材料合成与制备考试题
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材料化学合成与制备复习题1.名词解释a.沉淀法: 液相沉淀法是向水溶液中投加某种化学物质,使它与水中的溶解物质发生化学反应,生成难溶于水的沉淀物。
b.直接沉淀法:在金属盐溶液中直接加入沉淀剂,在一定条件下生成沉淀析出,沉淀经洗涤、热分解等处理工艺后得到超细产物。
c.共沉淀法:在含有多种阳离子的溶液中加入沉淀剂,在各成分均一混合后,使金属离子完全沉淀,得到沉淀物再经热分解而制得微小粉体的方法。
d.均匀沉淀:一般沉淀过程是不平衡的,但如果控制溶液中沉淀剂的浓度,使之缓慢增加,则使溶液中的沉淀处于平衡状态,且沉淀能在整个溶液中均匀出现,这种方法称为均相沉淀。
e.水热法:水热法又称热液法,属液相化学法的范畴。
是指在密封的压力容器中,以水为溶剂,在高温高压的条件下进行的化学反应。
水热反应依据反应类型的不同可分为水热氧化、水热还原、水热沉淀、水热合成、水热水解、水热结晶等。
其中水热结晶用得最多。
f.均匀形核:均匀形核就是不在杂质或者器壁结晶,而是直接通过液体本身的相起伏产生临街晶核从而生长晶体的结晶过程。
g.非均匀形核:非均匀形核就是依靠液体中的固体杂质或器壁的表面能进行的结晶。
通常,非均匀晶核比均匀形核容易进行。
h.溶度积原则:即在一定条件下,在含有难溶盐MnNn(固体)的饱和溶液中,各种离子浓度的乘积为一常数,称为溶度积常数,记为LMnNn MmNn == mM n+ + nNm-溶度积常数 LMmNn=[Mn+]m•[Nm-]ni.软团聚:软团聚主要是由颗粒间的范德华力和库仑力所致,所以通过一些化学的作用或施加机械能的方式,就可以使其大部分消除.j.硬团聚:一般是指颗粒之间通过化学键力或氢键作用力等强作用力连接形成的团聚体。
k.水热;l.溶剂热:将水热法中的水换成有机溶剂或非水溶媒(例如:有机胺、醇、氨、四氯化碳或苯等),采用类似于水热法的原理,以制备在水溶液中无法长成,易氧化、易水解或对水敏感的材料。
材料合成与制备期末复习题第零章绪论1.材料合成:材料合成是指促使原子或分子构成材料的化学或物理过程;2.材料制备:材料制备是指研究如何控制原子与分子使其构成有用的材料,但材料制备还包括在更为宏观的尺度上控制材料的结构,使其具备所需的性能和使用效能。
3.材料合成与制备的最终目标是:制造高性能、高质量的新材料以满足各种构件、物品或仪器等物件的日益发展的需求。
4.材料合成与制备的发展方向:材料的高性能化、复合化、功能化、低维化、低成本化、绿色化;5.影响热力学过程自发进行方向的因素:(1)能量因素;(2)系统的混乱度因素; 6.隔离系统总是自发的向着熵值增加的方向进行。
7.论述反应速率的影响因素:(1)浓度对反应速率的影响:对于可逆反应,增加反应物浓度可以使平衡向产物方向移动,因此,提高反应物浓度是提高产率的一个办法,但如果反应物成本很高,将反应物之一在生成后立即分离出去或转移到另一相中去,也是提高反应产率的一个很好的办法。
对于有气相的反应,如果反应前后气体物质的反应计量数不等,则增加压力会有利于反应向气体计量数小的方向进行。
另外,对于多个反应同时进行的反应,则应按主反应的情况来控制反应物的配比;(2)温度对反应速率的影响:对于一个可逆反应,正反应吸热,则逆反应就放热;如果正反应放热,则逆反应就吸热,升高温度有利于反应向吸热方向进行,不利于放热反应;对于放热反应,用冷水浴或冰浴使其降温的办法有利于反应的进行,但影响反应速率。
