塑料基板之真空镀膜技术及其应用

塑料真空镀膜的相关概述介绍一、工艺流程塑料真空镀膜的常用工艺流程包括：基材表面处理、真空蒸发、离子镀膜、清洗与包装。

基材表面处理是首要步骤，其目的是清除塑料表面的污染物以提高镀膜质量。

真空蒸发是将要镀的材料加热至昇华状态，蒸发后附着在塑料表面形成镀层。

离子镀膜是在真空环境中通过离子束轰击镀层，使其更加致密、附着力更强。

最后进行清洗与包装，确保产品的质量和外观。

二、技术原理1.蒸发：将要镀的材料加热至昇华状态，使其转化为蒸汽形式，然后通过真空环境将蒸汽输送到塑料表面，形成附着在塑料表面的镀层。

2.离子镀膜：离子镀膜是在真空环境中，通过引入离子束轰击镀层，使其重排结构，提高附着力和密着度。

离子束轰击还能改善镀层中的应力和控制其颗粒大小。

3.基材表面处理：基材表面处理是清除表面的污染物、氧化物、油脂等，以便提高镀层的附着力。

常用的表面处理方法包括久置灰、化学清洗、离子轰击等。

三、应用领域1.电子产品：塑料真空镀膜能够使电子产品的外观更加美观，并提高耐磨性和耐化学性，例如镀膜后的手机外壳、鼠标等。

2.汽车行业：塑料真空镀膜能够提高汽车零部件的防腐、阻隔性和耐磨性，例如车内装饰品、外观件等。

同时还能提升汽车外观的质感。

3.包装行业：塑料真空镀膜可以提高包装材料的阻氧、阻湿、阻光性能，适用于食品、医药等行业的包装材料，延长产品保质期。

4.家用电器：塑料真空镀膜技术可以为家用电器增添高端质感，提高产品外观的吸引力和市场竞争力。

5.其他领域：塑料真空镀膜技术还可以应用于玩具、眼镜、手表、珠宝等各个领域，为其增加附加值和市场竞争力。

总结：塑料真空镀膜技术是一种常用的塑料表面处理技术，通过工艺流程包括基材表面处理、真空蒸发、离子镀膜、清洗与包装等步骤来实现。

该技术的原理主要包括蒸发、离子镀膜和基材表面处理。

塑料真空镀膜广泛应用于电子产品、汽车行业、包装行业、家用电器等各个领域，提高产品的外观和性能，增加市场竞争力。

真空镀膜的工作原理
真空镀膜是一种将材料沉积在基底表面形成薄膜的方法，其工作原理基于薄膜材料的物理气相沉积过程。

下面是详细的工作原理解释：
1. 需要镀膜的材料（称为靶材）被置于真空腔室中。

腔室被抽成高度真空状态，以消除气氛中的气体分子，以确保薄膜的质量和延展性。

2. 充电电源将高电压应用于靶材上，将其激发成等离子体。

通过此过程，靶材的原子和分子被解离，形成带有正电荷的离子和自由电子。

3. 离子和自由电子在真空室中快速移动，并与基底表面相互碰撞。

4. 离子以极高的动能撞击基底表面，使得离子沉积在基底上，形成薄膜。

5. 薄膜的组成和性质取决于靶材的材料和原子成分，以及镀膜过程中的其他参数调控，如沉积速率、温度等。

值得注意的是，真空镀膜过程中常见的薄膜材料有金属、陶瓷、半导体等，在不同应用领域中具有各自的特性和功能。

真空镀膜广泛应用于光学、电子、通信等领域，用于增强表面特性、改善光学性能、提供防腐蚀保护等。

塑料真空电镀工艺流程
《塑料真空电镀工艺流程》
塑料真空电镀工艺是一种将金属覆盖在塑料表面以增加其外观和功能性的方法。

它能够赋予塑料产品金属质感，增加光泽和耐磨性。

首先，塑料制品被简单地清洁和处理以去除表面的污垢和油脂。

然后，该产品被放置在真空室中，真空室内的气体被抽除。

接下来，金属被加热至高温并蒸发成气体，随后被沉积到塑料表面。

这种过程称为真空沉积。

通过控制温度和沉积时间，可以控制金属沉积的厚度。

在金属沉积完成后，清洁剂被使用来清洁产品表面，并且产品被检查以确保沉积的金属均匀和完整。

最后，产品经过抛光处理以增加光泽并呈现出最终的外观。

塑料真空电镀工艺流程可以应用于各种类型的塑料制品，例如汽车零部件、电子产品外壳和首饰。

它可以增加产品的价值，并提高其外观品质。

