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常用的元器件集成电路

常用的元器件集成电路

常用的元器件集成电路

随着电子技术的不断发展,电子设备趋向小型化,其体积缩小,重量减轻,工作可靠性大大提高。这些都归功于集成电路的应用。

7.1 集成电路的种类

集成电路按工艺结构或制造方法不同,可分为半导体集成电路、膜集成电路和混合集成电路等;按电路功能可分为线性集成电路、数字集成电路;按电路集成度的高低可分为大、中、小规模和超大规模集成电路。所谓集成度,是指一块进程电路芯片中所包含的电子元器件数量。集成电路的集成度少于10各门电路或少于100个元件者,称为小规模集成电路;集成度在10~100个门电路之间或集成元件在100~1000个之间者称为中规模集成电路;集成度在100个门电路以上或1000个元件以上者,称为大规模集成电路。在各类集成电路中,半导体集成电路优点最多,因而其发展也较快。

集成电路材料、结构与理论

分类材料电导率 导体铝、金、钨、铜等105S ·cm -1 第二章IC 制造材料、结构与理论 2.1 集成电路材料 1 半导体硅、锗、砷化镓、 磷化铟等10-9~102S ·cm -1 绝缘体SiO 2、SiON 、Si 3N 4等10-22~10-14S ·cm -1IC 的衬底材料----构建复杂的材料系统、固态器件、集成电路 IC 的基本元件是依据半导体特性构成的

半导体特性: 掺入杂质可改变电导率---制造不同的半导体材料 热敏效应---热敏器件、热稳定性下降 光电效应---光敏电阻、光电晶体管、光电耦合器 注入电流----发光,可制造发光二极管和激光二极管。 2

2.1.1 硅(Si) ?基于硅的多种工艺技术: 双极型晶体管(BJT ) 结型场效应管(J-FET )3P 型、N 型MOS 场效应管 双极CMOS (BiCMOS ) ?来源丰富、技术成熟、集成度高、晶圆尺寸大、芯片速度快、价格低廉?占领了90%的IC 市场

2.1.2 砷化镓(GaAs) ?具有更高的载流子迁移率, 和近乎半绝缘的电阻率 能工作在超高速超高频 4 ?GaAs 的优点: 电子迁移率高,f T 达150GHz ,毫米波、超高速电路 导带价带位置—电子空穴直接复合--可制作发光器件LED\LD\OEIC—光纤数字传输禁带宽度—载流子密度低--更高的温度/更好的抗辐射性能 兼顾速度与功耗,在微米毫米波范围内GaAs IC 处于主导地位 ?GaAs IC 的三种有源器件: MESFET, HEMT 和HBT

2.1.3磷化铟(InP) ?能工作在超高速超高频 ?三种有源器件: MESFET, HEMT和HBT ?电子空穴直接复合—发光器件、OEIC ?GaInAsP/InP系统发出激光波长0.92-1.65um 覆盖了玻璃光纤的最小色散(1.3um)和最小衰减 (1.55um)的两个窗口,广泛应用于光纤通信系统中。 ?技术不够成熟 5

集成电路中的器件结构

第3章集成电路中的器件结构 3.1 电学隔离的必要性和方法 第2章中给出了二极管、双极型晶体管和MOS场效应晶体管的截面剖图(见图2—14、图2—19和图2—31)。图中显示了这些器件的主要特征,但这种结构不能直接用于集成电路之中,在集成电路中它们的结构要复杂得多。 一块集成电路中含有百万以至千万个二极管、晶体管以及电阻、电容等元件,而且它们都是做在一个硅芯片上,即共有同一个硅片衬底。因此,如果不把它们在电学上一一隔离起来,那么各个元器件就会通过半导体衬底相互影响和干扰,以至整个芯片无法正常工作,这是集成电路设计和制造时首先要考虑的问题。为此要引入隔离技术,然后在隔离的基础上根据电路要求把相关的各元器件端口连接起来,以实现电路的功能。 在现代集成电路技术中,通常采用以下两种电学隔离方法:①通过反向PN结进行隔离;②采用氧化物(二氧化硅)加以隔离。这两种方法能较好地实现直流隔离,其缺点是都会增加芯片面积并引入附加的电容。 现以MOS管为例说明反向PN结的隔离作用。如在一个硅片衬底上有两个N沟 MOS管,其结构与PN结的隔离作用见图3~1。 图3一l PN结隔离作用 在每个N沟MOS管的源与衬底之间加一负偏压或将两者直接短路后接地,就可防止电流流向衬底。同时由于两管的漏端总是处于正电压,漏与衬底结处于反向,沟道与衬底之间也形成一反向结,因此两个MOS管之间在电学上也就被隔离。 这是MOS场效应晶体管在结构上的一个固有优点,即可以利用MOS管本身的PN结实现隔离而不需增加新的PN结。 对于双极型晶体管常采用氧化物隔离方法,即在形成三极管区域的四周构筑一隔离环,该隔离环为二氧化硅绝缘体,因而集成电路中的各个三极管之间,以及各三极管与其他元件(如电阻、电容等)之间是完全电隔离的。氧化物隔离的示意图见图3—2。图中有两个三极管,每个三极管四周被二氧化硅所包围,因而这两个三极管在电学上完全被隔离,其横截面图将示于3.3节中