实际生产中,要综合考虑单位实际内的产量和转化率同时进行;(3)溶剂等对反应速率的影响:溶剂在反应中的作用:一是提供反应的场所,二是发生溶剂化效应。
溶剂最重要的物理效应即溶剂化作用,化学效应主要有溶剂分子的催化作用和容积分子作为反应物或产物参与了化学反应。
若溶剂分子与反应物生成不稳定的溶剂化物,可使反应的活化能降低,加快反应速率;若生成稳定的溶剂化物,则使反应活化能升高,降低反应速率;若生成物与溶剂分子生成溶剂化物,不论它是否稳定,都会使反应速率加快。
仅供参考,1.单晶:即结晶体内部的微粒在三维空间呈有规律地、周期性地排列。
或者说晶体的整体在三维方向上由同一空间格子构成,整个晶体中质点在空间的排列为长程有序。
2.非晶:组成物质的原子、分子的空间排列不呈周期性和平移对称性,晶态的长程有序受到破坏,仍然保持形貌和组分的某些有序特征而具有短程有序,这样一类特殊的物质状态统称为非晶态。
3.真空蒸镀:真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华,使之在工件或基片表面析出的过程。
4.溅射成膜:溅射是指荷能离子轰击靶材,使靶材表面原子或原子团逸出的现象。
逸出的原子在工件表面形成与靶材表面成分相同的薄膜。
这种制备薄膜的方法称为溅射成膜。
5.化学气相沉积:当形成的薄膜在基片表面与其他组分发生化学反应,获得与原成分不同的薄膜材料,这种存在化学反应的气相沉积称为化学气相沉积。
6.三温度法:在制备薄膜时,必须同时控制基片和两个蒸发源的温度,所以也称三温度法。
7.超晶格薄膜:超晶格的概念始于半导体超晶格,半导体超晶格是将两种或两种以上组分不同或导电类型不同的极薄半导体单晶薄膜交替地外延生长在一起形成的周期性结构材料。
8.热等静压:热等静压是用惰性气体作为传递压力的介质,将原料粉末压坯或将装入包套的粉料放入高压容器中,降低烧结温度,避免晶粒长大,获得高密度、高强度的陶瓷材料。
9.原位凝固:原位凝固就是指颗粒在悬浮液中的位置不变,靠颗粒之间的作用力或者悬浮体内部的一些载体性质的变化,从而使悬浮体的液态转变为固态。
10.巨磁阻薄膜:材料的电阻率将受材料磁化状态的变化而呈现显著的变化。
11.溶胶-凝胶法:是指有机或无机化合物经过溶液、溶胶、凝胶而固化,在经过高温热处理而制成氧化物或其他化合物固体的方法。
12.LB薄膜:是一种超薄有机薄膜,即在水-气界面上将不溶解有机分子或生物分子加以紧密有序排列,形成单分子膜,然后再转移到固体表面上。
1.试说明再结晶驱动力。
答:用应变退火方法生长单晶,通常是通过塑性变形,然后在适当的条件下加热等温退火,温度变化不能剧烈,结果使晶粒尺寸增大。
材料合成制备考试复习资料终极版work Information Technology Company.2020YEAR材料合成:指把各种原子、分子结合起来制成材料所采用的各种化学方法和物理方法,一般不含工程方面的问题。
材料制备:制备一词不仅包含了合成的基本内涵,而且包含了把比原子、分子更高一级聚集状态结合起来制成材料所采用的化学方法和物理方法。
(一是新的制备方法以及新的制备方法中的科学问题,二是各种制备方法中遇到的工程技术问题)材料加工:是指对原子、分子以及更高一级聚集状态进行控制而获得所需要的性能和形状尺寸(以性能为主)所采用的方法(以物理方法为主).材料的分类:用途:结构材料,功能材料。
物理结构:晶体材料、非晶态材料和纳米材料。
几何形态:三维二维一维零维材料。
发展:传统材料,新材料。
按属性分:以金属健结合的金属材料,以离子键和共价键为主要键合的无机非金属材料,以共价健为主要键合的高分子材料,将上述三种材料进行复合,以界面特征为主的复合材料,钢铁、陶瓷、塑料和玻璃钢分别为这四种材料的典型代表。
