fe的半峰宽
Fe的半峰宽（Full Width at Half Maximum，简称FWHM）是描述其峰值分布宽度的一个参数。在光谱学、物理学和工程学等领域中，半峰宽被广泛应用于描述信号的宽度。对于Fe来说，半峰宽具体指的是在Fe的峰值位置，信号幅度降低到峰值一半时的宽度。这个参数反映了Fe信号的分辨率和峰形特征，有助于了解和分析Fe的性能和特性。
Fe半峰宽的计算方法通常是通过测量Fe峰值的位置和半峰宽来获得材料表面的相关信息。具体的计算方法如下：
1. 找到Fe峰值的位置，确定半峰宽所定义的“一半”的位置。
2. 测量从峰值的中点到两侧曲线的距离，这个距离就是半峰宽。
3. 由于测量时可能会有误差，因此需要测量多次并取平均值，以获得更准确的结果。
需要注意的是，在计算Fe半峰宽时，应确保所使用的设备和仪器已经经过校准和校正，以确保结果的准确性和可靠性。此外，由于不同设备和方法可能会产生不同的结果，因此在进行比较和分析时，应使用相同的方法和设备进行测量和计算。
1XPS_Database Fe2p1/2的电子结合能： Energy (eV) Element Chemical bonding Ref 720.1 Fe2p1/2 Fe° 4 720.3 Fe2p1/2 Fe2B 4 720.4 Fe2p1/2 FeB 4 Fe2p3/2的电子结合能： Energy (eV) Element Chemical bonding Ref706.3 Fe2p3/2 FeS2 111706.4 Fe2p3/2 Fe° 73706.5 Fe2p3/2 FeS2 150706.5 Fe2p3/2 metallic iron 224706.54 Fe2p3/2 Fe 150706.6 Fe2p3/2 Fe2B 111706.6 Fe2p3/2 FeS, tail DSJ 234706.6 Fe2p3/2 Fe metal 13706.7 Fe2p3/2 Fe 111706.8 Fe2p3/2 FeB 111706.8 Fe2p3/2 FeS2 - H2O 22j 89706.8 Fe2p3/2 Fe 183706.8 Fe2p3/2 Fe métallique 1706.8 Fe2p3/2 ds le 304 ss avec N2 implanté 218706.8 Fe2p3/2 N ds l'acier 304 (bulk) 55706.8 Fe2p3/2 Fe° 156706.8 Fe2p3/2 Fe° 2706.8 Fe2p3/2 Fe° in a passive film on SUS316L 65706.9 Fe2p3/2 FeP 150706.9 Fe2p3/2 Fe 89706.9 Fe2p3/2 FeS2 -pyrite n°1- 163706.9 Fe2p3/2 FeS2 -pyrite n°2- 163706.9 Fe2p3/2 Fe(m) 84706.9 Fe2p3/2 Fe 89706.95 Fe2p3/2 FeS2 - air 11j- 89707 Fe2p3/2 metallic iron 224707 Fe2p3/2 pic XPS alliage Fe24Cr 124707 Fe2p3/2 Fe metal in case of sample immersed in a 60°C solution 11707 Fe2p3/2 Fe metal with a sample immersed in a room t° solution 11707 Fe2p3/2 Fe° 4707.1 Fe2p3/2 FeS2 - air 3j- 89707.1 Fe2p3/2 FeS2 - air 30j- 89707.1 Fe2p3/2 FeS2 - air 220j - 89707.1 Fe2p3/2 pic métal 182707.1 Fe2p3/2 Fe ds 304 ss nitré 218707.1 Fe2p3/2 N ds l'acier 304 (nitré) 55
• 术语“半峰全宽”（英文全称Full-Width Half-Maximum ，简称FWHM），常用来描述一个图形中某个不具有尖锐边缘的对象的宽度。应该指出，这最初是一个天文学名词（当然现在也依然是），在天文学上，此术语的意义为，“天体向外散发的辐射通量按波长的分布曲线最大值 1/2处所对应的波长之差”。这里不作赘述，我们只看跟薄膜、XRD有关的内容。
众所周知，一个简单的“盒子”可以用它的宽度来形容，一个矩形则可以用它的长和宽来表达。然而，天文图片中星星的图案却具有类似高斯曲线的形式，其数学表达式如下：
或用图形表示为
