半导体物理第五章习题答案
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第五章4. 一块N 型半导体材料的寿命为τ=10µs ,光照在材料中会产生非平衡载流子,试求光照突然停止20µs 后,其中非平衡载流子将衰减到原来的百分之几? 解: 由公式 Δp(t)=( Δp 0)e -t/τ 得:Δp(t)/ ( Δp 0)=e -2=13.5%5. N 型硅中,掺杂浓度为N D =1016cm -3,光注入的非平衡载流子浓度Δn=Δp=1014cm -3。
计算无光照和有光照时的电导率。
解: 在此半导体内 n 0》p 0 µn =1350 cm 2/(Vs) µp =500 cm 2/(Vs)无光照时 n 0=N Dσ =N D qµn =1016×1.6×10-19×1350=2.16Ωcm有光照时σ =(n 0+Δn)qµn +(p 0+Δp)qµp =2.1816+0.008=2.1896≈2.19Ωcm7. 掺施主浓度N D =1015cm -3的N 型硅,由于光照产生了非平衡载流子Δn=Δp=1014cm -3。
试计算这种情况下准费米能级的位置,并和原来的费米能级作比较。
解. n 0=N D =1015cm -3 n i =1.5×1010cm -3先求光照之前的费米能级E F由n 0= n i exp(kT E E i F -) 得 E F –E i =io n n kT ln =0.289eV 光照后 n=N D +Δn=1.1×1015cm -3由 n= n i exp(kT E E i Fn -) 得 E Fn –E i =in n kT ln =0.291eV p=p 0+Δp ≈p 0=1014cm -3由 p= n i exp(kT E E Fpi -) 得 E i – E Fp =in p kT ln =0.229eV 在光照之前,费米能级比E i 高0.289eV ,光照之后准费米能级E Fn 比原来的费米能级高0.002 eV ,准费米能级E Fp 比原来的费米能级低了0.518eV 。
第五章习题1. 在一个n 型半导体样品中,过剩空穴浓度为1013cm -3, 空穴的寿命为100us 。
计算空穴的复合率。
2. 用强光照射n 型样品,假定光被均匀地吸收,产生过剩载流子,产生率为,空穴寿命为τ。
(1)写出光照下过剩载流子所满足的方程; (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度。
3. 有一块n 型硅样品,寿命是1us ,无光照时电阻率是10Ω∙cm 。
今用光照射该样品,光被半导体均匀的吸收,电子-空穴对的产生率是1022cm -3∙s-1,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数在流子的贡献占多大比例?s cm pU s cm p Up 3171010010313/10U 100,/10613==∆=====∆-⨯∆-ττμτ得:解:根据?求:已知:τττττg p g p dtp d g Aet p g p dt p d L L tL=∆∴=+∆-∴=∆+=∆+∆-=∆∴-.00)2()(达到稳定状态时,方程的通解:梯度,无飘移。
解:均匀吸收,无浓度cm s pq nq q p q n pq np cm q p q n cm g n p g p pn p n p n pn L /06.396.21.0500106.1101350106.11010.0:101:1010100.1916191600'000316622=+=⨯⨯⨯+⨯⨯⨯+=∆+∆++=+=Ω=+==⨯==∆=∆=+∆-----μμμμμμσμμρττ光照后光照前光照达到稳定态后.,..32.010''∆>∆Ω==σρp p p cm 的贡献主要是所以少子对电导的贡献献少数载流子对电导的贡4. 一块半导体材料的寿命τ=10us ,光照在材料中会产生非平衡载流子,试求光照突然停止20us 后,其中非平衡载流子将衰减到原来的百分之几?5. n 型硅中,掺杂浓度N D =1016cm -3, 光注入的非平衡载流子浓度∆n=∆p=1014cm -3。
第五章习题1. 在一个n 型半导体样品中,过剩空穴浓度为1013cm -3, 空穴的寿命为100us 。
计算空穴的复合率。
2. 用强光照射n 型样品,假定光被均匀地吸收,产生过剩载流子,产生率为,空穴寿命为τ。
