光纤制造工艺与长飞光纤..
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光纤光缆生产工艺流程介绍光纤光缆是一种用于传输光信号的电子通信线缆。
它由光纤和光缆两部分组成,光纤是一种非常细长的玻璃或塑料材料,用于传输光信号;光缆则是将多根光纤进行保护和组织的结构。
本文将介绍光纤光缆的生产工艺流程。
光纤生产工艺流程1. 原料准备光纤的主要原料是二氧化硅和有机物。
制造光纤的第一步是准备这些原料。
二氧化硅通常以石英砂的形式使用,并通过高温炉进行熔融处理。
有机物则是用于改善光纤的强度和柔韧性。
2. 熔制和拉伸在熔制和拉伸的过程中,原料将被转化为光纤的形式。
首先,石英砂被放入炉中进行高温熔融处理,形成液态玻璃。
然后,通过拉伸和加热这些液态玻璃,在拉力的作用下逐渐变成光纤的细丝。
这个过程称为拉伸。
3. 包层和包覆拉伸后的光纤需要进行包层和包覆的处理,以保护光纤并改善其光学特性。
包层一般使用二氧化硅或其他折射率较低的材料,将光纤包裹在内。
包覆则是在包层的基础上再施加一层保护层,一般使用PVC或尼龙等材料。
4. 切割和检验完成包层和包覆后,光纤需要经过切割和检验的过程。
切割是将较长的光纤进行截断,得到标准长度的光纤。
检验是对光纤进行质量检验,包括检查光纤表面是否平整、是否存在损伤等。
光缆生产工艺流程1. 光纤编织和组织在光缆的生产过程中,首先需要将多根光纤编织成一个光纤束,然后进行组织和排列。
编织是将多根光纤按照一定的顺序进行交叉编织,以增加光缆的柔韧性和强度。
组织是将编织好的光纤束进行整齐排列,形成光缆的结构。
2. 防护和护套光缆需要进行防护和护套的处理,以保护光纤不受外界环境的损害。
防护是在光纤周围添加一层防护材料,如钢丝或聚氯乙烯等,以增强光缆的强度和耐压性。
护套是在防护层的基础上再添加一层保护套,一般使用聚乙烯或聚氯乙烯等材料。
3. 绝缘和填充绝缘是在光缆的光纤束和防护层之间添加绝缘材料,如泡沫聚乙烯等,以提高光缆的绝缘性能和电气性能。
填充是在光缆内部填充一些填充材料,如硅胶或油膏等,以填满光缆的空隙和保持光缆的圆形。
光纤的生产工艺流程
光纤的生产工艺流程是对原材料进行切割,清洗,拉制,包裹和编织。
1.原材料切割
光纤是由玻璃组成的,在光纤拉丝前必须先把玻璃原料进行切割成一定规格的光纤。
切割后的光纤可以用来制作芯径、纤芯直径和包层直径等规格,还可以用作连接器。
切好的光纤芯径和纤芯直径通常采用直径为3~5微米的多晶片来制造。
在整个生
产过程中,光纤切割是一个重要环节,如果没有准确地切出合适的芯径和纤芯直径,就不能得到合格的光纤。
2.清洗
光纤在生产过程中要经过多次清洗,这是因为在拉丝过程中会有一些杂质粘在纤芯上,这些杂质对光纤的性能有很大的影响。
这些杂质会吸收光纤内部的光能量,导致纤芯的折射率降低,从而使光纤纤芯对光线的吸收率变小,从而影响光传输性能。
因此,清洗是非常重要和必要的。
目前最常用的方法是用酸进行清洗。
3.拉制
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对于拉制好的光纤芯径和纤芯直径要进行测量才能进行下一步工序。
测量方法有两种:一是用千分尺或游标卡尺测量;二是用光电管直接测量。
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光纤的制造原理和性能光纤和激光器的问世,拉开了光纤通信的序幕。