新材料特点:品种多式样多,更新换代快,性能要求越来越功能化、极限化复合化、精细化。
新材料主要发展趋势:1结构材料的复合化2信息材料的多功能集成化3低维材料迅速发展4非平衡态(非稳定)材料日益受到重视。
单晶体的基本性质:均匀性;各向异性;自限性;对称性;最小内能和最大稳定性。
晶体生长类型:固相-固相平衡的晶体生长,液相-固相平衡的晶体生长,气相-固相平衡的晶体生长。
晶体生长可以分为成核和长大两个阶段。
成核过程主要考虑热力学条件。
长大过程则主要考虑动力学条件。
在晶体生长过程中,新相核的发生和长大称为成核过程。
成核过程可分为均匀成核和非均匀成核。
过冷度——每一种物质都有自己的平衡结晶温度或者称为理论结晶温度,但是,在实际结晶过程中,实际结晶温度总是低于理论结晶温度的,这种现象称为过冷现象,两者的温度差值被称为过冷度,它是晶体生长的驱动力。
中南林业科技大学课程考试试卷课程名称: 无机材料合成与制备;试卷编号: A 卷;考试时间:100分钟一、是非题(1分×10=20分,选全对或全错,计零分)1微波有很强的穿透力,微波加热时能深入到样品内部,其燃烧波首先从样品的表面向内部传播,最终完成微波烧结。
( × ) 2插层反应的特征是,要有一定的结构开放性,能允许外来原子或离子易于扩散进或逸出。
( √ ) 3用五个9纯度的晶体Se ,在氩气下(0.8ml/s),球与金属质量比在10的条件下球磨5h 就转变成非晶Se 。
( √ )4大块非晶合金的制备思路是均匀形核的推迟和非均匀形核的避免。
( √ )5磁控溅射可显著地提高溅射速率,可控制二次电子的运动,避免高能粒子对衬底的轰击,降低衬底温度,但靶材的利用率不高,一般低于40%。
( √ )6直接凝固成型是依靠有机单体交联形成高聚物,温度诱导絮凝成型是依靠分散剂的分散特性。
( × ) 7 Au 衬底上长Pb 单晶膜一般是薄膜的层状生长模式,在Si 表面沉积Bi 、Ag 一般是薄膜的层岛生长模式。
( √ )8反应温度低于200℃的固相反应为低热固相反应,反应温度介于200~600℃之间的固相反应为中热固相反应,反应温度高于600℃的固相反应为高热固相反应。
( × )9水热与溶剂热合成的体系一般处于非理想非平衡状态,在高温高压条件下,水或其它溶剂处于亚临界或超临界状态,反应活性提高。
( √ )10为了减少污染和节约用水,镉黄颜料的工业生产采用低热固相反应法,即镉盐和硫化钠的固态混合物在球磨机中球磨2~4小时。
( √ )11时间-温度-结晶的“3T 曲线”头部的顶点对应了析出晶体体积分数为 10-6时的最短时间。
( √ ) 12分子束外延是以蒸镀为基础的超薄层材料生长新技术,是超真空(10-8Pa)条件下的精控蒸发技术。
( √ ) 13沉积温度较高,原子的扩散得以进行得比较充分,形态T 和形态3型的生长称为高温热激活型生长。
第一章1、1 溶胶凝胶1、什么是溶胶——凝胶?答:就是用含高化学活性组分的化合物作前驱体,在液相下将这些原料均匀混合,并进行水解、缩合化学反应,在溶液中形成稳定的透明溶胶体系,溶胶经陈化胶粒间缓慢聚合,形成三维空间网络结构的凝胶,凝胶网络间充满了失去流动性的溶剂,形成凝胶。
2、基本原理(了解)3、设备:磁力搅拌器、电力搅拌器4、优点:该方法制备块体材料具有纯度高、材料成分易控制、成分多元化、均匀性好、材料形状多样化、且可在较低的温度下进性合成并致密化等5、工艺过程:自己看6、工艺参数:自己看2、1水热与溶剂热合成1、水热法:是指在特制的密闭反应器(高压釜)中,采用水溶液作为反应体系,通过对反应体系加热、加压(或自生蒸气压),创造一个相对高温、高压的反应环境。