集成电路工艺流程

集成电路中双极性和CMOS工艺流程 摘要:本文首先介绍了集成电路的发展,对集成电路制作过程中的主要操作进行了简要 讲述。双极性电路和MOS电路时集成电路发展的基础,双极型集成电路器件具有速度高、驱动能力强、模拟精度高的特点,但是随着集成电路发展到系统级的集成,其规模越来越大,却要求电路的功耗减少,而双极型器件在功耗和集成度方面无法满足这些方面的要求。CMOS电路具有功耗低、集成度高和抗干扰能力强的特点。文章主要介绍了双极性电路和CMOS电路的主要工艺流程,最后对集成电路发展过程中出现的新技术新工艺以及一些阻 碍集成电路发展的因素做了阐述。 关键词:集成电路,双极性工艺,CMOS工艺 ABSTRACT This paper first introduces the development of integrated circuits, mainly operating in the process of production for integrated circuits were briefly reviewed. Bipolar and MOS circuit Sas the basis for the development of integrated circuit. Bipolar integrated circuits with high speed, driving ability, simulated the characteristics of high precision, but with the development of integrated circuit to the system level integration, its scale is more and more big.So, reducing the power consumption of the circuit is in need, but bipolar devices in power consumption and integration can't meet these requirements. CMOS circuit with low power consumption, high integration and the characteristics of strong anti-interference ability. This paper mainly introduces the bipolar circuit and CMOS circuit the main technological process.finally, the integrated circuit appeared in the process of development of new technology and new technology as well as some factors hindering the development of the integrated circuit are done in this paper. KEY WORDS integrated circuit, Bipolar process, CMOS process

教你认识如何看懂集成电路的线路图

教你认识如何看懂集成电路的线路图 集成电路应用电路图功能集成电路应用电路图具有下列一些功能: ①它表达了集成电路各引脚外电路结构、元器件参数等,从而表示了某一集成电路的完整工作情况。 ②有些集成电路应用电路中,画出了集成电路的内电路方框图,这时对分析集成电路应用电路是相当方便的,但这种表示方式不多。 ③集成电路应用电路有典型应用电路和实用电路两种,前者在集成电路手册中可以查到,后者出现在实用电路中,这两种应用电路相差不大,根据这一特点,在没有实际应用电路图时可以用典型应用电路图作参考,这一方法修理中常常采用。 ④一般情况集成电路应用电路表达了一个完整的单元电路,或一个电路系统,但有些情况下一个完整的电路系统要用到两个或更多的集成电路。 .集成电路应用电路特点集成电路应用电路图具有下列一些特点: ①大部分应用电路不画出内电路方框图,这对识图不利,尤其对初学者进行电路工作分析时更为不利。 ②对初学者而言,分析集成电路的应用电路比分析分立元器件的电路更为困难,这是对集成电路内部电路不了解的原缘,实际上识图也好、修理也好,集成电路比分立元器件电路更为方便。 ③对集成电路应用电路而言,大致了解集成电路内部电路和详细了解各引脚作用的情况下,识图是比较方便的。这是因为同类型集成电路具有规律性,在掌握了它们的共性后,可以方便地分析许多同功能不同型号的集成电路应用电路。 .集成电路应用电路识图方法和注意事项分析集成电路的方法和注意事项主要有下列几点:(1)了解各引脚的作用是识图的关键了解各引脚的作用可以查阅有关集成电路应用手册。知道了各引脚作用之后,分析各引脚外电路工作原理和元器件作用就方便了。例如:知道①脚是输入引脚,那么与①脚所串联的电容是输入端耦合电路,与①脚相连的电路是输入电

CMOS集成电路的物理结构CMOS集成电路的物理结构

2018-9-5第3章CMOS集成电路的物理结构1 §3.1 集成电路工艺层 硅集成电路(IC)分层的一个主要特点: 形成图形的导体层在绝缘体的上面。

叠放过程完成后的各层情形 2018-9-5第3章CMOS集成电路的物理结构3 §3.1 集成电路工艺层 加上另一层绝缘层和第二层金属层 侧视图显示叠放顺序 绝缘层将两金属层分隔开,所以它们在电气上不同 每层的图形由顶视图表示

2018-9-5第3章CMOS 集成电路的物理结构5互连线的电阻和电容 1 互连线电阻 w l R R S line ×=R S :薄层电阻,方块电阻 t R S σ1=§3.1 集成电路工艺层 互连线电阻计算 R line =R S ×n (n =l / w 方块数)