与此同时,计算机和互联网日益普及,又大大地刺激人们对信息交换的需求。
正是光纤、激光器、系统设备、计算机、互联网共同构筑的通信平台创造出了一个崭新的信息时代。
一、光纤制造通信用光纤大多数是由石英玻璃材料组成的。
光纤的制造要经历光纤预制棒制备、光纤拉丝等具体的工艺步骤。
最常使用的工艺是两步法:第一步采用四种气相沉积工艺,即:外气相沉积(Outside V apour Deposition-OVD)、轴向气相沉积(V apour Axial Deposition-V AD)、改进的化学气相沉积(Modified Chemical V apour Deposition-MCVD)、等离子化学气相沉积(Plasma Chemical V apour Deposition-PCVD)中的任一工艺来生产光纤预制棒的芯棒;第二步是在气相沉积获得的芯棒上施加外包层制成大光纤预制棒。
值得强调的是,光纤预制棒的光学特性主要取决于芯棒的制造技术,光纤预制棒的成本主要取决于外包技术。
1.芯棒制造芯棒制造技术普遍采用气相沉积工艺,如OVD、V AD、MCVD、PCVD。
其中OVD工艺是1970年美国康宁公司的Kapron研发的简捷工艺。
OVD工艺的化学反应机理为火焰水解,即所需的芯玻璃组成是通过氢氧焰或甲烷焰中携带的气态卤化物(SiCl4等)产生“粉末”逐渐地一层一层沉积而获得的。
OVD工艺有沉积和烧结两个具体工艺步骤:先按所设计的光纤折射分布要求进行多孔玻璃预制棒芯棒的沉积(预制棒生长方向是径向由里向外),再将沉积好的预制棒芯棒进行烧结处理,除去残留水份,以求制得一根透明无水份的光纤预制棒芯棒,OVD工艺最新的发展经历从单喷灯沉积到多喷灯同时沉积,由一台设备一次沉积一根棒到一台设备一次沉积多根棒,从而大大提高了生产率,降低了成本。
V AD工艺是1977年由日本电报电话公司的伊泽立男等人,为避免与康宁公司的OVD专利的纠纷所发明的连续工艺。
色散位移单模光纤产品编码:3407WY产品描述长飞色散位移单模光纤全面优化了1550 nm 工作窗口的衰减和色散特性,在1550 nm 窗口具有低衰减和低色散,满足了在1550 nm 窗口的传输要求。
长飞色散位移单模光纤是按照世界最先进水平设计、制造的。
产品应用长飞色散位移单模光纤充分满足了使用掺铒光纤放大器(简称EDFA )的要求,能有效地应用于高速率、长距离传输系统。
长飞色散位移单模光纤适用于各类光缆结构,包括光纤带光缆、松套层绞光缆、骨架光缆、中心管式光缆和紧套光缆等。
长飞光纤在使用中与用其它工艺生产的光纤相容。
产品标准长飞色散位移单模光纤符合或优于ITU-T 推荐的G.653光纤技术规范。
长飞公司对光纤产品的各项指标制订了更严格的标准。
工艺与涂层长飞光纤采用等离子体激活化学气相沉积(简称PCVD)工艺制造光纤芯层,同时采用外部气相沉积(简称OVD)工艺制造的合成石英管来形成光纤包层,结合这两种工艺的优点,长飞光纤具有折射率分布控制精确、几何特性优越和衰减低等优点。
长飞光纤采用的双层DLPC7紫外固化丙烯酸树酯涂层,具有优越的保护光纤的能力,这种涂层是为要求更严格的紧套光缆设计的,在松套结构里也表现出极卓越的性能,使光纤具有非常优良的抗微弯性能。
在各种环境条件下,涂层均易于剥离,剥离后无任何残留物附在裸光纤上。
在60℃下,光纤带经过100多天的浸水实验后,仍保持良好的传输性能。