随着技术的不断进步，塑料真空电镀工艺正在变得更加高效和环保，逐渐成为塑料制品表面处理的首选工艺之一。

真空镀膜技术一、概述真空镀膜技术是一种利用真空条件下的物理或化学反应，将金属或非金属材料沉积在基材表面形成一层薄膜的技术。

该技术具有广泛的应用领域，包括光学、电子、医疗、环保等。

二、原理真空镀膜技术利用真空条件下的物理或化学反应，将金属或非金属材料沉积在基材表面形成一层薄膜。

其主要原理包括：1. 离子镀膜：利用离子轰击基材表面使其表面活性增强，然后通过离子束轰击目标材料产生离子和原子，最终在基材表面形成一层薄膜。

2. 蒸发镀膜：将目标材料加热至其沸点以上，在真空环境中使其升华并沉积在基材表面形成一层薄膜。

3. 磁控溅射镀膜：利用高能量离子轰击靶材产生靶材原子，并通过磁场控制靶材原子沉积在基材表面形成一层薄膜。

三、设备真空镀膜技术需要使用专门的设备，主要包括：1. 真空镀膜机：包括离子镀膜机、蒸发镀膜机和磁控溅射镀膜机等。

2. 真空泵：用于将反应室内的气体抽出，使其达到真空状态。

3. 控制系统：用于控制反应室内的温度、压力、离子束能量等参数。

四、应用真空镀膜技术具有广泛的应用领域，包括：1. 光学：利用金属或非金属材料在基材表面形成一层反射或透过特定波长光线的薄膜，制作光学器件如反射镜、滤光片等。

2. 电子：利用金属或非金属材料在基材表面形成一层导电或绝缘的薄膜，制作电子元器件如晶体管、集成电路等。

3. 医疗：利用金属或非金属材料在基材表面形成一层生物相容性好的涂层，制作医疗器械如人工关节、心脏起搏器等。

4. 环保：利用金属或非金属材料在基材表面形成一层具有催化作用的薄膜，制作环保设备如汽车尾气净化器、工业废气处理设备等。

五、优势真空镀膜技术具有以下优势：1. 薄膜厚度可控：通过控制反应条件和时间，可以精确控制薄膜的厚度。

2. 薄膜质量高：在真空环境中进行反应，可以避免杂质和气体的污染，从而保证薄膜质量高。

3. 应用广泛：真空镀膜技术可以应用于多种材料和领域，具有广泛的应用前景。

六、挑战真空镀膜技术面临以下挑战：1. 成本高：真空镀膜设备和耗材成本较高，限制了其在大规模生产中的应用。

真空镀膜技术真空镀膜技术是一种先进的表面处理技术，它可以在各种材料表面上形成一层薄膜，从而改变其物理、化学和光学性质。

这种技术已经广泛应用于电子、光学、航空航天、汽车、医疗和建筑等领域，成为现代工业中不可或缺的一部分。

真空镀膜技术的原理是利用真空环境下的物理和化学反应，将金属、合金、陶瓷、聚合物等材料蒸发或溅射到基材表面上，形成一层薄膜。

这种薄膜可以具有不同的功能，如增强材料的硬度、耐磨性、耐腐蚀性、导电性、光学透明性等。

真空镀膜技术可以通过控制薄膜的厚度、成分和结构来实现不同的功能。

真空镀膜技术的应用非常广泛。

在电子领域，它可以用于制造集成电路、显示器、太阳能电池等。

在光学领域，它可以用于制造反射镜、透镜、滤光片等。

在航空航天领域，它可以用于制造发动机叶片、航空仪表等。

在汽车领域，它可以用于制造车灯、镜面等。

在医疗领域，它可以用于制造人工关节、牙科修复材料等。

在建筑领域，它可以用于制造玻璃幕墙、防紫外线涂料等。

真空镀膜技术的优点是显而易见的。

首先，它可以在不改变基材性质的情况下，改变其表面性质，从而实现不同的功能。

其次，它可以制造出高质量、高精度的薄膜，具有良好的光学、电学和机械性能。

再次，它可以在大面积、复杂形状的基材上进行镀膜，具有很高的生产效率。

最后，它可以使用多种材料进行镀膜，具有很高的灵活性和适应性。

当然，真空镀膜技术也存在一些挑战和限制。

首先，它需要高昂的设备和技术投入，成本较高。

其次，它对基材表面的处理要求较高，需要进行清洗、抛光等处理，否则会影响薄膜的质量。

再次，它对环境的要求较高，需要在无尘、无湿、无氧的环境下进行。

最后，它的应用范围受到材料的限制，某些材料不适合进行真空镀膜。