2018-9-5第3章CMOS 集成电路的物理结构72 互连线电容 设满足平行板电容条件ox ox line T wl C ε=F/cm )SiO 2介电常数,单位::绝缘层(ox ε§3.1 集成电路工艺层 互连线上的寄生电阻和寄生电容,引起时间延迟 时间常数: line line C R =τ

互连线电阻和电容 ?互连线电阻和电容使传播延时增加,相应于性能的下降 ?互连线电阻会消耗功率 ?互连线电容会引起额外的噪声,影响电路的可靠性 2018-9-5第3章CMOS集成电路的物理结构9 §3.1 集成电路工艺层 Intel 0.18μm 工艺互连线

NMOS电路符号与相应的工艺层 NMOS的简化工作图 栅信号G决定了在漏区与源区之间是否存在导电区2018-9-5第3章CMOS集成电路的物理结构11 §3.2 MOSFET 形成MOSFET的各工艺层 MOSFET的宽长比定义为(W/L),它是VLSI 设计者考虑的最重要参数!

电子元件基础认识第三章:各种集成电路简介

电子元件基础认识第三章:各种集成电路简介 电子元件基础认识(三) [作者:华益转贴自:本站原创点击数:7832 更新时间:2005-3-27 文章录入:华益] 第三章:各种集成电路简介 第一节三端稳压IC ? ? 电子产品中常见到的三端稳压集成电路有正电压输出的78××系列和负电压输出的79××系列。故名思义,三端IC是指这种稳压用的集成电路只有三条引脚输出,分别是输入端、接地端和输出端。它的样子象是普通的三极管,TO-220的标准封装,也有9013样子的TO-92封装。 ? ? 用78/79系列三端稳压IC来组成稳压电源所需的外围元件极少,电路内部还有过流、过热及调整管的保护电路,使用起来可靠、方便,而且价格便宜。该系列集成稳压IC型号中的78或79后面的数字代表该三端集成稳压电路的输出电压,如7806表示输出电压为正6V,790 9表示输出电压为负9V。 ? ? 78/79系列三端稳压IC有很多电子厂家生产,80年代就有了,通常前缀为生产厂家的代号,如TA7805是东芝的产品,AN7909是松下的产品。(点击这里,查看有关看前缀识别集成电路的知识) ? ? 有时在数字78或79后面还有一个M或L,如78M12或79L24,用来区别输出电流和封装形式等,其中78L调系列的最大输出电流为10 0mA, 78M系列最大输出电流为1A,78系列最大输出电流为1.5A。它的封装也有多种,详见图。塑料封装的稳压电路具有安装容易、价格低廉等优点,因此用得比较多。 79系列除了输出电压为负。引出脚排列不同以外,命名方法、外形等均与78系列的相同。 ? ? 因为三端固定集成稳压电路的使用方便,电子制作中经常采用,可以用来改装分立元件的稳压电源,也经常用作电子设备的工作电源。电路图如图所示。 ? ? 注意三端集成稳压电路的输入、输出和接地端绝不能接错,不然容易烧坏。一般三端集成稳压电路的最小输入、输出电压差约为2V,否则不能输出稳定的电压,一般应使电压差保持在4-5V,即经变压器变压,二极管整流,电容器滤波后的电压应比稳压值高一些。 ? ? 在实际应用中,应在三端集成稳压电路上安装足够大的散热器(当然小功率的条件下不用)。当稳压管温度过高时,稳压性能将变差,

各种集成电路介绍

第一节三端稳压IC 电子产品中常见到的三端稳压集成电路有正电压输出的78××系列和负电压输出的79××系列。故名思义,三端IC是指这种稳压用的集成电路只有三条引脚输出,分别是输入端、接地端和输出端。它的样子象是普通的三极管,TO-220的标准封装,也有9013样子的TO-92封装。 用78/79系列三端稳压IC来组成稳压电源所需的外围元件极少,电路内部还有过流、过热及调整管的保护电路,使用起来可靠、方便,而且价格便宜。该系列集成稳压IC型号中的78或79后面的数字代表该三端集成稳压电路的输出电压,如7806表示输出电压为正6V,7909表示输出电压为负9V。 78/79系列三端稳压IC有很多电子厂家生产,80年代就有了,通常前缀为生产厂家的代号,如TA7805是东芝的产品,AN7909是松下的产品。(点击这里,查看有关看前缀识别集成电路的知识) 有时在数字78或79后面还有一个M或L,如78M12或79L24,用来区别输出电流和封装形式等,其中78L调系列的最大输出电流为100mA,78M系列最大输出电流为1A,78系列最大输出电流为1.5A。它的封装也有多种,详见图。塑料封装的稳压电路具有安装容易、价格低廉等优点,因此用得比较多。79系列除了输出电压为负。引出脚排列不同以外,命名方法、外形等均与78系列的相同。 因为三端固定集成稳压电路的使用方便,电子制作中经常采用,可以用来改装分立元件的稳压电源,也经常用作电子设备的工作电源。电路图如图所示。 注意三端集成稳压电路的输入、输出和接地端绝不能接错,不然容易烧坏。一般三端集成稳压电路的最小输入、输出电压差约为2V,否则不能输出稳定的电压,一般应使电压差保持在4-5V,即经变压器变压,二极管整流,电容器滤波后的电压应比稳压值高一些。 在实际应用中,应在三端集成稳压电路上安装足够大的散热器(当然小功率的条件下不用)。当稳压管温度过高时,稳压性能将变差,甚至损坏。 当制作中需要一个能输出1.5A以上电流的稳压电源,通常采用几块三端稳压电路并联起来,使其最大输出电流为N个1.5A,但应用时需注意:并联使用的集成稳压电路应采用同一厂家、同一批号的产品,以保证参数的一致。另外在输出电流上留有一定的余量,以避免个别集成稳压电路失效时导致其他电路的连锁烧毁。 第二节语音集成电路 电子制作中经常用到音乐集成电路和语言集成电路,一般称为语言片和音乐片。它们一般都是软包封,即芯片直接用黑胶封装在一小块电路板上。语音IC一般还需要少量外围元件才能工作,它们可直接焊到这块电路板上。