为了比较不同的星形图像的轮廓，我们可以使用上述数学表达式分母中的高斯参数，通常用希腊字母σ表示。这个参数并不真正描述轮廓的宽度，但我们亦不能采用轮廓的“全宽”，因为即便在若干周期之后，图像曲线下降到一个极低的水平，其宽度依然是无限延展的，因此我们并不能得到所谓的“全宽”。由此，我们转换思路，用另外的参数作替代。观察上述图形可知，若取轮廓下落至峰值（或称最大值，见上图）一半时的宽度，能够更好的反映我们肉眼看到的星形图像的大致尺寸。此即为图像在半峰高度时的全宽度值，或称作半峰全宽，full-width half-maximum（FWHM）。
这一参数简洁明了且容易确定，可以用来对比各种不同观察条件下的类似图像的质量。在一般的天文学图像中，FWHM被用作描述图像结构和可见图像的一种常用选择，并经常以平均值的形式出现（亦即许多高斯曲线的半峰全宽值的平均值）。
• 0楼：半峰宽大家都是如何计算的
峰顶和峰脚的中间高度的峰宽 wustliang
有两种计算方法：
一种是半高宽法fwhm，
即做峰底的切线L，
在峰高一半的地方做L平行线。
一种是积分法，
做峰底的切线L，
测量峰的面积，
测量峰的高度，
用“面积/高度”得到峰宽。
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3种方法
半高宽度：极大强度一半处的宽度
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P = P
・２６ ・ 材料导报：研究篇 ２０１０年２月（下）第２４卷第２期
磁控溅射制备ＡＩ－Ｃｕ—Ｆｅ薄膜不同溅射时间的生长行为 季 鑫 ，周细应 ，宓一呜 （１上海工程技术大学材料工程学院，上海２０１６２０；２上海工程技术大学基础教学学院，上海２０１６２０） 摘要 采用磁控溅射法在硅基材上制备了Ａ卜ｃｕ－Ｆｅ薄膜，采用原子力显微镜（ＡＦＭ）和ｘ射线衍射仪（ｘＲＤ） 研究了不同溅射时间下Ａ卜ｃｕ－Ｆｅ薄膜的生长行为。结果表明，随着溅射时间的延长，Ａ１一Ｃｕ－Ｆｅ薄膜的８晶相的衍射 峰半峰宽逐渐减小，而 晶相的衍射峰半峰宽则逐渐增大。Ａｌ＿ｃｔ卜Ｆｅ薄膜的生长依次经历了小岛形核阶段、小岛结 合阶段、连续薄膜阶段、晶粒长大阶段等４个阶段。另外，随着溅射时间的延长，Ａｌ＿Ｃ Ｆｅ薄膜的粗糙度呈现出先增 大后减小的趋势。 关键词 Ａｌ—ｃｕ—Ｆｅ粗糙度薄膜扩散系数
Ｇｒｏｗｔｈ Ｂｅｈａｖｉｏｒ ｏｆ ＡＩ－Ｃｕ－Ｆｅ Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ ａｔ Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔ Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ Ｔｉｍｅｓ Ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ ｂｙ Ｍａｇｎｅｔｒｏｎ Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ＪＩ Ｘｉｎ ，ＺＨＯＵ Ｘｉｙｉｎｇ ，ＭＩ Ｙｉｍｉｎｇ （１ Ｃｏｌｌｅｇｅ ｏｆ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，Ｓｈａｎｇｈａｉ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｓｈａｎｇｈａｉ ２０１６２０；２ Ｃｏｌｌｅｇｅ ｏｆ Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌ Ｓｔｕｄｉｅｓ，Ｓｈａｎｇｈａｉ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｓｈａｎｇｈａｉ ２０１６２０） Ａｈｓｔｒａ￣Ｔｈｅ ＡＩ—Ｃｕ－Ｆｅ ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｉｓ ｆａｂｒｉｃａｔｅｄ ｏｎ ｓｉｌｉｃｏｎ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｂｙ ｍａｇｎｅｔｒｏｎ ｃｏ－ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ｍｅｔｈｏｄ．Ｔｈｅ ｍｅｃｈａｎｉｓｍ ｏｆ ｆｉｌｍ ｇｒｏｗｔｈ ｕｎｄｅｒ ｄｉｆｆｅｒｅｎｔ ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ｔｉｍｅｓ ａｎｄ ｐｒｅｓｓｕｒｅｓ ａｒｅ ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄ ｂｙ ｍｅａｎｓ ｏｆ ＡＦＭ ａｎｄ ＸＲＤ． Ｔｈｅ ｒｅｓｕｌｔｓ ｓｈｏｗ ｔｈａｔ ｔｈｅ ＨＷＨＭ ｏｆ Ｇ ｃｒｙｓｔａｌ ｐｈａｓｅ ｉｎ Ａ１－Ｃｕ－Ｆｅ ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｄｅｃｒｅａｓｅｓ ｗｉｔｈ ｔｈｅ ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｓｐｕｔｔｅ— ｒｉｎｇ ｔｉｍｅｓ．