N
I Q
1 N
Ik
Q
k 1
假设在掩模面的光强分布是均匀为1,每束光的相对光 强为1/N
➢ 各种模型接近式紫外光刻模拟结果
5μm*5μm方孔
半径2μm,45o角的扇形在不同间隙下的模拟结果
2 μm线宽的十字形的模拟结果
齿轮模型,参数:齿数8,分度圆直径16μm, 齿顶圆直径20μm
MEMS微结构紫外光刻仿真
Spline surface
Two adjacent patches joined with C1 continuity.
They share common boundary points (◦).
control vectors (−→) and(···→)
Irregular closed mesh
I (z,t) I (z,t)[AM (z,t) B] z
M (z,t) I (z,t)M (z,t)C t
其中z为从胶表面垂直向下的深度;t表示已曝光的时间;I和 M分别表示在该深度该时刻的光照分布和光致化合物的归一 化浓度分布;A、B、C为光刻胶的曝光参数,它们可以通过 对光透过率曲线T(t)的测量后计算得到。
特点
照明光源、掩模与光刻胶之间的间隙、 光刻胶的厚度都得到了较为准确的处理和考虑
(ICIA2007;中国科技大学学报2007 )
接近式光刻计算机模拟
➢ 模拟模型建立
照明系统示意图
蝇眼透镜及点光源阵列
基于标量衍射理论的点光源阵列 衍射光场非相干叠加模型
➢ 对每束光采用基尔霍夫衍射理论
光刻胶表面X0Y0内一点Q(x0,y0)的复振幅分布
Ao内光强值大于 阈值的点数
➢ 校正策略