集成电路版图技巧总结

集成电路版图技巧总结 1、对敏感线的处理对敏感线来说,至少要做到的是在它的走线过程中尽量没有其他走线和它交叉。因为走线上的信号必然会带来噪声,交错纠缠的走线会影响敏感线的信号。 对于要求比较高的敏感线,则需要做屏蔽。具体的方法是,在它的上下左右都连金属线,这些线接地。比如我用M3做敏感线,则上下用M2和M4重叠一层,左右用M3走,这些线均接地。等于把它像电缆一样包起来。 2、匹配问题的解决电路中如果需要匹配,则要考虑对称性问题。比如1:8的匹配,则可以做成33的矩阵,“1”的放在正中间,“8”的放在四周。这样就是中心对称。如果是2:5的匹配,则可以安排成AABABAA的矩阵。 需要匹配和对称的电路器件,摆放方向必须一致。周围环境尽量一致。 3、噪声问题的处理噪声问题处理的最常用方法是在器件周围加保护环。N mos管子做在衬底上因此周围的guardring是Pdiff,在版图上是一层PPLUS,上面加一层DIFF,用CONTACT连M1。Pdiff接低电位。Pmos管子做在NWELL里面因此周围的GUARDING是Ndiff,在版图上先一层NPLUS,上面加一层DIFF,用CONTACT连M1。Ndiff接高电位。在一个模块周围为了和其他模块隔离加的保护环,用一圈NWELL,里面加NDIFF,接高电位。

电阻看类型而定,做在P衬底上的周围接PDIFF型guarding接地;做在NWELL里面的则周围接NDIFF型guarding接高电位。各种器件,包括管子,电容,电感,电阻都要接体电位。如果不是RF型的MOS管,则一般尽量一排N管一排P管排列,每排或者一堆靠近的同类型管子做一圈GUARDING,在P管和N管之间有走线不方便打孔的可以空出来不打。 4、版图对称性当电路需要对称的时候,需要从走线复杂度,面积等方面综合考虑。常见的对称实现方式: 一般的,画好一半,折到另一半去,复制实现两边的对称。 如果对称性要求高的,可以用质心对称的方式,把管子拆分成两个,四个甚至更多。 如把一个管子拆成两个可以AB BA的方式如果有四个管子,可以各拆成三个,用ABCDABCDABCD的方式五、布局布线布局布线是一个全局问题。在画较大的电路时候是很重要的。首先确定各模块的位置,在确定位置的时候需要考虑的问题主要有:各输入输出之间的连线最短,最方便;各模块接出去连PAD的各端口方便;高频线距离尽量短;输入输出之间相隔比较远等。这些问题需要在着手画各模块之前先有个安排。在画好各模块后摆放时会做调整,但大局不变。连线一般的规则是单数层金属和双数层金属垂直,比如一三五层连水平;二四六层连垂直。但这样的主要目的是各层能方便走线,排得密集。所以也不是死规则,在布线较稀疏的情况下可以做适量变通。在布线时最重要的问题