Ｈｏｗｅｖｅｒ，ｔｈａｔ ｏｆ ｃｒｙｓｔａｌ ｐｈａｓｅ ｉｎｃｒｅａｓｅｓ ｗｉｔｈ ｔｈｅ ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ｔｉｍｅ ｒａｉｓｉｎｇ．Ｆｏｕｒ ｓｔａｇｅｓ ｆｏｌｌｏｗｅｄ ｉｎ ｔｈｅ ｇｒｏｗｔｈ ｏｆ Ａ１一Ｃｕ—Ｆｅ ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ａｒｅ ｉｓｌａｎｄ ｎｕｃｌｅａｒｉｎｇ ｓｔａｇｅ，ｉｓｌａｎｄ ｃｏｍｂｉｎｉｎｇ ｓｔａｇｅ。ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ ｆｉｌｍ ｓｔａｇｅ ａｎｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｇｒｏｗｔｈ ｓｔａｇｅ．Ｆｕｒｔｈｅｒｍｏｒｅ，ｔｈｅ ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ ｏｆ Ａ１一Ｃｕ－Ｆｅ ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｉｎｃｒｅａｓｅｓ ｗｉｔｈ ｔｈｅ ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ｔｉｍｅｓ ｒａｉｓｅｓ ａｎｄ ｒｅｄｕｃｅｓ ａｆｔｅｒｗａｒｄｓ． Ｋｅｙ ｗｏｒｄｓ ＡＩ—Ｃｕ－Ｆｅ，ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ，ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ；ｄｉｆｆｕｓｉｖｉｔｙ ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ １９８４年Ｓｈｅｃｈｔｍａｎ等 ］在急冷凝固的Ａｌ—Ｍｎ合金中发 现了一种具有二十面体点群对称的合金相，从此揭开了准晶 研究的序幕。尽管准晶大多数为金属合金，但是它们显现出 高硬度、低电导率和低热导率的特点，而且准晶的摩擦系数 和表面能量也很低，这些引人注目的特殊性能引起了材料科 学领域学者的广泛研究。自Ａ１一Ｃｕ—Ｆｅ准晶系统因其低的摩 擦性能被Ｔｓａｉ等＿２ 首次发现后，有关Ａ１～Ｃｕ－Ｆｅ块体准晶的 相图、微观结构以及相变得到广泛研究ｌ＿３棚。 大量研究发现，由准晶ｉ相及其类似相组成的ＡＩ—Ｃｕ－Ｆｅ 块体材料具有高硬度、低摩擦系数、低热导率、低电导率、抗 氧化和耐腐蚀等特殊性能【 。同时，国内外对Ａｌ—Ｃｕ－Ｆｅ薄膜 也有少量的报告ｌ＿６ ］，大多集中在薄膜的沉积方法、加热工艺 以及力学性能等方面，但是目前对于Ａ１－Ｃｕ—Ｆｅ薄膜生长行 为方面的研究却很少。Ａ１一Ｃｕ—Ｆｅ薄膜的性能在很大程度上 由其生长行为决定，所以研究Ａ１一Ｃｕ—Ｆｅ薄膜的生长行为非 常重要。 Ｂｏｎａｓｓｏ Ｎ等＿ｇ］通过同时蒸发沉积制备了ＡＩ－Ｃｕ—Ｆｅ薄 膜，并获得了有关ｉ相在加工工艺领域的形核和长大数据。 研究表明，Ａｌ—Ｃｕ—Ｆｅ非晶薄膜的准晶化过程通过一个晶化的 过程得以完成，４５０℃的退火处理为ｉ—ＡＩ—Ｃｕ—Ｆｅ准晶在Ａｌ富 集的非晶相中的形核和长大提供了热量。此外，Ａ１一Ｃｕ—Ｆｅ系 统的生长行为还有少量有关凝固方面的报告［ｊ ］，有关研究 表明Ｐｅｒｉｔｅｃｔｉｃ反应是准晶ｉ相在一定的凝固范围内得以形 成的主要机理。同时，研究还发现ＡＩ—Ｃｕ—Ｆｅ系统具有复杂 的多相凝固结构，这种结构的极端脆弱性阻碍了其在工业上 的实际应用。因此，针对Ａ１一Ｃｕ－Ｆｅ合金系统生长行为进一 步的了解和研究，可以有效地推动准晶材料的应用。为此， 本实验对不同溅射时间的Ａｌ—Ｃｕ—Ｆｅ薄膜的生长行为的组成 结构和表面形貌的变化进行了研究，以期为ＡＩ—Ｃｕ－Ｆｅ薄膜 的生长和应用提供一定的实验和理论依据。 １ 实验 １．１ 实验材料 溅射靶材分别为Ａ１、Ｃｕ和Ｆｅ靶，尺寸为￣６０ｍｍＸ（２～ ３）ｍｍ，纯度均为９９．９９ 。基底材料为单晶Ｓｉ（１１１），尺寸为 １０ｍｍＸ １０ｍｍ×０．５ｒａｍ。靶材溅射前用１０００ 水磨砂纸打 ＊上海市科技发展基金（０７ＺＺ１５９）；上海市重点学科建设项目（Ｊ５１４０２）；上海工程技术大学创新基金项目（Ａ０５００Ｅ７６３０８） 季鑫：男，１９８１年生，硕士，主要从事薄膜材料加工研究Ｅ－ｍａｉｌ：ｊｉｘｉｎｙｏｕｘｉａｎｇ＠１６３．ｃｏｒｎ