(1)写出光照下过剩载流子所满足的方程; (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度。
3. 有一块n 型硅样品,寿命是1us ,无光照时电阻率是10Ω•cm 。
今用光照射该样品,光被半导体均匀的吸收,电子-空穴对的产生率是1022cm -3•s-1,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数在流子的贡献占多大比例?s cm pU s cm p Up 3171010010313/10U 100,/10613==∆=====∆-⨯∆-ττμτ得:解:根据?求:已知:τττττg p g p dtp d g Aet p g p dt p d L L tL=∆∴=+∆-∴=∆+=∆+∆-=∆∴-.00)2()(达到稳定状态时,方程的通解:梯度,无飘移。
解:均匀吸收,无浓度cm s pq nq q p q n pq np cm q p q n cm g n p g p pn p n p n pn L /06.396.21.0500106.1101350106.11010.0:101:1010100.1916191600'000316622=+=⨯⨯⨯+⨯⨯⨯+=∆+∆++=+=Ω=+==⨯==∆=∆=+∆-----μμμμμμσμμρττ光照后光照前光照达到稳定态后4. 一块半导体材料的寿命τ=10us ,光照在材料中会产生非平衡载流子,试求光照突然停止20us 后,其中非平衡载流子将衰减到原来的百分之几?5. n 型硅中,掺杂浓度N D =1016cm -3, 光注入的非平衡载流子浓度∆n=∆p=1014cm -3。
计算无光照和有光照的电导率。
%2606.38.006.3500106.1109.,..32.01191610''==⨯⨯⨯=∆∴∆>∆Ω==-σσρp u p p p p cm 的贡献主要是所以少子对电导的贡献献少数载流子对电导的贡 。
半导体物理与器件第四版答案半导体物理与器件第四版答案【篇一:半导体物理第五章习题答案】>1. 一个n型半导体样品的额外空穴密度为1013cm-3,已知空穴寿命为100?s,计算空穴的复合率。
解:复合率为单位时间单位体积内因复合而消失的电子-空穴对数,因此1013u1017cm?3?s ?6100?102. 用强光照射n型样品,假定光被均匀吸收,产生额外载流子,产生率为gp,空穴寿命为?,请①写出光照开始阶段额外载流子密度随时间变化所满足的方程;②求出光照下达到稳定状态时的额外载流子密度。
解:⑴光照下,额外载流子密度?n=?p,其值在光照的开始阶段随时间的变化决定于产生和复合两种过程,因此,额外载流子密度随时间变化所满足的方程由产生率gp和复合率u的代数和构成,即 d(?p)?p gp? dt?d(?p)0,于是由上式得⑵稳定时额外载流子密度不再随时间变化,即dtp?p?p0?gp?3. 有一块n型硅样品,额外载流子寿命是1?s,无光照时的电阻率是10??cm。
今用光照射该样品,光被半导体均匀吸收,电子-空穴对的产生率是1022/cm3?s,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数载流子的贡献占多大比例?解:光照被均匀吸收后产生的稳定额外载流子密度p??n?gp??1022?10?6?1016 cm-3取?n?1350cm2/(v?s),?p?500cm/(v?s),则额外载流子对电导率的贡献2pq(?n??p)?1016?1.6?10?19?(1350?500)?2.96 s/cm无光照时?0?10.1s/cm,因而光照下的电导率02.96?0.1?3.06s/cm相应的电阻率 ??110.33??cm 3.06少数载流子对电导的贡献为:?p?pq?p??pq?p?gp?q?p代入数据:?p?(p0??p)q?p??pq?p?1016?1.6?10?19?500?0.8s/cm∴p?00.80.26?26﹪ 3.06即光电导中少数载流子的贡献为26﹪4.一块半导体样品的额外载流子寿命? =10?s,今用光照在其中产生非平衡载流子,问光照突然停止后的20?s时刻其额外载流子密度衰减到原来的百分之几?解:已知光照停止后额外载流子密度的衰减规律为p(t)??p0e?因此光照停止后任意时刻额外载流子密度与光照停止时的初始密度之比即为t??p(t)e? ?p0t当t?20?s?2?10?5s时20??p(20)e10?e?2?0.135?13.5﹪ ?p05. 光照在掺杂浓度为1016cm-3的n型硅中产生的额外载流子密度为?n=?p= 1016cm-3。