DLPC7涂层使光纤具有优越和稳定的动态抗疲劳特性(nd),大大提高了光纤对恶劣环境的适应能力。
产品特点- 低衰减和低色散充分满足1550 nm 窗口的传输要求- DLPC7涂层的保护性好、剥离性能优越- 精确的几何参数确保低熔接损耗和高熔接效率长飞光纤光缆有限公司YANGTZE OPTICAL FIBRE AND CABLE COMPANY LTD .特 性光学特性衰减 @ 1310 nm @ 1550 nm ≤0.40 dB/km ≤0.45 dB/km ≤0.21 dB/km ≤0.22 dB/km 1525-1575 nm 波长范围内的色散-3.5—3.5 ps/(nm ·km)零色散波长1530 nm ~1570 nm 零色散斜率≤0.085 ps/(nm 2·km)截止波长λc1100 nm ≤ λc ≤1350 nm 模场直径 (MFD) @ 1550 nm8.4±0.6 µm 有效群折射率 (N eff ) @ 1310 nm /1550 nm 1.474 /1.473背向散射特性(@1310 nm 和1550 nm)台阶 (双向平均值)≤0.05 dB 不均匀性(整个光纤长度)≤0.1 dB 背向散射系数差异(双向测量)≤0.05 dB/km几何特性包层直径125.0±1.0 µm 包层不圆度≤1.0%涂层直径245±10 µm 涂层/包层同心度误差≤12 µm 涂层不圆度≤6 %典型值≤1 %芯/包层同心度误差≤0.8 µm 翘曲度≥4 m交货长度(公里/盘) (可按用户要求提供其它长度) 2.1km 至25.2km 环境特性环境特性((@ 1310nm 和 1550nm )温度附加衰减∆α (-40℃到 +85℃)∆α (-60℃到 +85℃)≤0.01 dB/km ≤0.04 dB/km 温度-湿度循环附加衰减,85℃, 85% 相对湿度, 30天<0.05 dB/km 浸水附加衰减, 20℃, 30天≤0.05 dB/km 机械特性筛选张力(离线)≥9.0 N (≥100 kpsi)宏弯附加衰减100圈,Φ75 mm @ 1310 nm @ 1550 nm ≤0.01 dB ≤0.05 dB 涂层剥离力 (典型值) 1.4 N 动态疲劳参数(n d , 典型值)≥27版权所有 内容若有更改 不另行通知YOFC-MDT-115-99。
光缆工艺流程
光缆的生产工艺流程主要包括光纤预制棒制备、光缆芯线构造、光缆绝缘层覆盖、光缆护套包覆、光缆测试等多个环节。
具体来说,光缆的生产工艺流程如下:
1. 光纤预制棒制备:这是制作光缆的首要工艺,通过化学气相沉积法制成光纤芯棒。
2. 光缆芯线构造:将光纤预制棒转化为光缆芯线,这一步需要将光纤预制棒拉细并冷却,然后进行排线、着色等处理。
3. 光缆绝缘层覆盖:在光纤外面覆盖绝缘层,以保证光缆的电气绝缘性能。
4. 光缆护套包覆:在绝缘层外面包覆护套,以保护光缆免受机械损伤和环境影响。
5. 光缆测试:对生产出来的光缆进行测试,包括外观检查、电气性能测试等,以确保光缆的质量和性能符合要求。
以上是光缆生产的基本工艺流程,每一步都有严格的质量控制和技术要求,以确保最终产品的可靠性和稳定性。
光纤制备工艺【光纤制备工艺】一、光纤的历史其实啊,光纤的历史可以追溯到很久以前。
早在 1870 年,英国的廷达尔就观察到光可以沿着弯曲的水流传播,这算是对光传导的早期探索。
然而,真正现代意义上的光纤发展始于 20 世纪中叶。