总的来说，真空镀膜技术是一种非常重要的表面处理技术，具有广泛的应用前景。

随着科技的不断进步和应用领域的不断扩展，真空镀膜技术将会得到更加广泛的应用和发展。

塑料真空镀膜的相关概述介绍目前真空镀膜应用的行业领域广泛，塑料薄膜也经常使用到真空镀膜。

塑料的真空镀层厚度均匀性可以使用透光率在线监测仪来连续监测。

以珠光膜为具代表性，光学透光率可以测量真空镀薄膜厚度的均匀性，确保真空镀薄膜的在线生产品质。

塑料的真空镀层与光固化有机涂层的复合，一般采用真空镀铝与光固化有机涂层的复合；但在防护等性能上受到很大的限制。

真空镀铬是今后的发展方向之一。

真空镀铬层具有比铝镀层更美丽的银白金属光泽，在大气中有很强的钝化性能；在碱、硝酸、硫化物、碳酸盐、有机酸等腐蚀介质中稳定，还有较高的硬度，良好的耐磨性和耐热性。

但是，铬的熔点为1900℃，在1397℃时铬的蒸气压为1.33Pa，铬的蒸发温度高，用真空蒸发镀铬较为困难。

如果采用磁控溅射法，由于铬质脆，难以做成圆柱靶，那么在一般的磁控溅射条件下；平面磁控溅射因受靶框材料污染等原因，镀铬层的色泽显著偏离银白色。

再次，所选择的底涂层必须有足够的耐热性和耐辐射性，与基材及真空镀膜层有良好的结合力；不能相互发生化学反应，并有良好的流平性，在真空条件下只有很少的挥发成分，不吸收水分，固化后表面高度光滑等。

在众多的涂料中，聚丁二烯涂料基本能满足上述条件，但是这种涂料属于热固化涂料，并且固化温度高，固化时间长，不能用于塑料的真空镀膜。

真空镀膜后通常要涂覆面涂层，使真空镀膜层得到保护。

对面涂层的基本要求是：与真空镀膜层（一般是金属镀层）的附着力良好，固化后涂层无较大内应力，与底涂层有一定的相容性；有足够的硬度、耐划伤性、耐磨性，较高的耐水性、耐蚀性、耐候性、耐化学品性等性能，有适宜的黏度和良好的流平性。

对于需要突出真空镀膜层色泽时，面涂层还应具有高的可见光透过率和表面光泽度。

对于真空镀铬层用光固化面涂层，至今尚未找到理想的品种；主要问题是：与镀铬层的附着力不良，硬度、耐磨性、耐候性等不能满足产品的高要求。

目前研究方向是改进配方，采用纳米粒子改性以及选用合适的无机镀层。

真空镀膜真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。

在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。

其工艺流程一般如下：1、表面处理：通常，镀膜之前，应对基材（镀件）进行除油、除尘等预处理，以保证镀件的整洁、干燥，避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。

对于特殊材料，如PE（聚乙烯）料等，还应对其进行改性，以达到镀膜的预期效果。

2、底涂：底涂施工时，可以采用喷涂，也可采用浸涂，具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。

采用喷涂方法，可采用SZ-97T镀膜油；采用浸涂方法，可采用的SZ-97、SZ-97+1等油，具体应视镀件材料而定。

参见产品展示中各产品的适应范围。

3、底涂烘干：我公司生产的SZ-97镀膜油系列均为自干型漆，烘干的目的是为了提高生产效率。

通常烘干的温度为60-70℃，时间约2小时。

烘干完成的要求是漆膜完全干燥。

4、镀膜：镀膜时，应保证镀膜机的真空度达到要求后，再加热钨丝，并严格控制加热时间。

同时，应掌握好镀膜用金属（如铝线)的量，太少可能导致金属膜遮盖不住底材，太多则除了浪费外，还会影响钨丝寿命和镀膜质量。

5、面涂：通常面涂的目的有以下两个方面：A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性；B、为水染着色提供可能。

