旋光饰机，烘干机等各种研磨抛光设备与研磨材料。价格便宜，质量保证，专业解决精密内孔去毛刺，表面光亮，除油去污等问题。 磁力抛光机工作原理： 1、研磨速度快，平均一次研磨时间约5分至15分钟左右，配双价格槽替换工 件快，可在机器运转中交换研磨零件。 2、操作简单，绝对安全，一人可操作数台机器。 3、成本低，不锈钢针为半永久性磨材，消耗极低、唯一的耗材为研磨液。 4、无污染，研磨液是含97%水分，姑无毒性及发生火灾之虞，完全符合环保排 放标准。 5、研磨完成后，工件好处理，可用筛网，筛桶，电磁力，或分离机轻易将工件 及不锈钢针分离。 6、不锈钢针有直径0.2—5mm至1.2—10mm可供选择。 磁力去毛刺机优点： 1、相比其他布伦抛光机等抛光设备，磁力去毛刺机可批量工件抛光处理，完成 抛光后可用筛网批量和钢针分离开来，大幅度提高工作效率和效果。。 2、磁力去毛刺机针对小五金件，小饰品等死角，内孔处理效果极佳。可达到清 除灰尘，去除毛刺，提高产品表面光亮度，这是其他类型抛光设备无法比拟的特点。 3、磁力去毛刺机操作简单，可一人同时操作多台设备，节约成本。 4、磁力去毛刺机采用抛光液和钢针，再加上适当自来水来批量抛光工件，其钢 针为半永久性耗材，磨损少。 磁力抛光机去毛刺工艺是机械与化学相结合的方法，是用一种叫去毛刺磁力研磨机产品。突破传统振动抛光理念，采用磁场特有的能量传导不锈钢针磨材产生高
模具抛光的工艺流程及技巧 抛光在模具制作过程中是很重要的一道工序，随着塑料制品的日溢广泛应用，对塑料制品的外观品质要求也越来越高，所以塑料模具型腔的表面抛光质量也要相应提高，特别是镜面和高光高亮表面的模具对模具表面粗糙度要求更高，因而对抛光的要求也更高。抛光不仅增加工件的美观，而且能够改善材料表面的耐腐蚀性、耐磨性，还可以方便于后续的注塑加工，如使塑料制品易于脱模，减少生产注塑周期等。目前常用的抛光方法有以下几种： ㈠机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件
被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。 ⑴机械抛光基本程序 要想获得高质量的抛光效果，最重要的是要具备有高质量的油石、砂纸和钻石研磨膏等抛光工具和辅助品。而抛光程序的选择取决于前期加工后的表面状况，如机械加工、电火花加工，磨加工等等。机械抛光的一般过程如下： ①粗抛经铣、电火花、磨等工艺后的表面可以选择转速在35 000—40 000 rpm的旋转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光。常用的方法有利用直径Φ3mm、WA # 400的轮子去除白色电火花层。然后是手工油石研磨，条状油石加煤油作为润滑剂或冷却剂。一般的使用顺序为#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。油石抛光方法，这个作业是最重要的高难度作业，根据加工品的不同规格，分别约70度的角位均衡的进行交叉研磨。最理想
工业污水处理厂平面型格栅设计 摘要：工业污水未经处理直接排放,其中可能含有一些大粒度的悬浮物。为了清除污水和雨水泵站以及污水处理厂进水中含有的较大悬浮物，保护后续处理设施的正常运行，以及降低其他处理设施的负荷，需要在污水处理厂的一级处理中设定一个筛滤设备—格栅。格栅是由一组平行的金属栅条或筛网、格栅柜和清渣耙三部分组成，安装在污水处理厂的端部。格栅主要作用是将污水中的大块污染物拦截出来，否则这些大块污染物将堵塞后续单元的机泵或工艺管线。 关键字：平面格栅；机械除渣；工业污水
目录 1 前言 (1) 2 污水处理构筑物设计—格栅设计 (4) 2.1 待处理污水的各项指标及出水指标要求 (4) 2.2 处理工艺流程 (4) 2.3格栅的基本资料 (4) 2.3.1 格栅的分类 (4) 2.3.2 格栅的工艺参数 (5) 2.4格栅设计要点 (6) 2.5 格栅设备的选用 (7) 2.5.1回转式格栅清污机的结构特点 (7) 2.5.2 XHG-I型回转式格栅清污机参数 (7) 2.6 格栅设计计算 (8) 2.6.1 已知条件 (8) 2.6.2 设计计算 (8) 3 结论 (12) 参考文献...................................................................................... 错误！未定义书签。
