安全告知卡牌之三氟化氮NF3

三氟化氮用途
三氟化氮，化学式为NF3，是一种无色、有毒的气体，具有强氧化性和低燃点。

它具有多种用途，下面将分别介绍。

1. 半导体制造
三氟化氮是半导体制造过程中的重要化学品。

在制造晶体管、集成电路等器件时，需要将硅片表面清洗干净，以便后续的刻蚀和沉积。

三氟化氮可以有效地清洗硅片表面，去除表面的有机和无机杂质，使硅片表面变得更加平整和洁净。

此外，三氟化氮还可以用于刻蚀硅片表面，制造微小的电路结构。

2. 金属加工
三氟化氮还可以用于金属表面的清洗和涂层制备。

在金属表面清洗过程中，三氟化氮可以有效地去除表面的油污和氧化物，减少后续处理的难度。

在金属涂层制备过程中，三氟化氮可以作为一种氟化剂，将金属表面氟化处理，增加其表面能和附着力，提高涂层的质量和耐久性。

3. 消防用途
三氟化氮还可以用于消防用途。

由于其具有低燃点和高氧化性，可以用作灭火剂，将火灭掉。

同时，三氟化氮不会对被灭火物品造成损害，不会留下任何残留物，因此被广泛应用于电子设备、图书馆、
档案室等重要场所的消防系统中。

4. 温室气体控制
三氟化氮也被认为是一种温室气体，它的温室效应比二氧化碳还要强大。

因此，对于控制全球气候变化来说，控制三氟化氮的排放也是非常重要的。

目前，一些国家已经开始对三氟化氮的排放进行限制和监管。

总的来说，三氟化氮是一种重要的化学品，具有广泛的用途。

在使用过程中，需要注意其毒性和危险性，遵守相关的安全规定和操作规程，确保使用安全。

Safetygram-28安全程序-28 Nitrogen Trifluoride (NF3) Safe Handling Practices三氟化氮(NF3)安全操作实践1. General概述三氟化氮（NF3）是有毒、无色、无嗅、不可燃的氧化性压缩气体。

NF3具有在室温条件下相对容易使用和可以用作氟化剂的优点。

由于这些因素，它在许多应用中获得了广泛的认可。

由于它的优点，如高蚀刻率、高选择性、无碳蚀刻和最小限度的残留污染，电子工业把它用在等离子和热清洁应用中。

由于它相对于氟气更容易使用，NF3在高能化学激光器中用作氟源。

在特殊化学品的生产中N F3还用作媒介。

NF3有多种等级，由于Air Products发展的先进的净化技术，还有纯度超过的99.999 %的NF3。

表1列出了NF3的物理和化学性质。

2. Key Considerations关键的考虑Health Effects对健康的影响皮肤接触NF3是没有危险的。

对于眼睛和黏膜，它是一个相对程度较轻的刺激物。

过量吸入NF3会导致血色素转化成高铁血红蛋白。

高铁血红蛋白的形成减少了身体组织可以得到的氧的数量。

这会导致化学黄萎病、头痛、眩晕、虚弱、昏聩和其它伴随着氧气供应减少的表现。

作为高铁血红蛋白症的次要影响，会发生溶血性贫血、脾扩大和肝、肾、心肌的病变，这些影响是不可逆转的。

在NF3暴露停止后，高铁血红蛋白转化回血红素。

高铁血红蛋白症会在几个小时后自动消失，而溶血性贫血需要几个星期才能解除。

Toxicological Properties毒物学性质Inhalation吸入L C50 = 6,700 ppm (1 hour小时) rat鼠对于测试的所有物种，急性暴露于高浓度NF3的直接影响是大范围高铁血红蛋白形成和并发的组织缺氧。