集成电路中的器件结构

第3章 集成电路中的器件结构 3.1 电学隔离的必要性和方法 第2章中给出了二极管、双极型晶体管和MOS场效应晶体管的截面剖图(见图2—14、图2—19和图2—31)。图中显示了这些器件的主要特征,但这种结构不能直接用于集成电路之中,在集成电路中它们的结构要复杂得多。 一块集成电路中含有百万以至千万个二极管、晶体管以及电阻、电容等元件,而且它们都是做在一个硅芯片上,即共有同一个硅片衬底。因此,如果不把它们在电学上一一隔离起来,那么各个元器件就会通过半导体衬底相互影响和干扰,以至整个芯片无法正常工作,这是集成电路设计和制造时首先要考虑的问题。为此要引入隔离技术,然后在隔离的基础上根据电路要求把相关的各元器件端口连接起来,以实现电路的功能。 在现代集成电路技术中,通常采用以下两种电学隔离方法:①通过反向PN结进行隔离;②采用氧化物(二氧化硅)加以隔离。这两种方法能较好地实现直流隔离,其缺点是都会增加芯片面积并引入附加的电容。 现以MOS管为例说明反向PN结的隔离作用。如在一个硅片衬底上有两个N沟 MOS管,其结构与PN结的隔离作用见图3~1。 图3一l PN结隔离作用 在每个N沟MOS管的源与衬底之间加一负偏压或将两者直接短路后接地,就可防止电流流向衬底。同时由于两管的漏端总是处于正电压,漏与衬底结处于反向,沟道与衬底之间也形成一反向结,因此两个MOS管之间在电学上也就被隔离。 这是MOS场效应晶体管在结构上的一个固有优点,即可以利用MOS管本身的PN结实现隔离而不需增加新的PN结。 对于双极型晶体管常采用氧化物隔离方法,即在形成三极管区域的四周构筑一隔离环,该隔离环为二氧化硅绝缘体,因而集成电路中的各个三极管之间,以及各三极管与其他元件(如电阻、电容等)之间是完全电隔离的。氧化物隔离的示意图见图3—2。图中有两个三极管,每个三极管四周被二氧化硅所包围,因而这两个三极管在电学上完全被隔离,其横截面图将示于3.3节中的图3—5。 3.2二极管的结构 用于集成电路中的二极管,其制作步骤和实际结构示于图3—3。

集成电路的种类与用途

集成电路的种类与用途 作者:陈建新 在电子行业,集成电路的应用非常广泛,每年都有许许多多通用或专用的集成电路被研发与生产出来,本文将对集成电路的知识作一全面的阐述。 一、集成电路的种类 集成电路的种类很多,按其功能不同可分为模拟集成电路和数字集成电路两大类。前者用来产生、放大和处理各种模拟电信号;后者则用来产生、放大和处理各种数字电信号。所谓模拟信号,是指幅度随时间连续变化的信号。例如,人对着话筒讲话,话筒输出的音频电信号就是模拟信号,收音机、收录机、音响设备及电视机中接收、放大的音频信号、电视信号,也是模拟信号。所谓数字信号,是指在时间上和幅度上离散取值的信号,例如,电报电码信号,按一下电键,产生一个电信号,而产生的电信号是不连续的。这种不连续的电信号,一般叫做电脉冲或脉冲信号,计算机中运行的信号是脉冲信号,但这些脉冲信号均代表着确切的数字,因而又叫做数字信号。在电子技术中,通常又把模拟信号以外的非连续变化的信号,统称为数字信号。目前,在家电维修中或一般性电子制作中,所遇到的主要是模拟信号;那么,接触最多的将是模拟集成电路。 集成电路按其制作工艺不同,可分为半导体集成电路、膜集成电路和混合集成电路三类。半导体集成电路是采用半导体工艺技术,在硅基片上制作包括电阻、电容、三极管、二极管等元器件并具有某种电路功能的集成电路;膜集成电路是在玻璃或陶瓷片等绝缘物体上,以“膜”的形式制作电阻、电容等无源器件。无源元件的数值范围可以作得很宽,精度可以作得很高。但目前的技术水平尚无法用“膜”的形式制作晶体二极管、三极管等有源器件,因而使膜集成电路的应用范围受到很大的限制。在实际应用中,多半是在无源膜电路上外加半导体集成电路或分立元件的二极管、三极管等有源器件,使之构成一个整体,这便是混合集成电路。根据膜的厚薄不同,膜集成电路又分为厚膜集成电路(膜厚为1μm~10μm)和薄膜集成电路(膜厚为1μm以下)两种。在家电维修和一般性电子制作过程中遇到的主要是半导体集成电路、厚膜电路及少量的混合集成电路。 按集成度高低不同,可分为小规模、中规模、大规模及超大规模集成电路四类。对模拟集成电路,由于工艺要求较高、电路又较复杂,所以一般认为集成50个以下元器件为小规模集成电路,集成50-100个元器件为中规模集成电路,集成100个以上的元器件为大规模集成电路;对数字集成电路,一般认为集成1~10等效门/片或10~100个元件/片为小规模集成电路,集成10~100个等效门/片或100~1000元件/片为中规模集成电路,集成100~10,000个等效门/片或1000~100,000个元件/片为大规模集成电路,集成10,000以上个等效门/片或100,000以上个元件/片为超大规模集成电路。 按导电类型不同,分为双极型集成电路和单极型集成电路两类。前者频率特性好,但功耗较大,而且制作工艺复杂,绝大多数模拟集成电路以及数字集成电路中的TTL、ECL、HTL、LSTTL、STTL型属于这一类。后者工作速度低,但输人阻抗高、功耗小、制作工艺简单、易于大规模集成,其主要产品为MOS型集成电路。MOS电路又分为NMOS、PMOS、CMOS型。 NMOS集成电路是在半导体硅片上,以N型沟道MOS器件构成的集成电路;参加导电的是电子。PMOS型是在半导体硅片上,以P型沟道MOS器件构成的集成电路;参加导电的是空穴。CMOS型是由NMOS晶体管和PMOS晶体管互补构成的集成电路称为互补型MOS 集成电路,简写成CMOS集成电路。 除上面介绍的各类集成电路之外,现在又有许多专门用途的集成电路,称为专用集成电 路。

