第28卷增刊 2007年8月 材料热处理学报
TRANSACTIONS OF MATERIAI,S AND HEAT TREATMENT Vo1.28 Supplement August 2007
热处理工艺对(111)取向Pt薄膜物相与结构的影响
江民红,顾正飞,陈国华,成钢,申罡
(桂林电子科技大学信息材料科学与工程系,广西桂林541004)
摘要:采用射频磁控溅射法成功制备了(111)取向的Pt薄膜。在研究退火工艺对Pt薄膜(111)取向生长的影响基础上, 着重研究了退火工艺对Pt薄膜与缓冲层Pr薄膜间的互扩散及薄膜物相、结构的影响规律。结果表明:250℃保温5至25小时,
Pt薄膜沿(111)择优取向生长,但保温时间对取向生长的影响不大,此时薄膜为立方结构;当500"C再分别保温2h和4h时,最
初沿(111)取向生长的Pt薄膜与Pr薄膜发生互扩散现象,生成BFe结构的PrPt相,保温2h时,除生成PrPt相外,还可能存在
一定量的取向Pt,保温4h时,薄膜中只存在PrPt相。本实验为制备(111)强烈取向Pt薄膜开拓了一条新的工艺及方法,同 时为控制Pt薄膜的结构与性能、进行开发应用提供了实验依据。
关键词:Pt薄膜;(111)取向;射频磁控溅射:热处理工艺:PrPt相 中图分类号:TB43;TB31
Effect of heat treatment processing on phases and microstructures of(111)
orientation preference Pt films
JIANG Min—hong,GU Zheng—fei,CHEN Guo—hua,CHENG Gang,SHEN Gang
(Department of Information Material Science and Engineering,Guilin Univercity of Electronic Technology,Guilin