2、溶剂热法:将水热法中的水换成有机溶剂或非水溶媒(例如:有机胺、醇、氨、四氯化碳或苯等),采用类似于水热法的原理,以制备在水溶液中无法长成,易氧化、易水解或对水敏感的材料。
3、优点:a、在有机溶剂中进行的反应能够有效地抑制产物的氧化过程或水中氧的污染;b、非水溶剂的采用使得溶剂热法可选择原料范围大大扩大;c、由于有机溶剂的低沸点,在同样的条件下,它们可以达到比水热合成更高的气压,从而有利于产物的结晶;d、由于较低的反应温度,反应物中结构单元可以保留到产物中,且不受破坏。
同时,有机溶剂官能团和反应物或产物作用,生成某些新型在催化和储能方面有潜在应用的材料4、生产设备:高压釜是进行高温高压水热与溶剂热合成的基本设备;(分类自己看),高压容器一般用特种不锈钢制成,5、合成工艺:选择反应物核反应介质——确定物料配方——优化配料顺序——装釜、封釜——确定反应温度、压力、时间等试验条件——冷却、开釜——液、固分离——物相分析6、水热与溶剂热合成存在的问题:1、无法观察晶体生长和材料合成的过程,不直观。
2、设备要求高耐高温高压的钢材,耐腐蚀的内衬、技术难度大温压控制严格、成本高。
化学材料的成型与制备技术化学材料的成型与制备技术是指将化学原料通过一定的工艺手段加工成所需形状和尺寸的过程。
在这个过程中,涉及到多种物理和化学反应,常用的成型与制备技术包括:1.合成:通过化学反应将原料转化为目标产品。
常用的合成方法有溶液聚合、乳液聚合、悬浮聚合等。
2.干燥:将合成得到的湿态物料通过热量和通风等手段除去水分,得到干燥的固体产品。
常用的干燥方法有流化床干燥、滚筒干燥、喷雾干燥等。
3.研磨:将干燥后的固体物料通过机械研磨的方式达到细化和均匀分散的目的。
常用的研磨设备有球磨机、振动磨、搅拌磨等。
4.混合:将不同物料按照一定比例进行机械混合,以得到均匀的复合材料。
常用的混合设备有双螺杆挤出机、单螺杆挤出机、捏合机等。
5.成型:将混合好的物料通过挤出、压延、模压等手段制成所需形状和尺寸的产品。
常用的成型方法有挤出成型、压延成型、模压成型等。
6.烧结:将成型后的物料通过高温加热使其发生物理和化学变化,从而得到致密的固体产品。
常用的烧结方法有气氛烧结、高温烧结、等离子烧结等。
7.后处理:对成型烧结后的产品进行切割、打磨、涂装等工艺处理,以满足产品的性能和外观要求。
以上是化学材料成型与制备技术的基本流程和常用方法。
在实际生产中,根据不同的原料、产品性能和应用领域,可能还会涉及到其他特殊的成型与制备技术。
习题及方法:1.习题:合成聚乙烯的反应原理是什么?解题方法:回顾课本中关于聚乙烯合成的相关知识,找出聚乙烯的合成反应原理。
答案:聚乙烯的合成原理是通过乙烯单体在催化剂的作用下发生加成聚合反应,生成聚乙烯链节。
2.习题:在干燥过程中,如何选择合适的干燥方法?解题方法:参考教材中关于干燥方法的选择依据,分析不同干燥方法适用的场景。
答案:选择干燥方法时,需要考虑物料的性质、干燥温度、干燥速率、能耗等因素。
例如,对于热敏性物料,可以选择流化床干燥;对于颗粒状物料,可以选择滚筒干燥。
3.习题:为什么在研磨过程中需要控制物料的湿度?解题方法:分析研磨过程中物料湿度对研磨效果的影响。
无机合成与制备化学题目一、填空题1.合成反应中常用作为反应能否进行的依据, 一般当其值在范围内时,表明可用于合成反应。
2.温度是沸石合成中重要的因素之一,高水含量的沸石一般要求,而低水含量的沸石一般要求。
3.碱金属与液氨反应后生成溶液。