第5章 非平衡载流子1. 一个n 型半导体样品的额外空穴密度为1013cm -3,已知空穴寿命为100μs ,计算空穴的复合率。
解:复合率为单位时间单位体积内因复合而消失的电子-空穴对数,因此1317306101010010U cm s ρτ--===⋅⨯ 2. 用强光照射n 型样品,假定光被均匀吸收,产生额外载流子,产生率为g p ,空穴寿命为τ,请①写出光照开始阶段额外载流子密度随时间变化所满足的方程; ②求出光照下达到稳定状态时的额外载流子密度。
解:⑴光照下,额外载流子密度∆n =∆p ,其值在光照的开始阶段随时间的变化决定于产生和复合两种过程,因此,额外载流子密度随时间变化所满足的方程由产生率g p 和复合率U 的代数和构成,即()p d p pg dt τ=-⑵稳定时额外载流子密度不再随时间变化,即()0d p dt=,于是由上式得0p p p p g τ∆=-=3. 有一块n 型硅样品,额外载流子寿命是1μs ,无光照时的电阻率是10Ω⋅cm 。
今用光照射该样品,光被半导体均匀吸收,电子-空穴对的产生率是1022/cm 3⋅s ,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数载流子的贡献占多大比例?解:光照被均匀吸收后产生的稳定额外载流子密度226163101010 cm p p n g τ-∆=∆==⨯=-取21350/()n cm V s μ=⋅,2500/()p cm V s μ=⋅,则额外载流子对电导率的贡献1619()10 1.610(1350500) 2.96 s/cm n p pq σμμ-=∆+=⨯⨯⨯+=无光照时0010.1/s cm σρ==,因而光照下的电导率0 2.960.1 3.06/s cm σσσ=+=+=相应的电阻率 110.333.06cm ρσ===Ω⋅少数载流子对电导的贡献为:p p p p q p pq pq g σμμτμ=≈=代入数据:16190()10 1.6105000.8/p p p p p q pq s cm σμμ-=+∆≈∆=⨯⨯⨯=∴00.80.26263.06p σσσ===+﹪ 即光电导中少数载流子的贡献为26﹪4.一块半导体样品的额外载流子寿命τ =10μs ,今用光照在其中产生非平衡载流子,问光照突然停止后的20μs 时刻其额外载流子密度衰减到原来的百分之几?解:已知光照停止后额外载流子密度的衰减规律为0()tP t p e τ-=因此光照停止后任意时刻额外载流子密度与光照停止时的初始密度之比即为()t P t e P τ-= 当520210t s s μ-==⨯时202100(20)0.13513.5P e e P --====﹪ 5. 光照在掺杂浓度为1016cm -3的n 型硅中产生的额外载流子密度为∆n=∆p= 1016cm -3。
第五章习题1. 在一个n 型半导体样品中,过剩空穴浓度为1013cm -3, 空穴的寿命为100us 。
计算空穴的复合率。
2. 用强光照射n 型样品,假定光被均匀地吸收,产生过剩载流子,产生率为,空穴寿命为τ。
(1)写出光照下过剩载流子所满足的方程; (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度。
3. 有一块n 型硅样品,寿命是1us ,无光照时电阻率是10Ω∙cm 。
今用光照射该样品,光被半导体均匀的吸收,电子-空穴对的产生率是1022cm -3∙s-1,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数在流子的贡献占多大比例?scm pU scmp U p 3171010010313/10U 100,/10613==∆=====∆-⨯∆-ττμτ得:解:根据?求:已知:τττττg p g pdtp d g Aet p g pdtp d L L tL=∆∴=+∆-∴=∆+=∆+∆-=∆∴-.00)2()(达到稳定状态时,方程的通解:梯度,无飘移。