20 世纪 50 年代,英国科学家卡帕尼就成功发明了玻璃光导纤维。
但当时的光纤损耗非常高,达到了每千米 1000 分贝,这意味着光在传输过程中几乎完全消失,所以无法用于实际通信。
到了 60 年代,华裔科学家高锟博士提出了利用纯净的玻璃材料制作光纤可以大大降低损耗的理论。
这一理论为光纤通信的实用化奠定了基础。
在众多科学家的努力下,到了 70 年代,光纤的损耗降低到了每千米 20 分贝以下,这使得光纤通信成为了可能。
说白了就是,经过几十年的发展,光纤从一个新奇的概念逐渐变成了改变我们通信方式的重要技术。
二、光纤的制作过程1. 预制棒制备1.1 化学气相沉积法(CVD)这是制备光纤预制棒的常用方法之一。
简单来说,就是把一些化学气体混合在一起,在高温下发生化学反应,生成玻璃沉积物,一层一层地堆积在芯棒上,形成预制棒。
比如说,就像我们做蛋糕的时候,把面粉、鸡蛋、糖等材料一层一层地加进去,最后做成一个大蛋糕坯子。
1.2 改进的化学气相沉积法(MCVD)这个方法是在 CVD 的基础上改进的。
它是在一根石英管内进行反应,通过外部的加热装置让化学气体发生反应,形成玻璃层沉积在石英管内壁。
打个比方,这就好像在一个空心的竹筒里面涂涂料,一层一层地涂,最后形成一个厚厚的涂层。
1.3 气相轴向沉积法(VAD)这种方法是让反应在底部发生,生成的玻璃向上沉积。
想象一下,就像是从下往上堆沙子,最后堆成一个大沙堆的样子。
2. 拉丝有了预制棒之后,接下来就是拉丝啦。
把预制棒放在高温炉中加热,直到它变得像麦芽糖一样柔软,然后通过一个拉丝塔,在重力和牵引的作用下,拉成细细的光纤。
这就好比我们拉面条,把一大块面团拉成又细又长的面条。
光纤光缆制造工艺及设备重点内容:原料提纯工艺、预制棒汽相沉积工艺、拉丝工艺、套塑工艺、余长形成、松套水冷、绞合工艺、层绞工艺难点: 汽相沉积工艺参数确定、拉丝环境保护、余长的控制、梯度水冷的控制、绞合参数的选择主要内容:(1)光纤制造工艺(2)缆芯制造工艺(成缆工艺)(3)护套挤制工艺图5-0-1光纤光缆制造工艺流程图通信用光纤是由高纯度SiO2与少量高折射率掺杂剂GeO2、TiO2、Al2O3、ZrO2和低折射率掺杂剂SiF4(F)或B2O3或P2O5等玻璃材料经涂覆高分子材料制成的具有一定机械强度的涂覆光纤。
而通信用光缆是将若干根(1~2160根)上述的成品光纤经套塑、绞合、挤护套、装铠等工序工艺加工制造而成的实用型的线缆产品。
在光纤光缆制造过程中,要求严格控制并保证光纤原料的纯度,这样才能生产出性能优良的光纤光缆产品,同时,合理的选择生产工艺也是非常重要的。
目前,世界上将光纤光缆的制造技术分成三大工艺.5.0.1光纤制造工艺的技术要点:1.光纤的质量在很大程度上取决于原材料的纯度,用作原料的化学试剂需严格提纯,其金属杂质含量应小于几个ppb,含氢化合物的含量应小于1ppm,参与反应的氧气和其他气体的纯度应为6个9(99.9999%)以上,干燥度应达-80℃露点。
2.光纤制造应在净化恒温的环境中进行,光纤预制棒、拉丝、测量等工序均应在10000级以上洁净度的净化车间中进行。
在光纤拉丝炉光纤成形部位应达100级以上。
光纤预制棒的沉积区应在密封环境中进行。
光纤制造设备上所有气体管道在工作间歇期间,均应充氮气保护,避免空气中潮气进入管道,影响光纤性能。
3.光纤质量的稳定取决于加工工艺参数的稳定。