1 前言 1.1 污水处理设备研究背景 我国污水处理行业突飞猛进，整体发展处于快速成长期，主要表现在污水处理能力迅速扩张、污水处理率稳步提高、污水处理量快速增长等方面。2010年城市污水处理厂日处理能力达10262万立方米，比2009年末增长13.4%，城市污水处理率达到76.9%。截至2011年9月底，全国设市城市、县累计建成城镇污水处理厂3077座，处理能力达到1.36亿立方米/日。城镇污水垃圾处理设施建设推动了环保产业发展，到2020年城市污水处理率将不低于90%，我国污水处理业务市场空间广阔。此外，国家鼓励利用再生水的政策，也将对污水深度处理业务提供广阔的市场空间。我国污水处理建设的严峻形势，县城和建制镇污水处理率较低的现状，为污水处理市场的建设、运营投资均带来巨大投资空间。 在污水处理设备方面，尽管国产一级处理机械设备从无到有引进、消化吸收国外先进技术，有少数产品已接近国际先进水平，但是国产设备普遍地存在材质差，加工精度低，能耗高，产品品种少，设备不配套，可靠性差，以及自动化水平低的问题。在制造工艺水平和规模化生产等方面与国外相比，其差距更大。因此，加速发展污水处理厂一级处理机械设备制造工业，赶超世界先进水平，这对我国控制水体污染，减少投资，降低能耗，提高污水处理厂自动化水平。 在污水处理工艺中，要使排放的污水达到国家规定的排放标准，除了二级处理之外，以及处理的作用也是必不可少的。一级处理的主要方法是物理法，一级处理的常用方法有：筛滤法，沉淀法，上浮法，预曝气法。筛滤法是用来分离污水中呈悬浮状态污染物。常用设备是格栅和筛网。格栅主要用于截留污水中大于栅条间隙的漂浮物，一般布置在污水处理厂或泵站的进水口，以防止管道、机械设备及其他装置的堵塞。格栅的清渣，可采用人工或机械方法。有的是用磨碎机将栅渣磨碎后，再投入格栅下游，以解决栅渣的处置问题。 1.2污水处理格栅的工作原理介绍 污水处理格栅是一种可以连续自动拦截并清除流体中各种形状杂物的水处理专用设备，可广泛地应用于城市污水处理。自来水行业、电厂进水口，同时也
SpeedFam-PW单面研磨机系列 SpeedFam-PW单面研磨机(Peter Wolters 旗下品牌)的主要参数和描述： Single-side Lapping/单面研磨机 Free-Abrasive and Polishing Machines (FAM)/单面研磨/抛光机 The SpeedFam-PW Free-Abrasive Machine, or FAM, is used in a wide range of applications requiring precision flat machining. The unique FAM process, which requires no fixturing, clamping, or chucking of parts, is also ideal for applications involving thin or hard-to-hold parts, brittle materials, and parts sensitive to thermal distortion from heat build-up common to other types of machining. Speedfam-PW的精密研磨机可广泛应用于各种材料工件的精密平面加工，FAM-自由粒子研磨技术由早期美国Speedfam公司开创，应避免了使用复杂的装卡制据，这种加工方式特别适用于超薄、硬质、易碎材料的平面加工。
HOW FAM WORKS-什么叫自由粒子研磨? The FAM free-abrasive machining process is a simple flat machining technique that allows new machine operators to achieve precision tolerances after just one day‘s training. Thickness tolerances of +/- .00015", flatness tolerances of .000010", parallelism of .00015", and surface finishes to 2 Ra are possible, even when operated by non-machinists or other relatively untrained operators. 