解:均匀吸收,无浓度cms pq nq q p q n pq np cmq p q n cmg n p g pp n p n p n pn L /06.396.21.0500106.1101350106.11010.0:101:1010100.1916191600'000316622=+=⨯⨯⨯+⨯⨯⨯+=∆+∆++=+=Ω=+==⨯==∆=∆=+∆-----μμμμμμσμμρττ光照后光照前光照达到稳定态后4. 一块半导体材料的寿命τ=10us ,光照在材料中会产生非平衡载流子,试求光照突然停止20us 后,其中非平衡载流子将衰减到原来的百分之几?5. n 型硅中,掺杂浓度N D =1016cm -3, 光注入的非平衡载流子浓度∆n=∆p=1014cm -3。
计算无光照和有光照的电导率。
%2606.38.006.3500106.1109.,..32.01191610''==⨯⨯⨯=∆∴∆>∆Ω==-σσρp u p p p p cm 的贡献主要是所以少子对电导的贡献献少数载流子对电导的贡。
半导体物理第五章课后答案吕淑媛1、下列有关力做功的说法中正确的是()[单选题]A.用水平力推着购物车前进,推车的力做了功(正确答案)B.把水桶从地面上提起来,提水桶的力没有做功C.书静止在水平桌面上,书受到的支持力做了功D.挂钩上的书包静止时,书包受到的拉力做了功2、9.如图所示,保持钢尺伸出桌边的长度相同,用大小不同的力拨动,钢尺发出的声音()[单选题] *A.响度不同(正确答案)B.音调不同C.音色不同D.速度不同3、3.击剑比赛、体操比赛中运动员可视为质点.[判断题] *对错(正确答案)4、31.在炎热的夏天,下列能有效降低室内气温的办法是()[单选题] *A.关闭门窗,不让外界的热空气进来B.在地上洒一些水(正确答案)C.打开电风扇D.打开电冰箱的门,散出冷空气5、1.公式v2-v02=2ax适用于任何直线运动.[判断题] *对错(正确答案)6、水平桌面上的文具盒在水平方向的拉力作用下,沿拉力的方向移动一段距离,则下列判断正确的是()[单选题]A.文具盒所受拉力做了功(正确答案)B.文具盒所受支持力做了功C.文具盒所受重力做了功D.没有力对文具盒做功7、我们知道X射线是一种高频率的电磁波,所以X射线的波长短[判断题] *对(正确答案)错答案解析:波速等于波长乘以频率,真空中波速一定,频率高,波长短8、下列物体中,质量约为2×105mg的是()[单选题] *A. 一颗图钉B. 一本初二物理课本(正确答案)C. 一张课桌D. 一支黑水笔9、69.两种不同材料制成的大小相同的实心球甲、乙,在天平右盘中放入4个甲球,在左盘中放入5个乙球,这时天平刚好平衡,且游码没有移动,则可知()[单选题] *A.甲球和乙球质量之比为5:1B.甲球和乙球质量之比为4:5C.甲球和乙球密度之比为5:4(正确答案)D.甲球和乙球密度之比为4:510、2.物体的加速度a=0,则物体一定处于静止状态.[判断题] *对错(正确答案)11、用如图所示的装置做“探究小车速度随时间变化的规律”实验:1.小车从靠近定滑轮处释放.[判断题] *对错(正确答案)12、78.有体积和质量都相同的铁球、铜球和铅球各一个,已知ρ铁=8×103kg/m3,ρ铜=9×103kg/m3,ρ铅=3×103kg/m3。
第五章习题1. 在一个n 型半导体样品中,过剩空穴浓度为1013cm -3, 空穴的寿命为100us 。
计算空穴的复合率。
2. 用强光照射n 型样品,假定光被均匀地吸收,产生过剩载流子,产生率为,空穴寿命为τ。
(1)写出光照下过剩载流子所满足的方程; (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度。
3. 有一块n 型硅样品,寿命是1us ,无光照时电阻率是10Ω∙cm 。
今用光照射该样品,光被半导体均匀的吸收,电子-空穴对的产生率是1022cm -3∙s-1,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数在流子的贡献占多大比例?s cm pU s cm p Up 3171010010313/10U 100,/10613==∆=====∆-⨯∆-ττμτ得:解:根据?求:已知:τττττg p g p dtp d g Aet p g p dt p d L L tL=∆∴=+∆-∴=∆+=∆+∆-=∆∴-.00)2()(达到稳定状态时,方程的通解:梯度,无飘移。