深展公司生产的SZ-97油系列产品均可用于面涂，若镀件不需着色，视客户要求，可选用911、911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。

6、面涂烘干：通常面涂层较底涂层薄，故烘干温度较低，约50-60℃，时间约1~2小时，用户可根据实际情况灵活把握，最终应保证面涂层彻底干燥。

如果镀件不需着色，则工序进行到此已经结束。

7、水染着色：如果镀件需要进行水染着色，则可将面漆已经烘干的镀件放进染缸里，染上所需颜色，之后冲洗晾干即可。

染色时要注意控制水的温度，通常在60~80℃左右，同时应控制好水染的时间。

水染着色的缺点是容易褪色，但成本较低。

各种水染色粉我公司有配套销售。

af真空镀膜工艺AF真空镀膜工艺是一种常用的表面处理技术，广泛应用于光学、电子、材料等领域。

本文将介绍AF真空镀膜工艺的原理、应用及其优势。

一、AF真空镀膜工艺的原理AF真空镀膜工艺是指在真空环境下，利用物理或化学的方法将一层或多层材料沉积在基板表面，形成一种具有特定功能的薄膜。

该工艺主要包括蒸发、溅射和离子镀三种方式。

1. 蒸发镀膜：将待镀材料置于加热源中，使其升华并沉积在基板表面。

这种方式适用于高熔点材料的镀膜，如金属和氧化物材料。

2. 溅射镀膜：通过物理碰撞的方式使材料从靶上脱落，并在基板表面沉积。

这种方式适用于大多数材料的镀膜，如金属、合金和化合物材料。

3. 离子镀膜：利用离子轰击的方式使材料离子化，并在基板上形成薄膜。

这种方式适用于高质量的镀膜，如光学薄膜和陶瓷薄膜。

二、AF真空镀膜工艺的应用AF真空镀膜工艺在各个领域都有广泛的应用。

1. 光学领域：AF真空镀膜工艺可以制备具有特定光学性质的薄膜，如反射镜、透镜、滤光片等。

这些光学元件广泛应用于激光器、光纤通信、太阳能电池等领域。

2. 电子领域：AF真空镀膜工艺可以制备导电薄膜、隔热薄膜和保护膜等。

这些薄膜常用于液晶显示器、太阳能电池、半导体器件等电子产品中。

3. 材料领域：AF真空镀膜工艺可以改善材料的表面性能，如硬度、耐磨性和抗腐蚀性等。

这些材料广泛应用于航空航天、汽车制造、工具制造等行业。

三、AF真空镀膜工艺的优势AF真空镀膜工艺相比传统的表面处理方法具有以下优势。

1. 高纯度：在真空环境下进行镀膜，可以避免杂质的污染，获得高纯度的薄膜。

2. 高均匀性：通过控制沉积速率和沉积时间，可以获得均匀的薄膜厚度和成分。

3. 高精度：AF真空镀膜工艺可以控制薄膜的厚度和成分，从而实现对光学、电学和磁学性能的精确调控。

4. 环保节能：AF真空镀膜工艺不需要使用有害溶剂和化学试剂，减少了对环境的污染，并且能耗较低。

5. 多功能性：AF真空镀膜工艺可以制备多层复合膜、多层堆积膜和纳米薄膜等，满足不同领域的需求。

镀膜时间
镀膜时间过长或过短都会影响薄膜的 质量和性能，需要根据工艺要求进行 选择。
04
真空镀膜技术的研究进展
高性能薄膜材料的制备与应用
高性能薄膜材料的制备
随着科技的发展，真空镀膜技术已经能够制备出具有优异性能的薄膜材料，如金刚石薄膜、类金刚石 薄膜、氮化钛薄膜等。这些高性能薄膜材料在刀具、模具、航空航天等领域具有广泛的应用前景。
详细描述
金属薄膜主要用于制造各种电子器件，如集 成电路、微电子器件、传感器等。通过在电 子器件表面镀制金属薄膜，可以起到导电、 导热、抗氧化等作用，提高电子器件的性能 和稳定性。此外，金属薄膜还可以用于制造