自由粒子研磨工艺是一种简单的平面加工工艺,借助此种工艺，操作人员只需经过一天的简单培训就可以操作设备获得良好的工件加工精度,厚度误差可达 +/- .00015英寸(3um),平坦度可达.000010英寸(0.2um),平行度可达.00015英寸(3um),表面粗糙度可达2 A; FAM MACHINE STANDARD FEATURES/FAM设备特点 · Speedalloy Machining Plate Segments /Speedalloy超高硬度研磨盘 · Heavy-Duty Steel Frame Construction /高强度机身 · Totally Enclosed Motor Design and Unitized Gear Case /内置式马达以及齿轮箱 · Positive Flatness Control System /盘面平坦度主动控制系统 · 4-Ring-Design Work Area /工作区间可容纳4个工作环 Optional FAM Features/可选项: · Water-Cooled Back-Up Wheel /研磨盘内冷却系统 · Parts Handling Table /操作台 · Full Pressure Air System /气动加压调压系统 · Variable Speed Drive /研磨盘钻石可调 · Individual Air Regulators / 气缸压力单独可调 · Polishing Set-Ups for Mechanical or Pad Polishing Applications / 机械研磨/化学抛光功能切换
CMP Slurry的蜕与进 岳飞曾说：“阵而后战，兵法之常，运用之妙，存乎一心。”意思是说，摆好阵势以后出战，这是打仗的常规，但运用的巧妙灵活，全在于善于思考。正是凭此理念，岳飞打破了宋朝对辽、金作战讲究布阵而非灵活变通的通病，屡建战功。如果把化学机械抛光(CMP，Chemical Mechanical Polishing)的全套工艺比作打仗用兵，那么CMP工艺中的耗材，特别是slurry的选择无疑是“运用之妙”的关键所在。 “越来越平”的IC制造 2006年，托马斯?弗里德曼的专著《世界是平的》论述了世界的“平坦化”大趋势，迅速地把哥伦布苦心经营的理论“推到一边”。对于IC制造来说，“平坦化”则源于上世纪80年代中期CMP技术的出现。 CMP工艺的基本原理是将待抛光的硅片在一定的下压力及slurry（由超细颗粒、化学氧化剂和液体介质组成的混合液）的存在下相对于一个抛光垫作旋转运动，借助磨粒的机械磨削及化学氧化剂的腐蚀作用来完成对工件表面材料的去除，并获得光洁表面（图1）。 1988年IBM开始将CMP工艺用于4M DRAM器件的制造，之后各种逻辑电路和存储器件以不同的发展规模走向CMP。CMP将纳M粒子的研磨作用与氧化剂的化学作用有机地结合起来，满足了特征尺寸在0.35μm以下的全局平坦化要求。目前，CMP技术已成为几乎公认的惟一的全局平坦化技术，其应用范围正日益扩大。 目前，CMP技术已经发展成以化学机械抛光机为主体，集在线检测、终点检测、清洗等技术于一体的CMP技术，是集成电路向微细化、多层化、薄型化、平坦化工艺发展的产物。同时也是晶圆由200mm向300mm乃至更大直径过渡、提高生产率、降低制造成本、衬底全局平坦化所必需的工艺技术。 Slurry的发展与蜕变 “CMP技术非常复杂，牵涉众多的设备、耗材、工艺等，可以说CMP本身代表了半导体产业的众多挑战。”安集微电子的CEO王淑敏博士说，“主要的挑战是影响CMP工艺和制程的诸多变量，而且这些变量之间的关系错综复杂。其次是CMP的应用范围广，几乎每一关键层都要求用到CMP进行平坦化。不同应用中的研磨过程各有差异，往往一个微小的机台参数或耗材的变化就会带来完全不同的结果，slurry的选择也因此成为CMP工艺的关键之一。” CMP技术所采用的设备及消耗品包括：抛光机、slurry、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。其中slurry和抛光垫为消耗品。Praxair的研发总监黄丕成博士介绍说，一个完整的CMP工艺主要由抛光、后清洗和计量测量等部分组成。抛光机、slurry和抛光垫是CM