集成电路制造流程
1、掩膜版加工 2、晶圆加工
前工序
3、中测(切割、减薄、挑粒)
4、封装或绑定
后工序
5、成测
集成电路制造流程
掩膜版加工
在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到wafer制造中 间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关 键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。
在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶 圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉 提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达 0.99999999999。晶圆制造厂再将此多晶硅融解,再于融液内掺入一小粒的硅晶体 晶种,然后将其慢慢拉出,以形成圆柱状的单晶硅晶棒,由于硅晶棒是由一颗小晶 粒在熔融态的硅原料中逐渐生成,此过程称为“长晶”。硅晶棒再经过研磨,抛光, 切片后,即成为积体电路工厂的基本原料——硅晶圆片
电路。 第一节
集成生电路产的基工本概艺念知可识 达到的最小导线宽度,是IC工艺先进水平的主
要指标.线宽越小,集成度就高,在同一面积上就集成更多电 晶圆制造厂再将此多晶硅融解,再于融液内掺入一小粒的硅晶体晶种,然后将其慢慢拉出,以形成圆柱状的单晶硅晶棒,由于硅晶棒
这就是“晶圆”,英文为“Wafer”
名词解释
1、光刻:IC生产的主要工艺手段,指用光技术在晶圆上刻
蚀电路。 引脚离芯片较远,成品率增加且成本较低。
在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。
一个芯片做成以后,要往表面上打上商品名等字样,称为打标也可称为“印字”。
但AS环IC境是要专求门严为2格了、,某不一线易种维或宽修几。种:4特微定功米能而/设1计微的,米它也/0是.相6对微于通米用集/成0电.3路5而微言的米,除/通0用3的5一微些集米成电等路外,是,都指可称I为C专用集成