磁性材料，如磁记录介质、磁流体等。
功能薄膜的制备与应用
要点一
总结词
功能薄膜在真空镀膜技术中具有广泛的应用前景，可用于 制造各种新型材料和器件。
VS
面临的挑战
尽管真空镀膜技术具有广泛的应用前景和 巨大的发展潜力，但仍面临许多挑战和难 点。例如，如何提高薄膜的附着力和稳定 性、如何降低生产成本和提高生产效率等 。
05
真空镀膜技术的应用实例
光学薄膜的制备与应用
总结词
光学薄膜在真空镀膜技术中具有广泛应用， 主要用于提高光学器件的性能和降低光损失 。
光学领域
用于制造光学元件，如反射镜 、光学窗口等，提高其光学性 能和抗磨损能力。
建筑领域
用于建筑玻璃、陶瓷等材料的 表面装饰和防护，提高其美观 度和耐久性。
02
真空镀膜技术的基本原理
真空环境的形成与维持
真空环境的形成
通过机械泵、分子泵、离子泵等抽气 设备，将容器内的气体逐渐抽出，形 成真空状态。
关闭加热系统和真空泵， 完成镀膜过程。

真空镀膜工艺介绍真空镀膜是一种利用真空条件下进行表面薄膜沉积的工艺方法。

通过将材料加热到蒸发温度并使气体或金属源蒸发，然后使蒸发物质沉积在基材表面上，形成薄膜。

真空镀膜技术广泛应用于光学、电子、航空航天、建筑和装饰等领域。

真空镀膜工艺大致分为四个主要步骤。

首先是蒸发源制备，该步骤包括选择适当的材料作为蒸发源，通常为金属或化合物。

然后，将蒸发源放置在真空室中的加热系统中，加热到材料的蒸发温度。

蒸发温度取决于材料的熔点和所要制备的薄膜的特性。

第二步是真空系统的准备，通常需要将真空室抽真空以减少残留气体的影响。

真空级别通常达到10^-3或更高，以确保在蒸发过程中气体分子对薄膜形成的影响最小化。

真空系统还应具备稳定的真空度和泄漏度，以确保蒸发过程的可重复性和稳定性。

接下来是薄膜沉积过程，通常有三种主要的薄膜沉积技术：蒸发沉积、溅射沉积和反应蒸发沉积。

在蒸发沉积中，蒸发源加热到蒸发温度时，蒸发的材料由于热蒸汽的运动而扩散到基材表面，形成均匀的薄膜。

溅射沉积是将高速离子束或电子束轰击材料表面，将材料溅射到基材表面上，形成薄膜。

反应蒸发沉积是通过在蒸发源和基材之间引入可反应的气体，使其与蒸发物质反应生成薄膜。

最后是工艺的监控和控制。

在薄膜沉积过程中，应对薄膜的厚度、成分和结构进行监控和控制。

常用的技术包括薄膜厚度测量、光学薄膜监控和电子束控制。

这些技术可以保证薄膜具有所需的光学、电学和机械性能。

真空镀膜工艺有许多优点。

首先，真空条件下薄膜的成分和结构可以得到精确控制，可实现针对不同应用的需求。

其次，真空镀膜过程不会产生污染和氧化，可以得到高质量的薄膜。

此外，真空镀膜具有高效、节能的特点，是一种相对环保的表面处理技术。

总而言之，真空镀膜是一种应用广泛的表面处理技术，可以用于制备具有各种功能的薄膜。

通过合理选择材料、优化工艺参数和精确的监控，可以获得具有高质量、可重复性和稳定性的薄膜，满足不同领域的需求。

塑胶真空镀膜工艺虽然塑料可以在很多场合代替金属，但显而易见缺乏金属的质感，为此，需要采用一定的方法，在塑料表面镀上一层金属（铝，锌，铜，银，金，铬等），一种方法是采用类似化学镀和电镀的方法，另一种方法是在塑料表面进行真空喷镀金属-----即在真空状态下，将金属融化后，以分子或原子形态沉积在塑料表面形成5-10um的金属膜。