光纤的制备不仅需要一整套精密的生产设备和控制系统,尤其重要的是要长期保持加工工艺参数的稳定,必须配备一整套的用来检测和校正光纤加工设备各部件的运行参数的设施和装置。
以MCVD工艺为例:要对用来控制反应气体流量的质量流量控制器(MFC)定期进行在线或不在线的检验校正,以保证其控制流量的精度;需对测量反应温度的红外高温测量仪定期用黑体辐射系统进行检验校正,以保证测量温度的精度;要对玻璃车床的每一个运转部件进行定期校验,保证其运行参数的稳定;甚至要对用于控制工艺过程的计算机本身的运行参数要定期校验等。
光纤生产流程及工艺流程光纤是一种用于传输光信号的高性能通信介质,其制造过程需要经过多个工艺步骤。
本文将详细介绍光纤的生产流程及工艺流程。
一、前期准备工作光纤的生产需要准备一些原材料和设备。
原材料包括二氧化硅、掺杂剂等。
设备包括拉制机、熔融炉、涂布机等。
在准备工作完成后,可以开始光纤的制造过程。
二、制备光纤前体棒将二氧化硅和掺杂剂粉末按一定比例混合,并通过熔融炉加热熔化。
然后,将熔融的物料注入拉制机中的石英坩埚,控制温度和拉速度,使其形成光纤前体棒。
光纤前体棒是光纤制备的基础材料。
三、拉制光纤将光纤前体棒放入拉制机中,通过加热和拉伸的方式,逐渐将光纤前体棒拉制成细长的光纤。
拉制过程中,要控制温度、拉速度和拉力等参数,确保光纤的质量和性能。
同时,还要进行在线监测和控制,及时发现和修复可能出现的缺陷。
四、涂覆光纤将拉制好的光纤通过涂布机进行涂覆。
涂布机会在光纤表面涂覆一层保护层,用于保护光纤,并提高其机械强度和耐用性。
涂覆过程需要控制涂布剂的喷涂厚度和速度,以及烘干温度和时间等参数,确保保护层的质量和性能。
五、光纤测试与检验制备好的光纤需要进行测试和检验,以确保其质量和性能达到要求。
常用的测试方法包括光学测试、机械测试和物理测试等。
光学测试主要包括衰减、插入损耗和模场直径等指标的测量。
机械测试主要包括抗弯曲、拉伸和挤压等强度测试。
物理测试主要包括热膨胀系数和折射率等参数的测量。
六、打包和交付测试合格的光纤经过打包处理,包装成卷状或束状,并进行标识和记录。
然后,按照客户订单和要求进行交付。
总结:光纤的生产流程及工艺流程包括前期准备工作、制备光纤前体棒、拉制光纤、涂覆光纤、光纤测试与检验以及打包和交付等步骤。
每个步骤都需要严格控制工艺参数,以确保光纤的质量和性能。
光纤的生产过程需要多种设备和测试仪器的配合,同时也需要专业的技术人员进行操作和监控。
通过对光纤生产流程及工艺流程的研究和改进,可以不断提高光纤的制造效率和质量,满足不断增长的通信需求。
光纤的制作方法有多种,以下为你介绍其中两种:
1. MCVD法:以氧气为载体的高纯度有用气体在旋转的石英管内用高温汽相氧化反应获得固相沉积物的方法。
将高纯度气体SiCl4、GeCl4、POCl3、氟等与载气O2一同送入旋转(几十转/分)的石英管内,1400℃~1600℃的高温氢氧火焰在管外来回移动,使管内的物质在高温下起氧化反应,形成粉尘状的氧化物SiO2或GeO2等,并沉积在管内壁上,当火焰的高温区再次经过此处时,在管内壁上形成一层均匀透明的石英玻璃膜层,厚度约8~l0μm,氯气和没反应完的材料从管的尾端排出。
根据包层与纤芯折射率的不同送入不同的掺杂试剂,如用氟可以降低包层的折射率,用GeCl4可提高纤芯的折射率。
用计算机控制每层的掺杂量可以实现复杂的折射率分布。
在沉积过程中石英管内的气体流量和气压都必需维持恒定,火焰温度和移动速度也必需恒定。