该反应速率一般很慢,通常需要作为催化剂。
4.除水干燥剂的作用方式有和两种。
沸石分子筛属于型干燥剂,与其他脱水剂相比,其优点是。
5.固相化合物的合成反应中,其反应速度与产物层的厚度成比,为缩短反应时间,通常将阳离子制成,这种方法也叫做合成法。
6.金属簇合物与一般多核化合物的区别在于和。
7.合成反应中常用的调节反应速率的手段有,,,和。
8.使用干冰作为低温源时,为了提高致冷效果,需加入一些,常用的有。
9.高温固相合成反应中,1000℃以上的电热材料不能选用。
在实验室中通常是用法来制备的。
10.O311.在合成具有强还原性的特殊低价态化合物时,对溶剂和气氛的要求很高,这种要求一般是和,这是由于的原因。
12.用水热法合成Na-Si-Al-O 分子筛时,产物的孔径与有关,一般在时孔径较大。
13.化学气相沉积是利用在气相或气固界面上反应生成的技术。
14.一些物质本身在高温下会气化分解然后在沉积反应器稍冷的地方反应沉积生成等形式的产物。
15.金属有机化合物通常指含有的化合物,在许多方面B、Si、P和As元素有机化学类似于相关的金属有机化学。
16.主族金属和碳键的形成可大致分类为:、、、。
17.离子迁移产生的微波能损失与被解离的、和有关,并受离子与溶剂分子之间相互作用的影响。
18.获得等离子体的方法和途径是多种多样的,微波等离子体是靠的办法获得的。
19.在合成配位化合物时,加入辅助配体的作用主要有:,。
20.由三氯化铬与乙酰丙酮水溶液合成配合物时,在反应液中加入尿素的目的是。
21.分子筛表面具有,因而对极性分子有很大的亲和力。
22.延伸固体按连续的化学键作用的空间分布可分为___________、___________、___________。
一、判断题(对填“T”,错填“F”)1. 高温超导体是指能在室温以上温度工作的超导材料。
()2. 制备多元金属氧化物粉体的甘氨酸法比柠檬酸盐燃烧法的化学反应更加剧烈。
()3. 火焰辅助的超声喷雾热解工艺(FAUSP)也是制备细粉的方法,需要人工点火。
()4. 陶瓷粉体的二次粒子尺寸总是大于一次粒子尺寸。
()5. 溶胶-凝胶法制备气凝胶,必须在真空条件下进行。
()6. 透明有机玻璃可以用甲基丙烯酸甲酯为原料通过沉淀聚合反应制备。
()7. 利用乙酰丙酮配位高价金属的醇盐,可以提高醇盐的水解能力。
()8. 微波CVD就是利用微波加热衬底的化学气相沉积()9. 静电喷雾沉积(ESD)技术可以被用来生长致密的外延薄膜()10.人们可以通过原子操纵技术来大量制备超晶格材料()11.高分子聚合反应是一个熵增过程()12.Schetman获得诺贝尔主要原因是他发现了宏观材料可以有10次对称轴()13.溶胶-凝胶法制备气凝胶,必须在真空条件下()14.透明有机玻璃可以用甲基丙烯酸甲酯为原料通过沉淀聚合反应制备()15.利用乙酰丙酮配位高价金属醇盐,可以提高醇盐的水解能力()16.MOF就是金属氟氧化物的简称()17.乳液聚合的乳化剂通常是表面活性剂()18.使用模板试剂(硬模板,软模板,牺牲模板)是制备无机空心球的必要条件()19科学理论是无可争辩的()20.制备多元金属氧化物粉体的柠檬酸盐燃烧法需要人工点火引发反应()21.人们可以通过原子操纵技术来精细控制反应()22.高分子聚合反应是吸热反应()23.对于面心立方(fcc)晶体,因为晶体形状以立方体能量最低,所以最易生长出立方形状的单晶体()24.透明有机玻璃可以用甲基丙烯酸甲酯为原料通过均相聚合反应制备()25.利用螯合剂配位高价金属的醇盐,可以提高醇盐的反应活性()26.