集成电路IC知识

集成电路IC常识 中国半导体器件型号命名方法 第一部分:用数字表示半导体器件有效电极数目。 第二部分:用汉语拼音字母表示半导体器件的材料和极性 第三部分:用汉语拼音字母表示半导体器件的内型。 第四部分:用数字表示序号 第五部分:用汉语拼音字母表示规格号 日本半导体分立器件型号命名方法 第一部分:用数字表示器件有效电极数目或类型。 第二部分:日本电子工业协会JEIA注册标志。 第三部分:用字母表示器件使用材料极性和类型。 第四部分:用数字表示在日本电子工业协会JEIA登记的顺序号。 第五部分:用字母表示同一型号的改进型产品标志。 集成电路(IC)型号命名方法/规则/标准 原部标规定的命名方法X XXXXX 电路类型电路系列和电路规格符号电路封装T:TTL;品种序号码(拼音字母)A:陶瓷扁平; H:HTTL;(三位数字) B :塑料扁平; E:ECL; C:陶瓷双列直插; I:I-L; D:塑料双列直插; P:PMOS; Y:金属圆壳; N:NMOS; F:金属菱形; F:线性放大器; W:集成稳压器; J:接口电路。 原国标规定的命名方法CXXXXX中国制造器件类型器件系列和工作温度范围器件封装符号 T:TTL;品种代号C:(0-70)℃;W:陶瓷扁平; H:HTTL;(器件序号)E :(-40~85)℃;B:塑料扁平; E:ECL; R:(-55~85)℃;F:全密封扁平; C:CMOS; M:(-55~125)℃;D:陶瓷双列直插; F:线性放大器; P:塑料双列直插; D:音响、电视电路; J:黑瓷双理直插; W:稳压器; K:金属菱形; J:接口电路; T:金属圆壳; B:非线性电路; M:存储器; U:微机电路;其中,TTL中标准系列为CT1000系列;H 系列为CT2000系列;S系列为CT3000系列;LS系列为CT4000系列; 原部标规定的命名方法CX XXXX中国国标产品器件类型用阿拉伯数字和工作温度范围封装 T:TTL电路;字母表示器件系C:(0~70)℃F:多层陶瓷扁平; H:HTTL电路;列品种G:(-25~70)℃B:塑料扁平; E:ECL电路;其中TTL分为:L:(-25~85)℃H:黑瓷扁平; C:CMOS电路;54/74XXX;E:(-40~85)℃D:多层陶瓷双列直插; M:存储器;54/74HXXX;R:(-55~85)℃J:黑瓷双列直插; U:微型机电路;54/74LXXX;M:(-55~125)℃P:塑料双列直插; F:线性放大器;54/74SXXX; S:塑料单列直插; W:稳压器;54/74LSXXX; T:金属圆壳; D:音响、电视电路;54/74ASXXX; K:金属菱形; B:非线性电路;54/74ALSXXX; C:陶瓷芯片载体; J:接口电路;54/FXXX。 E:塑料芯片载体; AD:A/D转换器;CMOS分为: G:网格针栅阵列; DA:D/A转换器;4000系列;本手册中采用了: SC:通信专用电路;54/74HCXXX; SOIC:小引线封装(泛指); SS:敏感电路;54/74HCTXXX; PCC:塑料芯片载体封装; SW:钟表电路; LCC:陶瓷芯片载体封装; SJ:机电仪电路; W:陶瓷扁平。 SF:复印机电路; 一。如何鉴别IC原装、散新 在研发或学习过程中,经常需要买少量的片子,代理的质量虽然好,但是数量