每分钟约沉积0.6g。
2. 分子填充法:将微孔石英玻璃棒浸入高折射率的添加剂溶液中,得所需折射率分布的断面结构,再进行拉丝操作,它的工艺比较复杂。
以上步骤仅供参考,如需更具体的信息,建议咨询光纤制造专家或查阅光纤制造相关的文献与资料。
十常见光无源器件制作工艺光无源器件,也被称为光波导器件或光学器件,是光通信领域中至关重要的组成部分。
光无源器件主要包括光纤、光耦合器、分束器、滤波器、波长分复用器等。
这些器件在光通信系统中起到了传输、分配、滤波等关键作用。
下面将介绍光无源器件制作的一般工艺流程。
1.光纤制作工艺光纤是光通信系统中最基础的无源器件。
光纤的制作工艺主要包括:预制棒拉制法、外气流法、内气流法和PCVD法。
其中,最常用的方法是PCVD法(Plasma Chemical Vapor Deposition),即等离子体化学气相沉积法。
PCVD法利用预制的石英玻璃作为基材,将基材放入反应室中,在高温下加入反应气体,通过化学反应和热反应生成二氧化硅,从而在玻璃表面形成纳米级别的光纤芯。
然后通过拉伸和涂覆等工艺,制作出具有高纯度、低损耗的光纤。
2.光耦合器制作工艺光耦合器用于将光信号从一个光波导传输到另一个光波导,是光通信系统中常见的无源器件。
光耦合器的制作工艺主要包括:硅基法、焕射损耗法和金属/微透镜法等。
其中,硅基法是最常见的制作工艺。
硅基法利用硅基材料作为基底,通过刻蚀技术制作出光波导结构,再利用电子束光刻技术和离子束刻蚀技术进行微结构的制作。
通过这些工艺步骤,可以实现光耦合器的制作。
3.分束器制作工艺分束器是将入射的光信号等比例地分离到不同的输出通道中的器件。
分束器的制作工艺主要包括:多模段法、多波长法、光纤法等。
其中,多模段法是最常用的制作工艺。
多模段法利用光波导的多模特性,通过调整光波导的宽度和长度等参数,实现光信号的分束效果。
此外,多波长法则是利用不同波长的光信号在光波导中的传输特性差异,实现光信号的分束。
4.滤波器制作工艺滤波器用于选择性地传输特定波长的光信号,常用于光通信系统中的波分复用和波长切换。
滤波器的制作工艺主要包括:干涉滤波器法、光波导滤波器法等。
干涉滤波器法利用光的干涉效应,通过将不同波长的光信号引入波导滤波器中,通过干涉效应来实现波长选择性的滤波。
光纤的制造过程主要包括以下步骤:
1. 预制棒的制造:预制棒的制造是光纤制造的核心环节,主要包括沉积和加工两个过程。
沉积过程是在高纯度气体中,通过汽相沉积技术,形成透明材料。
然后进行加工,使这个材料成为特定尺寸和形状的预制棒。
2. 拉丝:将预制棒放入拉丝塔中,在高温下将其拉制成细丝。
这个过程需要精确控制温度和速度,以确保光纤的直径和强度。
3. 涂覆:拉制出的光纤非常细,容易断裂,因此需要在其表面涂覆一层保护层,以增加其机械强度。
涂覆材料通常是塑料或树脂。
4. 测试:完成涂覆后,需要对光纤进行一系列测试,以确保其性能符合标准。
包括折射率测试、强度测试和衰减测试等。
5. 包装:通过包装工序,光纤被封装成可以在实际使用中安装和使用的光缆。
这个过程需要考虑保护光纤、方便运输和使用等因素。
总的来说,光纤的制造是一个高技术含量的过程,需要精确控制各种参数,以确保最终产品的性能和质量。
同时,制造过程中的每一步都需要经过严格的质量控制,以保证最终产品的可靠性和一致性。