解:均匀吸收,无浓度cm s pq nq q p q n pq np cm q p q n cm g n p g p pn p n p n pn L /06.396.21.0500106.1101350106.11010.0:101:1010100.1916191600'000316622=+=⨯⨯⨯+⨯⨯⨯+=∆+∆++=+=Ω=+==⨯==∆=∆=+∆-----μμμμμμσμμρττ光照后光照前光照达到稳定态后4. 一块半导体材料的寿命τ=10us ,光照在材料中会产生非平衡载流子,试求光照突然停止20us 后,其中非平衡载流子将衰减到原来的百分之几?5. n 型硅中,掺杂浓度N D =1016cm -3, 光注入的非平衡载流子浓度∆n=∆p=1014cm -3。
计算无光照和有光照的电导率。
%2606.38.006.3500106.1109.,..32.01191610''==⨯⨯⨯=∆∴∆>∆Ω==-σσρp u p p p p cm 的贡献主要是所以少子对电导的贡献献少数载流子对电导的贡 。
第五篇 题解-非平衡载流子刘诺 编5-1、何谓非平衡载流子?非平衡状态与平衡状态的差异何在?解:半导体处于非平衡态时,附加的产生率使载流子浓度超过热平衡载流子浓度,额外产生的这部分载流子就是非平衡载流子。
通常所指的非平衡载流子是指非平衡少子。
热平衡状态下半导体的载流子浓度是一定的,产生与复合处于动态平衡状态 ,跃迁引起的产生、复合不会产生宏观效应。
在非平衡状态下,额外的产生、复合效应会在宏观现象中体现出来。
5-2、漂移运动和扩散运动有什么不同?解:漂移运动是载流子在外电场的作用下发生的定向运动,而扩散运动是由于浓度分布不均匀导致载流子从浓度高的地方向浓度底的方向的定向运动。
前者的推动力是外电场,后者的推动力则是载流子的分布引起的。
5-3、漂移运动与扩散运动之间有什么联系?非简并半导体的迁移率与扩散系数之间有什么联系?解:漂移运动与扩散运动之间通过迁移率与扩散系数相联系。
而非简并半导体的迁移率与扩散系数则通过爱因斯坦关系相联系,二者的比值与温度成反比关系。
即T k q D 0=μ 5-4、平均自由程与扩散长度有何不同?平均自由时间与非平衡载流子的寿命又有何不同?答:平均自由程是在连续两次散射之间载流子自由运动的平均路程。
而扩散长度则是非平衡载流子深入样品的平均距离。
它们的不同之处在于平均自由程由散射决定,而扩散长度由扩散系数和材料的寿命来决定。
平均自由时间是载流子连续两次散射平均所需的自由时间,非平衡载流子的寿命是指非平衡载流子的平均生存时间。
前者与散射有关,散射越弱,平均自由时间越长;后者由复合几率决定,它与复合几率成反比关系。
5-5、证明非平衡载流子的寿命满足()τte p t p -∆=∆0,并说明式中各项的物理意义。
证明:()[]ppdt t p d τ∆=∆-=非平衡载流子数而在单位时间内复合的子的减少数单位时间内非平衡载流时刻撤除光照如果在0=t则在单位时间内减少的非平衡载流子数=在单位时间内复合的非平衡载流子数,即()[]()1−→−∆=∆-pp dt t p d τ在小注入条件下,τ为常数,解方程(1),得到()()()20−→−∆=∆-p te p t p τ式中,Δp (0)为t=0时刻的非平衡载流子浓度。
半导体物理学课后习题第五章第六章答案仅供学习与交流,如有侵权请联系网站删除 谢谢2 第五章习题1. 在一个n 型半导体样品中,过剩空穴浓度为1013cm -3, 空穴的寿命为100us 。
计算空穴的复合率。
2. 用强光照射n 型样品,假定光被均匀地吸收,产生过剩载流子,产生率为,空穴寿命为τ。
(1)写出光照下过剩载流子所满足的方程; (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度。
3. 有一块n 型硅样品,寿命是1us ,无光照时电阻率是10Ω•cm 。
今用光照射该样品,光被半导体均匀的吸收,电子-空穴对的产生率是1022cm -3•s-1,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数在流子的贡献占多大比例?s cm pU s cm p Up 3171010010313/10U 100,/10613==∆=====∆-⨯∆-ττμτ得:解:根据?求:已知:τττττg p g p dtp d g Aet p g p dt p d L L tL=∆∴=+∆-∴=∆+=∆+∆-=∆∴-.00)2()(达到稳定状态时,方程的通解:梯度,无飘移。