集成电路中的器件结构

集成电路中的器件结构

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第3章 集成电路中的器件结构 3. 1电学隔离的必要性和方法 第2章中给出了二极管、双极型晶体管和 M0场效应晶体管的截面剖图(见图2 —14、图2— 19和图 2 — 31)。图中显示了这些器件的主要特征,但这种结构不能直接用于集成电路之中,在集成电 路中它 们的结构要复杂得多。 一块集成电路中含有百万以至千万个二极管、晶体管以及电阻、电容等元件,而且它们都是做在一 个硅芯片 上,即共有同一个硅片衬底。因此,如果不把它们在电学上一一隔离起来,那么各个 元器件就会通过半导体衬底相互影响和干扰,以至整个芯片无法正常工作,这是集成电路设计 和制造时首先要考虑的问题。为此要引入隔离技术,然后在隔离的基础上根据电路要求把相关 的各元器件端口连接起来,以实现电路的功能。 在现代集成电路技术中,通常采用以下两种电学隔离方法: ①通过反向PN 结进行隔离; ②采用氧化物(二氧化硅)加以隔离。这两种方法能较好地实现直流隔离,其缺点是 都会增加芯片面积并引入附加的电容。 现以MOSf 为例说明反向PN 结的隔离作用。如在一个硅片衬底上有两个 N 沟MOS 管, 其结构与PN 结的隔离作用见图3?1。 图3 一 I PN 结隔离作用 在每个N 沟MOS 管的源与衬底之间加一负偏压或将两者直接短路后接地, 就可防止电流 流向衬底。同时由于两管的漏端总是处于正电压,漏与衬底结处于反向,沟道与衬 底之间也形成一反向结,因此两个 MOS 管之间在电学上也就被隔离。 这是MOS 场效应晶体管在结构上的一个固有优点,即可以利用 MOSt 本身的PN 结实现 隔离而不需增加新的PN 结。 对于双极型晶体管常采用氧化物隔离方法,即在形成三极管区域的四周构筑一 隔离环,该隔离环为二氧化硅绝缘体,因而集成电路中的各个三极管之间,以及各 三极管与其他元件(如电阻、电容等)之间是完全电隔离的。氧化物隔离的示意图见 图3— 2。图中有两个三极管,每个三极管四周被二氧化硅所包围,因而这两个三极 管在电学上完全被隔离,其横截面图将示于 3. 3节中的图3—5。 3. 2二极管的结构 用于集成电路中的二极管,其制作步骤和实际结构示于图 SJQj 3—3。

IC电子元器件知识要点有哪些

IC电子元器件知识要点有哪些 1.什么是IC IC的英文全称Integrated circuit 指的就是集成电路,集成电路就是把多个电子元件制作到一个硅片上,成为一个一体化的电子元件,IC 就是集成电路。 电子元器件是电子元件和电小型的机器、仪器的组成部分,其本身常由立创商城若干零件构成,可以在同类产品中通用;常指电器、无线电、仪表等工业的某些零件,如电容、晶体管、游丝、发条等子器件的总称。常见的有二极管等。 电子元器件包括:电阻、电容器、电位器、电子管、散热器、机电元件、连接器、半导体分立器件、电声器件、激光器件、电子显示器件、光电器件、传感器、电源、开关、微特电机、电子变压器、继电器、印制电路板、集成电路、各类电路、压电、晶体、石英、陶瓷磁性材料、印刷电路用基材基板、电子功能工艺专用材料、电子胶(带)制品、电子化学材料及部品等。 2. IC的分类 (一)按功能结构分类 集成电路按其功能、结构的不同,可以分为模拟集成电路和数字集成电路两大类。

(二)按制作工艺分类 集成电路按制作工艺可分为半导体集成电路和薄膜集成电路。 膜集成电路又分类厚膜集成电路和薄膜集成电路。 (三)按集成度高低分类 集成电路按规模大小分为:小规模集成电路(SSI)、中规模集成电路(MSI)、大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)、特大规模集成电路(ULSI)。 (四)按导电类型不同分类 集成电路按导电类型可分为双极型集成电路和单极型集成电路。 双极型集成电路的制作工艺复杂,功耗较大,代表集成电路有TTL、ECL、HTL、LST-TL、STTL等类型。单极型集成电路的制作工艺简单,功耗也较低,易于制成大规模集成电路,代表集成电路有CMOS、NMOS、PMOS等类型。 (五)按用途分类 集成电路按用途可分为电视机用集成电路。音响用集成电路、影碟机用集成电路、录像机用集成电路、电脑(微机)用集成电路、电子琴用集成电路、通信用集成电路、照相机用集成电路、遥控集成电路、语言集成电路、报警器用集成电路及各种专用集成电路。

常用电路元器件及集成电路简介资料

常用电路元器件及集成电路简介 6.1电阻、电容元件简介 6.1.1产品型号的组成及各组成部分的符号意义 1.产品型号的组成 2.产品型号的组成部分的符号意义 表6-1-1 “主称”、“材料”部分的符号及意义 表6-1-2 “分类”部分的数字表示 表6-1-3 “分类”部分的字母表示

