扩散炉反应管压力自平衡系统的设计
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材料制备工艺与设备 电子工业专用设备 lid
扩散炉反应管压力自平衡系统的设计
李克,郭立,毛朝斌,陈特超,李健志
(中国电子科技集团公司第四十八研究所,国家光伏装备工程技术研究中心,长沙,4101 1 1)
摘 要:对晶体硅太阳能电池片生产用扩散炉反应管压力平衡系统的要求及原理进行了阐述. 由于反应管内气流变化对扩散效果影响很大,本系统根据实际使用经验,对工艺管内压力进行检
测,在外围尾气排放不稳定的条件下,对反应管内气体排放进行调节,从而控制管内压力 使管内
流速均匀.达到好的扩散效果。 关键词:扩散;反应管压力自平衡:尾气控制
中图分类号:TN305.4 文献标识码:B 文章编号:1004—4507(2012)07.0032—04
The Process Tube Pressure Control System Design in Diffusion
Furnace for Crystalline Silicon Cells
LI Ke,GU0 Li,MAO Chaobin,CHEN Techao,LI Jianzhi
(The 48th Research Institute ofCETC,Changsha 410111,China)
Abstract:The requirements and principle of the process tube pressure control system in diffusion
furnace for crystalline silicon cell are introduced.because the flow changes in tube is very large to diffusion effect,according to the practical experience,The system tests the process tube pressure and
regulates the exhaust under peripheral system instability,thereby control the pressure in the tube,the
tube flow evenly,achieve good diffusion effect.
Keywords:Diffusion;Process tube pressure control system;Exhaust control;
扩散炉是晶体硅电池生产线前道工序的重 要工艺设备之一,其主要用途是对半导体进行掺
杂,形成PN结。它是在高温条件下将掺杂材料
扩散进硅片,从而改变和控制半导体内杂质的类
型、浓度和分布,以便建立起不同的电特性区域。
影响扩散质量的主要因素有:工艺时间、温度均 匀性、气流稳定性,其中管内的气体流动对工艺
收稿日期:2012-05.21 影响非常大。由于工厂所有设备酸性气体排放都
是汇总到一根总排废管道内,所以对每台设备来
说,外围抽风是不稳定的,管内压力不均,管内的
气流越不均衡,出现管内前后端压力偏差大,电
池片方块电阻片问与批间差别大的现象,炉口部
分经常出现电阻突变的现象:片问电阻变小,片
内电阻出现上端高,下端低的不均匀现象,所以 - 电子工业苣用设备 材料制备工艺与设备
有必要对管内气流进行控制,使进入和排出的气 流保证一定比例,确保管内压力均匀。而扩散后
的废气多为酸性气体等腐蚀性强的物质,所以对 管内压力控制时,排放和检测等都应该注意防腐
处理[”。
1系统要求及原理
扩散设备的反应管一般是尾部进气,气体流
量随工艺过程变化,反应完的气体从管口部分的
抽气管排走,由于外围接的抽气管道抽风不稳定,
以及工艺过程气体流量变化,管内气流流速,压力
不稳定[2J。在反应管内部取一测试点,检测内部压 力变化,根据压力变化调节尾部抽气量来稳定管
内压力,由于排除的都是腐蚀性气体等物质,不适
宜在管路上直接采用蝶阀等方式,采用间接调节
的方式,在排气管路上增加一路进气,根据压力变
化,向排废管冲入一部分气体,消除抽风变动对反
应管内气流的变化,使反应管内的压力达到一个 平衡。
2系统设计与实现
设计原理如图1所示,工艺气体从反应管尾
部中心进入,反应尾气管伸进反应管前端抽走反
应残余尾气,进入冷凝尾气瓶后,部分气体冷凝,
部分排到排废管道内,排废管道接厂外围抽风系
N2/CDA lN2 I ' ●统。对此,在反应管尾部引出一根1/4”小管,一端
接到反应管内,一端接到压差传感器,同时通过浮
子流量计通入一定流量的N:对压差传感器保护
(稀释),检测管内相对压力变化,压差传感器的另
外一端接管到反应管炉口相对比较稳定的压力
点。压差传感器将信号反馈给压控仪,压控仪输出 信号控制MFC流量(向冷凝尾气瓶冲气),同时
PC监控到压控仪的实际输出值。当检测相对压力 有变化时,压控仪控制MFC增大或减少流量,使
抽走的尾气总量不变的情况下,改变从反应管抽
出的尾气量,从而使反应管内压力达到设定值,保 证一定的平衡。在软件中,工艺编辑栏加入了相对
压力参考值设定,可以根据要求设置参数,由于设
备密封效果差异等原因,压力参考值可能存在差
别,实践证明,压力参考值在200 800区间,扩散
效果有所改善。如图2所示,可在工艺编辑菜单里
设置相对压力值。
3工艺实验分析
采取几组工艺试验,对比安装压力平衡系统之
前和之后的工艺效果:表1、表2是在正常连续生产
的车间里抽取的一组电池片方块电阻值(炉尾到炉
口),其它工艺参数一致。表1没有带压力自平衡系
统,表2是带有压力自平衡系统电阻分布值。测量时 从炉尾到炉口等距离抽取20片硅片,测量点为:I,2
为上面两角两点,3为中间点,4,5为下面两角两点。
冷凝废液瓶
图l反应管压力自平衡系统原理图