解:均匀吸收,无浓度cms pq nq q p q n pq np cm q p q n cm g n p g p p n p n p n pn L /06.396.21.0500106.1101350106.11010.0:101:1010100.1916191600'000316622=+=⨯⨯⨯+⨯⨯⨯+=∆+∆++=+=Ω=+==⨯==∆=∆=+∆-----μμμμμμσμμρττ光照后光照前光照达到稳定态后仅供学习与交流,如有侵权请联系网站删除 谢谢34. 一块半导体材料的寿命τ=10us ,光照在材料中会产生非平衡载流子,试求光照突然停止20us 后,其中非平衡载流子将衰减到原来的百分之几?5. n 型硅中,掺杂浓度N D =1016cm -3, 光注入的非平衡载流子浓度∆n=∆p=1014cm -3。
第五章习题1. 在一个n 型半导体样品中,过剩空穴浓度为1013cm -3, 空穴的寿命为100us 。
计算空穴的复合率。
2. 用强光照射n 型样品,假定光被均匀地吸收,产生过剩载流子,产生率为,空穴寿命为。
(1)写出光照下过剩载流子所满足的方程; (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度。
3. 有一块n 型硅样品,寿命是1us ,无光照时电阻率是10cm 。
今用光照射该样品,光被半导体均匀的吸收,电子-空穴对的产生率是1022cm -3s-1,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数在流子的贡献占多大比例?4. 一块半导体材料的寿命=10us ,光照在材料中会产生非平衡载流子,试求光照突然停止20us 后,s cm pU s cm p Up 3171010010313/10U 100,/10613==∆=====∆-⨯∆-ττμτ得:解:根据?求:已知:τττττg p g p dtp d g Aet p g p dt p d L L tL=∆∴=+∆-∴=∆+=∆+∆-=∆∴-.00)2()(达到稳定状态时,方程的通解:梯度,无飘移。
解:均匀吸收,无浓度cm s pq nq q p q n pq np cm q p q n cm g n p g p pn p n p n pn L /06.396.21.0500106.1101350106.11010.0:101:1010100.1916191600'000316622=+=⨯⨯⨯+⨯⨯⨯+=∆+∆++=+=Ω=+==⨯==∆=∆=+∆-----μμμμμμσμμρττ光照后光照前光照达到稳定态后%2606.38.006.3500106.1109.,..32.01191610''==⨯⨯⨯=∆∴∆>∆Ω==-σσρp u p p p p cm 的贡献主要是所以少子对电导的贡献献少数载流子对电导的贡其中非平衡载流子将衰减到原来的百分之几?5. n 型硅中,掺杂浓度N D =1016cm -3, 光注入的非平衡载流子浓度n=p=1014cm -3。
第5章 非平衡载流子1. 一个n 型半导体样品的额外空穴密度为1013cm -3,已知空穴寿命为100s ,计算空穴的复合率。
解:复合率为单位时间单位体积内因复合而消失的电子-空穴对数,因此1317306101010010U cm s ρτ--===⋅⨯ 2. 用强光照射n 型样品,假定光被均匀吸收,产生额外载流子,产生率为g p ,空穴寿命为,请①写出光照开始阶段额外载流子密度随时间变化所满足的方程; ②求出光照下达到稳定状态时的额外载流子密度。
解:⑴光照下,额外载流子密度n =p ,其值在光照的开始阶段随时间的变化决定于产生和复合两种过程,因此,额外载流子密度随时间变化所满足的方程由产生率g p 和复合率U 的代数和构成,即()p d p pg dt τ=-⑵稳定时额外载流子密度不再随时间变化,即()0d p dt=,于是由上式得0p p p p g τ∆=-=3. 有一块n 型硅样品,额外载流子寿命是1s ,无光照时的电阻率是10cm 。