随后的通常是会导致肝、肾、脾和有时候的心脏病变的溶血性贫血。

在已经吸入了NF3的狗和猴子身上还观察到了呕吐。

老鼠通过吸入暴露在100 ppm NF3中连续19周，每周5天，每天7小时，导致了肝和肾的轻微到中度的病变。

三氟化氮热解塔
三氟化氮（NF3）是一种无色、无味的气体，具有强烈的刺激性和毒性。

热解塔是指在化工过程中用于对三氟化氮等物质进行热分解或处理的设备。

三氟化氮是一种温室气体，它的全球变暖潜势比二氧化碳高约17000倍，对大气臭氧层的破坏能力也很强。

它主要用于电子产品制造过程中的清洗剂和气体放电设备中的灭火剂。

热解塔是通过加热将三氟化氮分解为氮气和氟化氢的过程。

这个过程可以减少三氟化氮的排放，从而减缓其对环境的影响。

热解塔通常由加热装置、反应器、冷却系统和收集系统等组成。

在热解塔中，三氟化氮通过加热被分解成氮气和氟化氢，其中氮气可以被释放或用于其他用途，而氟化氢则需要经过去除和处理，以避免对环境和人体健康造成危害。

热解塔是一项重要的环保措施，可以帮助降低三氟化氮的排放量，减少其对大气环境的负面影响。

同时，合理设计和操作热解塔也能确保工艺的安全性。

三氟化氮化学式三氟化氮是一种由氮和氟元素组成的化合物，其化学式为NF3。

它具有一些特殊的性质和应用，下面将对其进行详细介绍。

三氟化氮是一种无色气体，在常温常压下呈现出刺激性气味。

它具有较高的沸点和较低的熔点，可以在低温下液化。

三氟化氮是一种相对稳定的化合物，不易分解，但在高温或有机物存在的条件下会发生剧烈反应。

它是一种极具氧化性的物质，可以与许多物质发生反应，包括水、氨和有机物。

三氟化氮具有广泛的应用领域。

首先，它被广泛用作半导体和光电子工业的清洗剂。

由于其高度活性和良好的清洗能力，三氟化氮可以有效地去除半导体材料表面的有机污染物，保证器件的性能和稳定性。

此外，三氟化氮还可以用于清洗光学元件和光学薄膜，保证其光学性能。

三氟化氮还可以用作氟化剂，用于有机合成反应中。

由于其强氧化性，三氟化氮可以将有机物中的氢原子取代为氟原子，从而改变有机物的性质和化学活性。

这种氟化反应在药物合成、材料科学和农药制造等领域具有重要的应用价值。

三氟化氮还被用作电子工业的辅助气体。

在半导体制造过程中，三氟化氮可以用来清洗制造设备和保护气氛。

它可以有效地去除设备表面的有机污染物和氧化物，保证产品的质量和性能。

同时，三氟化氮还可以作为半导体生长过程中的载气，提供适当的气氛条件，促进材料的生长和形成。

然而，尽管三氟化氮具有广泛的应用，但它也存在一些潜在的危险性和环境问题。

三氟化氮是一种温室气体，它的排放会导致大气中温室效应的增强，对地球的气候变化产生负面影响。

此外，三氟化氮在大气中的寿命较长，不易分解，可能会对大气层造成破坏。

因此，在使用和处理三氟化氮时，需要采取适当的安全措施和环保措施，减少对环境的影响。

三氟化氮是一种具有特殊性质和广泛应用的化合物。

它在半导体和光电子工业中的清洗作用、有机合成中的氟化反应以及电子工业中的辅助气体等方面发挥着重要作用。

然而，由于其潜在的危险性和环境问题，我们需要谨慎使用和处理三氟化氮，保证其安全性和环境友好性。

三氟化氮NF3气体在高能化学激光、电子工业(IC)以及太阳能光电产业等方面具有非常广泛的应用。

目前，黎明院拥有一条年产500吨的NF3生产线，其生产工艺、设备均处于国内领先地位。

主要用途：NF3的三个主要用途，一是用作高能化学激光气的氟源，二是作为电子工业(IC)中的蚀刻剂、清洗剂，三是应用于太阳能光电产业。

NF3其它用途：生产全氟铵盐，用作填充气体以增加灯泡的寿命和亮度，在采矿和火箭技术中用作氧化剂等。

物化性质：NF3在室温和大气压力下是无色、稳定和有毒的气体。

相对分子质量为71.002，沸点为-12 9.06℃。

NF3在室温下较稳定，但在800~1200℃下发生猛烈分解；NF3是一种有潜力的氧化剂，特别是在约200℃时，其反应性与氧相当；NF3在与其它元素反应时主要用作氟化剂；NF3在常温下不与水、稀酸和稀碱溶液反应，但在100℃下与碱性溶液接触时会缓慢水解生成亚硝酸盐及氟化物，在电火花作用下，NF3可与水猛烈反应；NF3与H2或氢化物可快速反应并放出大量的热，该反应是NF3用于高能化学激光器的基础；NF3可与有机物作用，但通常需升高温度以引发反应，因而常常发生爆炸；在低于70℃时NF3气体对普通金属不腐蚀，因此可用钢、不锈钢、镍、铜和铝等材料制作相关设备。

安全数据：NF3是一种有毒、不可燃的压缩气体；无气味，但其中所含的杂质使它闻起来有发霉的气味；暴露极限: OSHA: PEL=10ppm. ACGIH: TWA/TLV=10ppm. NIOSH: 1000ppm.当进入浓度超项目(体积分数）指标过暴露极限的泄方区时需配备自给式呼吸器(SCBA)；氧化剂，会引起或促进金属和非金属物质的燃烧，特别是温度超过200℃时；燃烧产物有毒；的任何系统都不应有油、油脂和其它有机物；使用NF3的气瓶不允许在高于52℃的环境下使用、贮存储于钢瓶中，压力小于1500psig，盛装NF3存和运输。

