下载文档原格式
材料微观分析及性能测试专业服务Materials Micro-analytical Characterization and Testing Services( M2CTS )目标•领导技术服务发展潮流，在珠江三角洲地区为广大厂家包括制造业，能源业，建筑及建材业等提供高水平的材料微观分析和性能测试专业服务。
•通过提供服务，促进城大与广大工业厂商之间的专业技术合作交流，推动科技成果转化。
适用客户半导体，建筑业，轻金属业，新材料，包装业，模具业，科研机构，高校，电镀，化工，能源，生物制药，光电子，显示器。
主要实验室一、金相实验室• Leica DM/RM 光学显微镜主要特性：用于金相显微分析，可直观检测金属材料的微观组织，如原材料缺陷、偏析、初生碳化物、脱碳层、氮化层及焊接、冷加工、铸造、锻造、热处理等等不同状态下的组织组成，从而判断材质优劣。
须进行样品制备工作，最大放大倍数约1400倍。
• Leica 体视显微镜主要特性：1、用于观察材料的表面低倍形貌，初步判断材质缺陷；2、观察断口的宏观断裂形貌，初步判断裂纹起源。
•热振光模拟显微镜•图象分析仪•莱卡DM/RM 显微镜附 CCD数码照相装置二、电子显微镜实验室•扫描电子显微镜(附电子探针) (JEOL JSM5200，JOEL JSM820，JEOL JSM6335)主要特性：1、用于断裂分析、断口的高倍显微形貌分析，如解理断裂、疲劳断裂（疲劳辉纹）、晶间断裂（氢脆、应力腐蚀、蠕变、高温回火脆性、起源于晶界的脆性物、析出物等）、侵蚀形貌、侵蚀产物分析及焊缝分析。
2、附带能谱，用于微区成分分析及较小样品的成分分析、晶体学分析，测量点阵参数/合金相、夹杂物分析、浓度梯度测定等。
3、用于金属、半导体、电子陶瓷、电容器的失效分析及材质检验、放大倍率：10X—300,000X；样品尺寸：0.1mm—10cm；分辩率:1—50nm。
•透射电子显微镜（菲利蒲 CM-20,CM-200）主要特性：1、需进行试样制备为金属薄膜，试样厚度须<200nm。
物理实验技术中的光学薄膜测量与分析方法光学薄膜是一种在光学器件中广泛应用的材料，它的主要作用是控制光的传播和反射。
在物理实验中，准确测量和分析光学薄膜的特性是非常重要的。
本文将介绍一些常用的光学薄膜测量和分析方法。
一、椭偏振测量法椭偏振测量方法是一种基于光的偏振状态来测量光学薄膜厚度和折射率的方法。
通过测量透射或反射的光的偏振状态和光强的变化，可以确定薄膜的物理参数。
这种方法简单且精度较高，常用于光学薄膜厚度的测量。
二、透射率测量法透射率测量法是通过测量透过光学薄膜的光的强度来确定薄膜的透射率。
这种方法可以用于测量薄膜的光学吸收、透射和散射特性。
通常使用分光光度计或光谱仪进行测量，通过记录样品在可见光波段的光谱反射率，可以得到薄膜的透射率。
三、光学相干测量法光学相干测量法是一种利用光的干涉原理来测量光学薄膜厚度和表面形貌的方法。
通过测量反射光的干涉图案，可以推导出薄膜的厚度和表面形貌信息。
这种方法精度高且非接触，适用于测量各种厚度的光学薄膜。
四、自旋光学法自旋光学法是一种用来测量光学薄膜的旋光性质和光学常数的方法。
通过对旋光样品透射或反射光的旋光强度进行测量，可以确定样品的光学旋光角和光学常数的大小。
这种方法适用于测量旋光样品的光学性质，如天然光学薄膜。
五、激光扫描法激光扫描法是一种通过激光束在样品表面扫描然后测量反射光的方法。
通过测量不同位置的反射光强度，可以推导出样品表面的形貌信息。
这种方法适用于测量薄膜表面形貌和粗糙度等参数。
光学薄膜测量与分析方法在物理实验中的应用非常广泛，能够帮助研究人员了解材料的光学特性和性能。
上述介绍的几种方法都是常用的光学薄膜测量与分析方法，根据实验需要和样品特性的不同，可以选择适合的方法进行测量和分析。
在实际的光学薄膜测量和分析过程中，还需要注意一些实验技巧和误差控制。
首先，需要正确选择测量方法和仪器，确保测量结果准确可靠。
其次，要注意样品的制备和操纵，避免样品表面污染和破坏对测量结果的影响。