固相反应常用来制备陶瓷块材,但是不能用来制备陶瓷粉体()27.高分子聚合反应总是放热的()28.微弧氧化技术主要被用来制备金属氧化物纳米粉体()29.制备薄膜材料的溅射技术属于物理制备工艺()30.悬浮聚合法的悬浮剂通常都是表面活性剂()31.伟大的科学理论都是复杂而奥妙无穷的()32.制备多元金属氧化物粉体的甘氨酸法本质上是一种放热氧化还原反应,其中甘氨酸是氧化剂,硝酸盐是还原剂()33.超声喷雾沉积法制备薄膜工艺中,产生的雾滴是带有电荷的()34.人们可以通过原子操纵技术来精确发动基元反应()35.高分子聚合反应总是熵增加的化学反应()36.金属玻璃是透明的金属材料()37.电沉积法制备泡沫镍工艺流程中采用了无电镀步骤来生长外延镍薄膜()38.利用乙酰丙酮配位高价金属的醇盐,可以降低醇盐的水解能力()39.制备薄膜材料的真空蒸发技术属于物理制备工艺()40.采用急冷工艺是制备金属玻璃的关键()41.L-B膜技术可以用来制备金属氧化物纳米棒阵列()42.控制纳米金属粒子的取向生长时,包覆剂不能是简单的阴离子(如Br-)()43.生长螺旋碳纳米管时,使用含铁催化剂是必要条件()44.量子点粒径越大,其发射的荧光波长越短。
《材料合成与制备》思考题1.介绍真空蒸镀(物理成膜)与化学气相沉积制备薄膜的工艺过程及特点2.叙述定向凝固及提拉法制备单晶材料的工艺过程3.非晶态合金的制备方法有哪些?简述之;简述记忆合金马氏体的相变原理4.插层纳米复合材料的结构特点如何?介绍两种粘土插层方法(溶液插层与熔融插层)及聚酰亚胺基插层复合材料的合成、结构与性能特点5.叙述自蔓延高温合成法(SHS)的化学反应原理及自蔓延传播原理;介绍SHS材料制备法的特点及两种相应技术(制粉技术、致密化技术)6.简述机械研磨法、化学气相沉积法及还原化合法三种制备粉末的特点及工艺过程7.结构陶瓷的成形及烧结有哪些方法?简述之8.(1)介绍三种生物活性玻璃和玻璃陶瓷材料体系的特点;(2)简单介绍磷酸钙生物陶瓷及制备羟基磷灰石的三种方法(水溶液法、固相反应法及水热法)9.铁氧体材料有哪些种类?简述之;试述粉末冶金法制备铁氧体材料的工艺过程《材料合成与制备》课程主要参考教材材料工程基础,周美岭等,北京工大出版社薄膜材料――制备技术、原理及应用,唐伟忠,冶金工业出版社无机材料合成,刘海涛等,化工出版社材料合成与制备方法,曹茂盛,哈工大出版社纳米材料制备技术,王世敏,化工出版社纳米复合材料,徐国财,化工出版社聚合物――无机纳米复合材料,柯扬船,化工出版社高性能结构陶瓷及其应用,肖汉宁,化工出版社特种陶瓷,王零森,中南工大出版社粉末冶金与陶瓷成型技术,刘军,化工出版社结构陶瓷材料及其应用,张玉军,化工出版社功能陶瓷材料,曲远方,化工出版社材料制备科学与技术,朱世富,高等教育出版社材料制备技术,吴健生,上海交大出版社新型材料与材料化学,师昌绪,科学出版社。
材料合成制备By Maximus第一章1合成:指促使原子、分子结合而构成材料的化学过程制备:研究如何控制原子与分子使之构成有用的材料,还包括在更为宏观的尺度上或以更大的规模控制材料的结构,使之具备所需的性能和适用效能,即包括材料的加工、处理、装配和制造。
2 合成与制备就是建立原子、分子的新排列,从微观到宏观尺度对结构予以控制,从而制造材料和零件的过程3 单晶体定义:晶体内部的原子呈有规律地、周期性地排列,或者说晶体的整体在三维方向上由同一空间格子构成,整个晶体中质点在空间的排列为长程有序4 再结晶:冷变形后的金属加热到一定温度之后,在变形基体中,重新生成无畸变的新晶粒的过程叫再结晶。
再结晶包括成核与长大两个基本过程。