真空喷镀金属需要与塑料表面底漆之间良好的配合，底漆的厚度通常为10-20um。

主要作用是防止塑料中水、有机溶剂、增塑剂等排出影响金属附着。

要涂层硬度高、底漆具有可以修复塑料缺陷，提供一个光滑、平整的平面以利于真空镀的性能，并与塑料底材和所镀金属附着牢固。

通常选用双组份常温固化的聚氨酯和环氧涂料，低温烘烤的氨基涂料以及热塑性丙烯酸酯涂料。

金属镀膜在空气中容易氧化变暗，同时还存在细微的针孔等缺陷，所以要再涂上一层5-10um的保护面漆。

对面漆的要求是：透明、优良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金属镀膜，对金属镀膜附着牢固，通常可采用丙烯酸酯清漆、聚酯清漆、聚氨酯清漆等。

当底漆采用的是热塑性丙烯酸酯涂料时，为防止面漆溶剂通过镀膜缺陷溶蚀私底漆，可以选用弱溶剂、快干性的面漆，如丙烯酸改性醇酸清漆、聚乙烯醇缩丁权清漆、聚氨油等。

真空镀金属的工艺流程为：塑料表面处理（净化、活化）涂底漆干燥真空镀金属涂面漆干燥，其工艺流程做简要介绍：产品表面清洁去静电喷底漆烘烤底漆真空镀膜喷面漆烘烤面漆包装。

在全部的工艺流程中，有如下几点决定了工艺的成败。

（1）需要加工的零部件表面状态。

这包括产品是否存在缺陷，表面状态，表面污染物等。

（2）表面缺陷的存在会导致外观件最终的美观度。

相当于微小缺陷的存在，喷涂工艺可以掩盖。

但是在注塑或者冲压成型的过程中造成的批量瑕疵品必须在进货检验前剔除。

（3）表面状态，这涉及是否透明件，表面特殊粗糙度设计。

设计外观状态要求的，必须在工艺制定前考虑整体工艺路线，否则完成后难以得到预想的外观效果。

真空鍍膜技術
蒸發源（VaΒιβλιοθήκη or Source）凌國基老師
1
蒸發率
1913年，Langmuir提出，蒸發率為
5.85 ×10-5 ×a P u M （g.cm7.sec1） T
• Pu：10-3 torr蒸氣壓 • M：a Mol of the substance being evaporated • T：Temperature in °K • a：condensation，大約為1 • 所以蒸發率與蒸氣壓最有關。
圖三
圖四
圖五 24
鉬舟DIY
• 步驟四：把鉬片往下摺出把手，把手的目的是用來夾住兩邊的電極，如 圖六、圖七。
圖六
圖七
• 最後小心的把螺絲鬆開，就完成了一個鉬舟。如果怕蒸鍍的材料再加熱 的過程中會濺出來的話，也可以用一樣的工具作一個蓋子放在鉬舟上面。 蓋子上要打幾個洞讓蒸氣由洞口跑出來。這樣一方面可以防止材料飛濺 也可以控制蒸鍍的速率。
如圖一 。
圖一
※ 方形金屬塊的大小因鉬舟的大小不同而有所不同。
• 再來我們要把鉬片剪成適當大小的矩形，如圖二 。 長=兩邊把手長+兩倍舟的深度+舟底的長度 寬=舟的寬度+兩倍舟的深度
圖二 23
鉬舟DIY
• 步驟一：把一塊金屬塊放在鉬片的中間把兩邊向上摺，用另兩塊夾住並 且用螺絲鎖緊，如圖三。
• 步驟二：把鉬片的兩邊向上摺，並且貼緊兩邊的金屬塊如圖四。 • 步驟三：把鉬片的兩邊向內摺，如圖五。
會受到影響的。因此通常鍍金屬都是要快速進行，以免受氧化作
用。
10
• 最麻煩的狀況就是氧化物在高溫的時候不會分解，如氧化 鉻。
• 舉例說明：金屬通常都是由表面發揮，除非加熱速度很快， 被鍍物溫度分佈不均、或是金屬表面有一層不透、不揮發 的氧化膜時，此時金屬會在氧化膜內部形成泡泡而濺出質 點，當我們拿出基板上面會出現在如水滴乾掉的水漬痕跡 (原本應該是鍍出一個完整的平面)。