长飞光纤罗杰:高速网络光纤解决方案2014年8月14日至15日,第七届移动互联网国际研讨会在北京国际会议中心隆重举行,本次大会以"4G移动互联网时代的创新与变革"为主题,围绕4G网络技术及未来发展、虚拟运营商、移动互联网应用、信息安全、物联网、融合通信等产业热点展开。
长飞光纤光缆制备技术国家重点实验室主任罗杰在高速光网络分论坛上演讲了《高速网络光纤解决方案》。
高速网络的光纤解决方案主要是两个内容,第一、简要回顾一下光纤技术的演进过程。
另外,探讨一下下一代高速网络中光纤技术面临的技术的瓶颈和我们探讨一下解决方案。
首先,回顾一下,大家知道1966高坤博士发表了一篇著名的文章,开始了光纤的时代。
我们简单看一下,高坤博士告诉了我什么。
当时,实际上铜缆的衰减每公里10DB以下,高坤博士告诉我们采用高纯度的二氧化硅能够支撑光纤,并且光纤通过提纯达到这样的一个。
我们今天来看,高坤的这些预测,仍然在指导我们的工作。
在1978年由康宁公司制造了20DB以下的光纤,1978年光纤的衰减到0.2DB以下。
第一、多模光纤,大家知道第一代应用的光纤,在光纤发明之后,首先传输的是多模光纤,虽然它很块被单模光纤取代,但是现在多模光纤仍然用于短举例的计算机通信。
多模标准更多是在ISO这个组织发展,到1995年是OM1,OM2,到2002年,随着以太网发展的10G,出现了新的激光优化的光纤,2010年以后,进一步出现了OM4,需要在实际的系统,传输的举例更长,并且适应以太网发展的40G到100G的技术。
单模光纤的标准,首先出现的是G.652的标准也是出现在1984年,1988年出现653和654的标准,653是应用150的衰减和射程都是最低的,654主要是为了海底通信的光纤。
随着接入网的发展,2006年以后出现了657的标准。
光纤的PMD也是随着传输速率的增长,时机出现以后,发现原来PMD控制光纤有问题,所以PMD的要求也在逐渐提高。
超低衰减两模阶跃型光纤产品描述基于模分复用的少模光纤传输系统,是利用少模光纤中有限的正交模式作为独立信道进行信息传送,以成倍的提升系统传输容量。
少模光纤采用光纤中的不同模式,做为新的自由度加以利用,成功地提高了系统的频谱效率;由于少模光纤的模式具有比较大的模场面积,因此其非线性容限也很高,这样既提高了光传输系统的容量,又避免了非线性效应对系统的干扰。
因此采用少模光纤中有限的、稳定的模式作为独立信道进行模式复用,可以极大提高系统容量,解决未来单模光纤的带宽危机。
长飞公司生产的超低衰减两模阶跃型光纤,在波长1550nm处模式数目为2,有着极低的衰耗和较高的DGD,便于模式分开复用,符合少模光纤传输系统的需要。
产品应用●大容量少模光纤传输系统●模分复用系统●激光器、传感器产品工艺长飞光纤采用等离子体激活化学气相沉积(简称PCVD)工艺制造。
由于PCVD工艺的优点,长飞光纤具有折射率分布控制精确、几何特性优越和衰减低等优点。
长飞光纤采用的双层紫外固化丙烯酸酯涂层,具有优越的保护光纤的能力。
这种涂层是为要求更严格的紧套光缆设计的,在松套结构里也表现出极卓越的性能,使光纤具有非常优良的抗微弯性能。
在各种环境下,涂层均易于剥离,剥离后无任何残留在裸光纤上。
长飞光纤具有优越和稳定的动态抗疲劳特性,极大地提高了光纤对恶劣环境的适应能力。