5 退火是将材料加热至某一温度,保温后随炉缓慢冷却以获得近于平衡状态组织的热处理工艺。
其主要目的是均匀材料的化学成分及组织,消除内应力和加工硬化6 退火过程三个阶段:回复,再结晶,晶粒长大7 回复:1.回复阶段不涉及大角度晶面的迁动;2.通过点缺陷消除、位错的对消和重新排列来实现;3.过程是均匀的。
8 使结晶产生应变不是自发过程,退火是自发过程9 回复测量方法:量热法,测量回复过程硬度,X射线10 组织结构及规则聚集排列状态类似于天然纤维或织物的结构和纹理,故称之为织构11 二次再结晶:将再结晶完成后的金属继续加热至某一温度以上,或更长时间的保温,会有少数晶粒优先长大,成为特别粗大的晶粒,而其周围较细的晶粒则逐渐被吞食掉,整个金属由少数比再结晶后晶粒要大几十倍甚至几百倍的特大晶粒组成烧结就是加热压实多晶体,烧结过程中晶粒长大的推动力主要是由残余应变、反向应变和晶粒维度效应等因素引起。
烧结仅用于非金属材料中的晶粒长大12 影响晶粒长大的因素:温度,杂质与合金元素,第二相粒子,相邻晶粒的位向差13 固-固:优点:能在较低温度下生长;生长晶体的形状预先固定缺点:难以控制成核以形成大晶粒14 整个系统的吉布斯自由能可能存在几个极小值,其中最小的极小值相当于系统的稳定态,其它较大的极小值相当于亚稳态。
一名词解释1共沉淀法沉淀法通常是在溶液状态下将不同化学成分的物质混合,在混合液中加人适当的沉淀剂制备前驱体沉淀物,再将沉淀物进行干燥或锻烧,从而制得相应的粉体颗粒。
共沉淀法是指在溶液中含有两种或多种阳离子,它们以均相存在于溶液中,加入沉淀剂,经沉淀反应后,可得到各种成分的均一的沉淀,它是制备含有两种或两种以上金属元素的复合氧化物超细粉体的重要方法。
2水热合成法水热与溶剂热合成:在一定温度(100~1000℃)和压力(1~100MPa)条件下,利用水溶液中物质化学反应所进行的合成。
在亚临界和超临界水热条件下,由于反应处于分子水平,反应性提高,因而水热反应可以替代某些高温固相反应。
又由于水热反应的均相成核及非均相成核机理与固相反应的扩散机制不同,因而可以创造出其它方法无法制备的新化合物和新材料。
它的优点:所的产物纯度高,分散性好、粒度易控制。
3化学气相沉积气相沉积:利用气态或蒸气态的物质在气相或气固界面上反应生成固态沉积物的一类技术1物理气相沉积(Physical Vapor Deposition ,简称PVD):物理气相沉积是通过蒸发,电离或溅射等过程,产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。
物理气象沉积方法有真空镀,真空溅射和离子镀三种,目前应用较广的是离子镀。
如真空蒸发法、溅射法、离子镀等“物理气相沉积” 通常指满足下面三个步骤的一类薄膜生长技术:A所生长的材料以物理的方式由固体转化为气体B生长材料的蒸汽经过一个低压区域到达衬底C蒸汽在衬底表明上凝结,形成薄膜2化学气相沉积(Chemical vapor deposition,简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术。
它本质上属于原子范畴的气态传质过程。
(一种或数种反应气体在热、激光、等离子体等作用下发生化学反应析出超微粉的方法)。
4 Ostwald RipeningOstwald ripening是一种材料生长的机理,简单点说就是材料从分子阶段开始,首先形成一定尺寸的晶核,然后所有的分子都依附于晶核生长,这个阶段不会再形成新的晶核了,只是晶核生长的越来越大,就是“从液态转变为固态的过程首先要成核,然后生长,这个过程叫晶粒的成核长大。