今用光照射该样品,光被半导体均匀吸收,电子-空穴对的产生率是1022/cm 3s ,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数载流子的贡献占多大比例?解:光照被均匀吸收后产生的稳定额外载流子密度226163101010 cm p p n g τ-∆=∆==⨯=-取21350/()n cm V s μ=⋅,2500/()p cm V s μ=⋅,则额外载流子对电导率的贡献1619()10 1.610(1350500) 2.96 s/cm n p pq σμμ-=∆+=⨯⨯⨯+=无光照时0010.1/s cm σρ==,因而光照下的电导率0 2.960.1 3.06/s cmσσσ=+=+=相应的电阻率 110.333.06cm ρσ===Ω⋅ 少数载流子对电导的贡献为:p p p p q p pq pq g σμμτμ=≈=代入数据:16190()10 1.6105000.8/p p p p p q pq s cm σμμ-=+∆≈∆=⨯⨯⨯=∴00.80.26263.06p σσσ===+﹪ 即光电导中少数载流子的贡献为26﹪4.一块半导体样品的额外载流子寿命 =10s ,今用光照在其中产生非平衡载流子,问光照突然停止后的20s 时刻其额外载流子密度衰减到原来的百分之几?解:已知光照停止后额外载流子密度的衰减规律为0()tP t p e τ-=因此光照停止后任意时刻额外载流子密度与光照停止时的初始密度之比即为()t P t e P τ-= 当520210t s s μ-==⨯时20210(20)0.13513.5P e e P --====﹪ 5. 光照在掺杂浓度为1016cm -3的n 型硅中产生的额外载流子密度为n=p=1016cm -3。
计算无光照和有光照时的电导率。
解:根据新版教材图4-14(a )查得N D =1016cm -3的n 型硅中多子迁移率21100/()n cm V s μ=⋅少子迁移率2500/()p cm V s μ=⋅设施主杂质全部电离,则无光照时的电导率16190010 1.6101100 1.76 s/cm n n q σμ-==⨯⨯⨯=有光照时的电导率14190() 1.7610 1.610(1100400) 1.784 s/cm n p nq σσμμ-=+∆+=+⨯⨯⨯+=6.画出p 型半导体在光照(小注入)前后的能带图,标出原来的费米能级和光照时的准费米能级。
光照前能带图 光照后(小注入)能带图注意细节:① p 型半导体的费米能级靠近价带;② 因为是小注入,p <<p 0,即p =(p 0+p )≈p 0,因此E Fp 非常靠近E F ,但E Fp 必须在E F 之下,因为p 毕竟大于p 0③ 即便是小注入,p 型半导体中也必是n >>n 0,故E Fn 要远比E F 更接近导带,但因为是小注入,n <<p 0,所以E Fn 距导带底的距离必大于E F 距价带顶的距离。
上述带色字所强调的两个细节学生容易忽略,要多加关注。
7. 光照在施主浓度N D =1015cm -3的n 型硅中产生额外载流子n=p=1014cm -3。
试计算这种情况下准费米能级的位置,并和原来的费米能级作比较。
解:设杂质全部电离,则无光照时0D n N = 由0i F E E kTi n n e--=得光照前1501010ln 0.026ln 0.2891.510F i i i i n E E kT E E n =+=+=+⨯eV 光照后1530 1.110n n n cm -=+=⨯,这种情况下的电子准费米能级15101.110ln 0.026ln 0.291 eV 1.510Fn i i i i n E E kT E E n ⨯=+=+=+⨯ 空穴准费米能级141010ln 0.026ln 0.229 eV 1.510F pi i i i p E E kT E E n ==-=-⨯-与E F 相比,电子准费米能级之差0.002 eV Fn F E E -=,相差甚微;而空穴准费米能级之差E VE F E FnE FpE C0.518 eV F Fp E E -=,即空穴准费米能级比平衡费米能级下降了0.52eV 。
由此可见,对n 型半导体,小注入条件下电子准费米能级相对于热平衡费米能级的变化很小,但空穴准费米能级变化很大。
8. 在一块p 型半导体中,有一种复合-产生中心,小注入时,被这些中心俘获的电子发射回导带的过程和它与空穴复合的过程具有相同的几率。
试求这种复合-产生中心的能级位置,并说明它能否成为有效的复合中心?解:用E T 表示该中心的能级位置,参照参考书的讨论,知单位时间单位体积中由E T 能级发射回导带的电子数应等于E T 上俘获的电子数n T 与电子的发射几率S -之积(S -=r n n 1),与价带空穴相复合的电子数则为r p pn T ;式中,r p p 可视为E T 能级上的电子与价带空穴相复合的几率。
由题设条件知二者相等,即1n p r n r p =式中1C T E E kTC n N e--=。