6.1.2电阻器 在电路中,电阻器是最常见的电路元件,它的种类很多。以结构形式分,有固定电阻、可调电阻和电位器,其图形符号分别如附图1-1所示。为了区别不同种类的电阻器,通常用字母和数字符号表示电阻的 类别(见附表1-1、附表1-2、附表1-3)。 固定电阻器可变电阻器电位器 热敏电阻器 1.固定电阻器 ⑴固定电阻器的分类: 按制作材料的不同可分为三大类:合金类、薄膜类、合成类。 按用途可分为6种类型:通用型、精密型、高阻型、高频型、高压型、半导体电阻。 ⑵固定电阻器的技术指标 ①标称系列值在大多数电阻器上都标有阻值,这就是电阻器的标称阻值。通用型电阻的阻值系列如表6-1-4所示。选用电阻时,应在标称值系列中选择,电阻的标称值为表中数值乘以10n (n为正、 负整数)。 ②额定功率电阻器的额定功率也有标称值(见表6-1-5),选用电阻时,其标称功率应是实际电 路功率的1.5~2.0倍。 ③精度(允许)误差电阻器的实际值与标称值往往不完全符合,它们之间的相对误差值称为电阻 的精度误差。电阻精度的允许误差表示方法见表6-1-6。 表6-1-4 电阻器阻值标称系列值

表6-1-5 电阻器额定功率标称系列值 表6-1-6 电阻允许误差档次的符号表示法 ⑶电阻器的标志方法 ①文字符号直标法 电阻的类别:如表6-1-1、6-1-2、6-1-3所示。 标称阻值:阻值电位为Ω,KΩ,MΩ(通常“Ω”不标出)。 精度误差:普通电阻误差等级分别用Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ表示+5%,+10%、+20%,精密电阻的误差等 级的符号表示方法见表6-1-6。 ②色环标志法 色环标志电阻可分为四环、五环标志方法。其中五环色标法常用于精密电阻,靠近电阻的腿端为第一色环,依次为第二、三……色环,不同的环次和不同的颜色表示不同的含义。色环颜色所代表 的数值和含义如图6-1-2和表6-1-7所示。 (a)(b)

最新常用电路元器件及集成电路简介

常用电路元器件及集成电路简介

常用电路元器件及集成电路简介 6.1电阻、电容元件简介 6.1.1产品型号的组成及各组成部分的符号意义 1.产品型号的组成 2.产品型号的组成部分的符号意义 表6-1-1 “主称”、“材料”部分的符号及意义 表6-1-2 “分类”部分的数字表示

表6-1-3 “分类”部分的字母表示 6.1.2电阻器 在电路中,电阻器是最常见的电路元件,它的种类很多。以结构形式分,有固定电阻、可调电阻和电位器,其图形符号分别如附图1-1所示。为了区别不同种类的电阻器,通常用字母和数字符号表示电阻的 类别(见附表1-1、附表1-2、附表1-3)。 固定电阻器可变电阻器电位器 热敏电阻器 1.固定电阻器 ⑴固定电阻器的分类: 按制作材料的不同可分为三大类:合金类、薄膜类、合成类。 按用途可分为6种类型:通用型、精密型、高阻型、高频型、高压型、半导体电阻。 ⑵固定电阻器的技术指标 ①标称系列值在大多数电阻器上都标有阻值,这就是电阻器的标称阻值。通用型电阻的阻值系列如表6-1-4所示。选用电阻时,应在标称值系列中选择,电阻的标称值为表中数值乘以10n (n为 正、负整数)。

②额定功率电阻器的额定功率也有标称值(见表6-1-5),选用电阻时,其标称功率应是实际电 路功率的1.5~2.0倍。 ③精度(允许)误差电阻器的实际值与标称值往往不完全符合,它们之间的相对误差值称为电阻 的精度误差。电阻精度的允许误差表示方法见表6-1-6。 表6-1-4 电阻器阻值标称系列值 表6-1-5 电阻器额定功率标称系列值 表6-1-6 电阻允许误差档次的符号表示法 ⑶电阻器的标志方法

集成电路版图培训

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2.CMOS工艺中的层次 3.基本器件和单元的版图结构 4.Stdcell 标准单元 5.数字电路 6.模拟电路 7.模拟电路高级技能

电路设计版图设计设计验证DRC/LVS Virtuoso Schematic Editor Virtuoso Layout Editor Calibre PVS

Virtuoso Design Environment The framework that provides a common access and database for front- and back-end custom design tools Command Interpreter Window (CIW) The design environment interface used to access many Virtuoso applications CWD Current working directory (from which virtuoso is started) Text entry field A line buffer in the CIW that accepts commands written in the SKILL programming language Cyclic field Selectable options in an entry field, denoted by a small down arrow Library A collection of design cells represented by cellviews Library Manager A Cadence? tool to manage a design library Cell A basic unit of a design hierarchy described by cellviews Cellview A specific view of a cell (schematic, symbol, text, or layout) Instance A uniquely named placement of a cell symbol onto a schematic Bindkey A predefined key on the keyboard that applies a preselected command

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