在塑料基板具轻、薄、耐冲击及可挠曲的优势下，取代玻璃基板应用于各种光学镀膜及导电膜制镀是未来发展之趋势。

但塑料基板上在镀膜上也遭遇到一些瓶颈待克服，如薄膜附着性、低温镀膜所造成膜质不佳等问题。

本文旨将针对在塑料基板上制镀各种薄膜之技术，包含光学级塑料基板选择、镀膜前处理及表面改质、各种镀膜制程及其应用的近况做一简单介绍。

More attentions are being given to pPlastic based devices have received i ncreasing attention because of owing to their potential properties such as lightweight, thin, flexible and high impact resistance on the applications of integrated circuits (IC) and flat panel displays. Nowadays the Current demands on the flexible devices are more robust, high-thermal enduring that could be suitable appropriate for various kind of vacuum coating processes. This paper will illustratearticle describes the applications of vacuum coating technology on a plastic substrate. ThatExactly how to select a moderately plastic substrate for the vacuum coating purpose, pre-treatment of plastic substrate and various of coating process are is also discussed in this paper.一、前言未来塑料基板取代玻璃基板成为次世代显示器材料是可期的。

21世纪初
随着新材料和新技术的应 用，真空镀膜技术不断发 展和创新，应用领域越来 越广泛。
02
真空镀膜技术原理
真空环境的建立
真空环境的必要性
为了使镀膜材料在基片上形成连续、 无缺陷的膜层，需要创造一个低气压 的真空环境，以减少气体分子的阻碍 和干扰。
真空获得技术
真空检测与监控
使用真空计对镀膜室的真空度进行实 时监测，确保镀膜过程的稳定性和重 复性。
薄膜制备技术
采用物理气相沉积或化学气相沉积等方法，在超导材料表面形成连 续、均匀的薄膜。
薄膜性能优化
通过调整薄膜的成分、结构和厚度等参数，提高超导薄膜的性能和 稳定性。
装饰薄膜的制备
金属质感膜
01
通过真空镀膜技术在塑料或玻璃表面形成具有金属质感的装饰
膜，提高产品的外观和档次。
彩色膜
02
根据不同的颜色需求，在材料表面形成各种颜色的装饰膜，实
包括加热元件、控温装 置等，用于加热膜料和
蒸发沉积。
控制系统
包括各种传感器、控制 器、执行器等，用于监 测和控制设备的运行状
态。
供气系统
包括气瓶、气体流量计 、减压阀等，用于提供 反应气体和保护气体。
真空镀膜工艺流程
清洁处理
对基材表面进行清洗，去除油污和杂质。
预处理
对基材表面进行活化，提高其附着力和润湿性。
通过机械泵、分子泵、涡轮泵等抽气 设备，将镀膜室内的气体抽出，达到 所需的真空度。
镀膜材料的蒸发与输运
蒸发源的选择
根据镀膜材料的性质，选 择合适的蒸发源，如电阻 加热、电子束加热、激光 加热等。
蒸发过程控制
通过调节蒸发源的功率和 温度，控制镀膜材料的蒸 发速率，以获得所需的膜 层厚度和成分。