对于一般复合中心,n p r r ≈或相差甚小,因而可认为 n 1=p ;再由小注入条件p =(p 0+p )≈p 0,即得10n p即C T F V E E E E kTkTC V N eN e----=由此知ln CT C V F VN E E E E kT N =+-- ∵本征费米能级01(ln )2c i c v vN E E E k T N =+- ∴上式可写成2T i F E E E =-,或写成T i i F E E E E -=-室温下, p 型半导体F E 一般远在i E 之下,所以T E 远在i E 之上,故不是有效复合中心。
10.一块n 型硅内掺有1016cm -3的金原子,试求它在小注入时的寿命。
若一块p 型硅内也掺有1016cm -3的金原子,它在小注入时的寿命又是多少?解:n 型Si 中金能级作为受主能级而带负电成为Au -,其空穴俘获率731.1510/p r cm s -=⨯因而n 型Si 中的少子寿命10716118.710 1.151010p p T s r N τ--==≈⨯⨯⨯ p 型Si 中金能级作为施主能级而带正电成为Au +,其电子俘获率836.310/n r cm s -=⨯因而p 型Si 中的少子寿命9816111.59106.31010n n T s r N τ--==≈⨯⨯⨯11.在下述条件下,是否有载流子的净复合或者净产生:① 载流子完全耗尽(即n ,p 都大大小于n i )的半导体区域。
② 在只有少数载流子被耗尽(例如p n <<p n0而n n =n n0)的半导体区域。
③ 在n=p 的半导体区域,这里n >>n i 。
解:⑴载流子完全耗尽即意味着i nn ,i p n ,2i npn ,因而额外载流子的复合率0020()()i c i t i E E E E k Tk Tp i n i np n U n n ep n eττ---=<+++ 即该区域产生大于复合,故有载流子净产生。
⑵若0n n n n =,0nn p p ,则002n nn n i n p n p n =,即2i npn按上列复合率公式知该区域复合率U <0,故有载流子净产生。
⑶若n p =且i n n ,则必有2i npn ,按上列复合率公式知该区域U >0,即该区域有载流子的净复合。
12、对掺杂浓度N D =1016cm -3、少数载流子寿命p =10s 的n 型硅,求少数载流子全部被外界清除时电子-空穴对的产生率。
(设E T =E i )解:在少数载流子全部被清除(耗尽)、即n 型硅中p=0的情况下,通过单一复合中心进行的复合过程的复合率公式 (5-42) 变成2()i p i n in U n n n ττ-=++ 式中已按题设E T =E i 代入了n 1=p 1=n i 。
由于n =N D =1016cm -3,而室温硅的n i 只有1010cm -3量级,因而n +n i >>n i ,上式分母中的第二项可略去,于是得210293161610(1.510)U 2.2510 cm s ()1010(10 1.510)i p i n n n τ----⨯===-⨯⋅+⨯⨯+⨯- 复合率为负值表示此时产生大于复合,电子-空穴对的产生率9312.2510 cm s G U --=-=⨯⋅另解:若非平衡态是载流子被耗尽,则恢复平衡态的驰豫过程将由载流子的复合变为热激发产生,产生率与少子寿命的乘积应等于热平衡状态下的少数载流子密度,因此得22001i i p p p D p n n G n N τττ==⋅=102931616(1.510) 2.2510 cm s 101010---⨯==⨯⋅⨯⨯ 注意:严格说,上式(产生率公式)中的少子寿命应是额外载流子的产生寿命而非小注入复合寿命。
产生寿命 sc 与小注入复合寿命n 和p 的关系为(见陈治明、王建农合著《半导体器件的材料物理学基础》p.111):T i i T E E E E kTkTsc p n eeτττ--=+13. 室温下,p 型锗中电子的寿命为n=350s ,电子迁移率n=3600cm 2/V s ,试求电子的扩散长度。
解:由爱因斯坦关系知室温下半导体中电子的扩散系数140n n n kT D q μμ== 相应地,扩散长度40nn n n n L D μττ==代入数据得室温下p 型Ge 中电子的扩散长度6223600350103151017.710 cm 1.77 mm 40n L ---=⨯⨯=⨯=⨯= 14. 某半导体样品具有线性分布的空穴密度,其3m 内的密度差为1015cm -3,p =400cm 2/Vs 。