产品特点●在波长1550nm处模式数目为2●具有较高的差分模式延时●两个模式均有极低的衰减●在小半径弯曲情况下,光纤能良好的抑制弯曲损耗●精确的几何参数保证低熔接损耗和高熔接效率光学特性@1550nm典型值数据范围单位包层不圆度<0.7%工作波长1450-1700nm涂覆层直径245±5μm 色散LP0122.5321~23ps/(nm·km)LP1122.8221~23ps/(nm·km)色散斜率LP010.10120.08~0.11ps/(nm²·km)LP110.10110.08~0.11ps/(nm²·km)有效面积LP01169150~200μm²LP11167150~200μm²衰减系数LP010.161≤0.17dB/kmLP110.161≤0.17dB/km差分模式延时LP11-LP01 2.36≤5ps/m。
光纤的制造工艺
光纤的制造工艺主要包括以下步骤:
1. 拉制预制杆:预制杆是光纤的原材料,通常由二氧化硅等高纯度材料加工而成,制作成长约1米的棒状物。
2. 计量和混凝剂注入:将预制杆精确地截取一定长度并按照比例配比添加混凝剂。
3. 加热熔融:将预制杆放入加热炉中进行熔融处理,使其完全熔化。
4. 拉伸成型:在熔融状态下,将预制杆逐步拉伸,同时对其进行形状调整和松弛处理,使其形成一根细长的光纤。
5. 包覆:光纤表面涂覆一层类似于聚合物的材料,以增强其强度和保护外部环境的干扰。
6. 切割封装:将光纤根据需要切割成合适的长度并进行封装,以便于实际应用。
光纤的种类和制造工艺一、光纤的种类光纤分为单模光纤和多模光纤。
单模光纤有G652、G653、G654、G655、G656等类型。
单模光纤的纤芯直径8-9um,外径125um。
G652光纤---最长用的是简单阶跃匹配包层型和简单阶跃下凹内包层型。
简单匹配包层型光纤性能稍差,一般采用参杂Ge来提高纤芯折射率,参杂过多会因材料色散损耗增加光纤的衰减,因此相对折射率差△偏低(约为0.3%),光纤抗弯特性稍差。
下凹内包层型光纤性能比较好,一般它的内包层采用F 产生下凹折射率△-,这样只要在纤芯中掺杂少量的Ge就能获得较大的总相对折射率,△=△++△-。
高的△就能大大改善光纤的抗弯性、损耗。
同时这种结构有四个设计自由度。
可以通过适当选择△+、△-、和、2b,使截止波长、零色散波长、模场直径等最佳化。
G653光纤---采用分段芯和双台阶芯型。
这个光纤成功的实现了1550nm波长低衰减和零色散,而且具有抗弯性能好、连接损耗低的特点。
特别是多芯结构的设计自由度多,通过调整各部分的折射率差和几何尺寸,很容易控制波导色散,实现零色散波长的移动。
但不适宜波分系统。
G654光纤---这种光纤折射率剖面结构与标准单模光纤相同,仍是采用的简单阶跃匹配包层型和简单阶跃下凹内包层,所不同的是选用纯二氧化硅芯来降低光纤的衰减,靠包层参杂F使折射率下降而获得所要的折射率差。
这种光纤的最大优点是,其在1550nm波长的最低衰减为0.15 dB/km。
G655光纤---这中光纤的折射率剖面结构为三角芯和双环芯结构。
这中光纤中的第一环具有可移动零色散波长的作用。
这两种剖面结构的外环对实现大有效面积和微弯曲损耗都起着关键作用,其可将光从中心尖峰处吸引出来,以达到较大的场分布,以及在大半径处有力地引导方向。
因此可通过降低尖峰来增加有效面积,并且通过防止光泄露到包层而改善微弯曲性能。
两种结构的区别在于,三角芯具有略低的衰减,双环芯则具有稍大的有效面积。
以下是一些在中国市场上主要的塑料光纤生产企业排名:
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