深圳塑胶真空镀膜的工艺
深圳塑胶真空镀膜的工艺如下：
1.材料准备：准备需要镀膜的塑料制品，如PC、PP、PE等。

2.清洗处理：将塑料制品进行清洗，去除表面的污垢和油脂，保证表面干净。

3.干燥处理：清洗后的塑料制品进行干燥处理，以去除水分，保证表面干燥。

4.封边处理：在塑料制品上涂上一层胶带，保护塑料制品边缘和表面，同时提高粘附力。

5.放置位置：将塑料制品放置在真空镀膜设备中的夹具上，确保塑料制品表面整洁。

6.制备镀膜材料：在真空镀膜设备中，将需要制备的镀膜材料放入加热器中进行加热，以制备镀膜材料。

7.真空环境：将镀膜设备密封，并将其置于真空状态下，以去除所有空气。

8.镀膜处理：将制备好的镀膜材料通过电子束熔化，形成蒸汽，沉积在塑料制品表面形成镀膜。

9.完成处理：镀膜结束后，将塑料制品从夹具上取下，去除胶带，检查表面质量，确保镀膜质量。

最终，完成了深圳塑胶真空镀膜的工艺。

真空镀膜（PVD）工艺知识介绍简介真空镀膜（Physical Vapor Deposition，简称PVD）是一种常用于表面修饰和功能改善的工艺。

通过在真空环境中蒸发或溅射物质来形成薄膜，将薄膜沉积在基材上，以改变基材的性质和外观。

本文将介绍PVD工艺的原理、应用和优势。

PVD工艺原理在PVD工艺中，基材和目标材料被放置在真空环境中。

通过热蒸发或物理溅射的方式，目标材料从固态转化为气态。

这些气体分子会沉积在基材上，形成一层薄膜。

PVD工艺常用的方法有热蒸发和物理溅射。

热蒸发是将目标材料加热至其沸点以上，使其转化为气态，然后沉积在基材上。

而物理溅射则是通过向目标材料表面轰击高能粒子，将其击打下来沉积在基材上。

PVD工艺的应用PVD工艺在多个领域得到了广泛应用。

装饰性涂层PVD工艺可以制备具有不同颜色、质感和光泽度的涂层，用于装饰各种产品，如钟表、珠宝、手袋、饰品等。

常见的装饰性涂层有黄金色、玫瑰金色、银色和黑色等。

防腐蚀涂层PVD工艺可以形成陶瓷涂层、金属涂层或复合涂层，这些涂层具有良好的耐腐蚀性能，可保护基材免受化学腐蚀、氧化和磨损的影响。

这些涂层常用于汽车、航空航天、电子产品等领域。

功能性涂层PVD工艺还可以制备具有特殊功能的涂层，如光学涂层、导电涂层和磁性涂层。

光学涂层可用于改善光学性能，导电涂层可用于制作导电膜，磁性涂层可用于制造磁性材料。

PVD工艺的优势相比其他表面处理工艺，PVD工艺具有以下几个优势：高质量涂层PVD工艺可以制备高质量的涂层，具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损和耐腐蚀等特性。

这些特性使得PVD涂层在各种应用中表现出色。

环保节能PVD工艺不需要使用有机溶剂和其他有害化学物质，对环境友好。

同时，PVD 涂层具有较高的附着力和耐用性，可延长基材的使用寿命，减少资源消耗。

精密控制PVD工艺可以实现对涂层厚度、成分和结构的精确控制。

通过调整工艺参数，可以得到所需的涂层特性，以满足不同应用的需求。

真空镀膜原理
真空镀膜技术是一种在真空条件下将金属或非金属材料蒸发或溅射到基材表面
形成一层薄膜的工艺。

这种技术被广泛应用于光学、电子、建筑等领域，具有很高的经济效益和社会效益。

首先，真空镀膜的原理是基于蒸发和溅射的物理过程。

在真空环境中，利用电
子束、阴极电弧、离子束等方法，将金属或非金属材料加热至一定温度，使其蒸发或溅射到基材表面，形成一层均匀的薄膜。

这种薄膜可以改变基材的光学、电学、机械等性能，从而提高其使用性能。

其次，真空镀膜的原理还涉及到薄膜的成核和生长过程。

在蒸发或溅射过程中，蒸发物质会在基材表面成核形成微小晶粒，随着时间的推移，这些微小晶粒会逐渐生长并形成致密的薄膜。

因此，控制薄膜的成核和生长过程对于薄膜的性能具有重要影响。

此外，真空镀膜的原理还包括了薄膜的结构和成分控制。

通过调节蒸发或溅射
的工艺参数，可以控制薄膜的结构和成分，从而实现对薄膜性能的调控。

例如，可以通过改变蒸发速率、基材温度、薄膜厚度等参数，来调节薄膜的晶体结构、成分含量、应力状态等性能。

最后，真空镀膜的原理还需要考虑薄膜与基材的结合问题。

在真空镀膜过程中，薄膜与基材之间会存在一定的结合问题，这涉及到界面的结合机制和界面的稳定性。

因此，在真空镀膜过程中，需要考虑如何提高薄膜与基材的结合强度，以确保薄膜的使用寿命和稳定性。

总的来说，真空镀膜的原理涉及到蒸发和溅射的物理过程、薄膜的成核和生长
过程、薄膜的结构和成分控制，以及薄膜与基材的结合问题。

通过对这些原理的深入理解和掌握，可以更好地应用真空镀膜技术，实现对材料性能的调控和提升。