包装规格：包装：高压无缝碳钢钢瓶包装规格：47L国标或DOT瓶、470L Y瓶等。

三氟化氮清洗的基本原理1. 引言三氟化氮（NF3）是一种无色、无臭、可燃的气体，具有强大的氧化性和高度的化学稳定性。

它被广泛应用于半导体制造业中，主要用于清洗半导体设备中的残留杂质和有机物。

NF3清洗技术在半导体制造过程中具有重要的意义，可以提高产品质量、延长设备寿命、降低能耗和环境污染。

2. NF3清洗的原理NF3清洗的基本原理是通过氧化还原反应和氟化反应将有机物和杂质转化为易挥发的气体，从而实现清洗效果。

下面将详细介绍NF3清洗的原理。

2.1 氧化还原反应NF3具有很强的氧化性，可以与有机物发生氧化反应。

当NF3与有机物接触时，有机物中的氢原子被氧化为水，同时有机物的碳原子被氧化为二氧化碳。

这种氧化反应可以有效地将有机物转化为易挥发的气体，从而实现清洗效果。

例如，当NF3与有机溶剂（如甲醇、乙醇等）接触时，NF3会与有机溶剂发生氧化反应，生成水和二氧化碳：3 NF3 + CH3OH → 3 F2 + CO2 + 3 H2O2.2 氟化反应NF3还可以与一些金属表面发生氟化反应。

在半导体制造过程中，NF3常用于清洗半导体设备中的金属表面，如硅片表面、金属管道表面等。

当NF3与金属表面接触时，NF3会与金属表面发生氟化反应，生成易挥发的金属氟化物。

例如，当NF3与硅片表面接触时，NF3会与硅片表面的氧化层发生氟化反应，生成气态的二氟化硅：3 NF3 + 2 SiO2 → 3 F2 + 2 SiF4 + 3 O2这样，通过氟化反应可以将金属表面上的杂质转化为易挥发的气体，从而实现清洗效果。

2.3 清洗过程NF3清洗的过程通常包括以下几个步骤：2.3.1 预处理在NF3清洗之前，需要对待清洗的设备进行预处理。

预处理的目的是去除设备表面的尘埃、油污等杂质，以便NF3能够更好地与设备表面接触。

2.3.2 NF3清洗NF3清洗的过程中，NF3气体通过喷嘴或喷雾头喷洒到待清洗的设备表面。

NF3与设备表面接触后，会发生氧化还原反应和氟化反应，将有机物和杂质转化为易挥发的气体。

高纯三氟化氮(NF3)气体产品中船重工第七一八研究所（简称PERIC）从事三氟化氮的研制和生产已有30多年的历史，是国内唯一有能力稳定生产高纯三氟化氮气体的企业。

PERIC生产的高纯三氟化氮气体产品拥有有完全自主知识产权，产品质量达到国际先进水平。

目前，PERIC具备年产450吨高纯三氟化氮气体的生产能力，能够为客户提供纯度为99.995%及99.995%以下各种级别的三氟化氮气体，产品销往日本、法国、美国、新加坡和马来西亚等国家和台湾地区。

PERIC生产的“派瑞”品牌三氟化氮气体产品获得“国家重点新产品”荣誉称号，凭借优质的产品质量和售后服务，建立了良好的信誉和较高的知名度。

在未来的发展中，PERIC 将根据市场需求，全力进行特种电子气体和医药中间体等新产品新技术的研发和产业化，做大做强“派瑞”品牌，为我国的半导体、液晶显示器、薄膜光伏电池和医药行业的发展贡献力量。

气体物化特性包装( Cylinder（47L）、Bundle(16×47L)、Bundle(25×47L)、 Y-Cylinder(470L)、 ISO等)储存及运输三氟化氮气瓶应储存于阴凉、通风仓库内。

三氟化氮气瓶应远离火种、热源、防止阳光直射，与还原剂、易燃或可燃物等分开存放。

三氟化氮气瓶在搬运时要轻装、轻卸，防止钢瓶及附件破损。

三氟化氮气瓶的运输按危险品运输。

运输时用气瓶固定架将三氟化氮气瓶固定好，用汽车公路运输或用轮船集装箱运输。

泄漏应急处理如遇有三氟化氮气体泄露，工作人员要马上撤离泄漏污染区，并尽可能采取措施阻止三氟化氮气体的进一步泄露。

如有工作人员中毒，应立即送往医院救治。

泄露现场要尽快处理，处理泄露现场的工作人员必须配戴必要的防毒面具，最好是自给正压式呼吸器。

泄露现场经检测无危害气体后方可进入工作人员，泄露容器必须经仔细检查、维修或妥善处理好后方可继续使用。

三氟化氮气体产品质量标准（Q/718J58-2007）/gyxs.asp?id=3。

危险化学品安全标签
三氟化氮Nitrogen trifluoride 浓度或浓度范围：三氟化氮：100%
危险！
可能导致或加剧燃烧；氧化剂。

内装高压气体；遇热可能爆炸。

吸入有害。

长期或反复接触可能对器官造成伤害。

【预防措施】
——远离热源/火花/明火/热表面。

禁止吸烟。

——作业后彻底清洗。

——戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。

——避免吸入粉尘/烟/气体/烟雾/蒸气/喷雾。

——只能在室外或通风良好处使用。

【事故响应】
——火灾时：如能保证安全，设法堵塞泄漏。

——如误吸入：将人转移到空气新鲜处，保持呼吸舒适体位。

——如感觉不适，呼叫解毒中心/医生
——如感觉不适，须求医/就诊。

【安全储存】
——存放在通风良好的地方。

保持容器密闭。

——存放处须加锁。

【废弃处置】
——按当地法规处置内装物/容器。