研磨与抛光
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1.述模具研磨与抛光的目的。
2.简述研磨与抛光的基本原理及分类。
3.何选择研磨工具和确定研磨余量?4.确定是否选用抛光工艺的依据是什么?5.抛光方向如何选择?抛光中可能产生的缺陷是什么?简述产生的主要原因及防止措施。
1.主要目的:降低零件表面粗糙度、提高表面形状精度和增加表面光泽。
2.研磨机理:研磨时,研具的研磨面上均匀的涂有研磨剂,当研具和工件在压力作用下做相对运动时,研磨剂对工件表面产生微切削作用,从而时工件得到高的尺寸精度和低的表面粗糙度值;当采用氧化铬、硬脂酸等研磨剂时,研磨剂和被加工表面产生化学作用,形成一层极薄的氧化膜,这层氧化膜很容易被磨掉,在研磨过程中氧化膜不断迅速形成,又很决被磨掉,如此反复,使被加工表面的粗糙度值降低。
研磨的分类:(1)按按研磨抛光中的自动化程度划分:1)手工研磨;2)半机械研磨;3)机械研磨。
(2)按研磨剂的使用条件:1)湿研磨;2)干研磨;3)半干研磨。
抛光的机理:抛光是利用柔性抛光工具和微细磨料颗粒或其他拋光介质对工件表面进行的修饰加工,去除前工序留下的加工痕迹(如:刀痕、磨纹、麻点、毛刺)。
抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度,而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的。
抛光与研磨的机理是相同的,人们习惯上把使用硬质研具的加工称为研磨,而使用软质研具的加工称为抛光。
抛光的分类:按照不同的抛光要求,可分为普通抛光和精密抛光。
3.研具的选择:根据被加工工件的材料性能及其加工表面的形状来选择研具的材料、类型及硬度等参数。
研磨余量的确定:零件在研磨前的预加工,需有足够的尺寸精度、几何形状精度和表面粗糙度。
对表面积大或形状复杂且精度要求高的工件,研磨余量应取较大值。
预加工的质量高,研磨量取较小值。
研磨余量还应结合工件的材质、尺寸精度、工艺条件及研磨效率等来确定。
研磨余量尽量小,一般手工研磨不大于10μm,机械研磨也应小于15μm。
4.是否选用抛光工艺的依据:前道工序加工后得到的工件的表面粗糙度没有达到零件的粗糙度要求或者加工表面存在划伤和压痕等表面缺陷。
研磨与抛光的区别
很早以前看过这样一个报道,说是德国、日本等几个国家的科学家耗时5年时间,花了近千万元打造了一个高纯度的硅-28材料制成的圆球,这个1kg纯硅球要求超精密加工研磨抛光,精密测量(球面度,粗糙度,质量..),可谓是世界上最圆的球了。
关于这个圆球的故事
我们明天会具体的介绍一下
今天我们主要是想通过这个视频
来介绍一下超精密抛光工艺
我们经常把研磨和抛光放在一起讲,因为零件经过这两个工序的粗糙度已经十分小了。
首先咱们了解一下它们的区别。
研磨与抛光的区别
研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。
研磨可用于加工各种金属和非金属材料,加工的表面形状有平面,内、外圆柱面和圆锥面,凸、凹球面,螺纹,齿面及其他型面。
加工精度可达IT5~IT1,表面粗糙度可达Ra0.63~0.01微米。
抛光是利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。
两者的主要区别在于:抛光达到的表面光洁度要比研磨更高,并且可以采用化学或者电化学的方法,而研磨基本只采用机械的方法,所使用的磨料粒度要比抛光用的更粗,即粒度大。
现代电子工业,超精密抛光是灵魂
超精密抛光技术在现代电子工业中所要完成的使命,不仅仅是平坦化不同的材料,而且要平坦化多层材料,使得几毫米见方的硅片通过这种‘全局平坦化’形成上万至百万晶体管。
第5章模具的研磨与抛光模具的研磨与抛光是以降低零件外表粗糙度,提高外表形状精度和增加外表光泽为主要目的,属光整加工,可归为磨削工艺大类。
他们研磨与抛光在工作成形理论上很相似,一般用于产品、零件的最终加工。
现代模具成形外表的精度和外表粗糙度要求越来越高,特别是高精度、高寿命的模具要求到μm级的精度。
一般的磨削外表不可防止要留下磨痕、微裂纹等缺陷,这些缺陷对一些模具的精度影响很大,其成形外表一部分可采用超精密磨削加工到达设计要求,但大多数异型和高精度外表大都要进行研磨与抛光加工。
对冲压模具来讲,模具经研磨与抛光后,改善了模具的外表粗糙度,利于板料的流动,减小流动阻力,极大地提高了成形零件的外表质量,特别是对于汽车外覆盖件尤为明显。
经研磨刃口后的冲裁模具,可消除模具刃口的磨削伤痕,使冲裁件毛刺高度减少。
塑料模具型腔研磨、抛光后,极大地提高型腔外表质量,提高成形性能,满足塑件成型质量的要求、塑件易于脱模。
浇注系统经研磨、抛光后,可降低注射时塑料的流动阻力。
另外研磨与抛光可提高模具接合面精度,防止树脂渗漏,防止出现沾粘等。
电火花成型的模具外表会有一层薄薄的变质层,变质层上许多缺陷需要用研磨与抛光去处。
另外研磨与抛光还可改善模具外表的力学性能,减少应力集中,增加型面的疲劳强度。
研磨的基本原理与分类研磨是一种微量加工的工艺方法,研磨借助于研具与研磨剂〔一种游离的磨料〕,在工件的被加工外表和研具之间上产生相对运动,并施以一定的压力,从工件上去除微小的外表凸起层, 以获得很低的外表粗糙度和很高的尺寸精度、几何形状精度等,在模具制造中,特别是产品外观质量要求较高的精密压铸模、塑料模、汽车覆盖件模具应用广泛。
1.研磨的基本原理1〕物理作用研磨时,研具的研磨面上均匀地涂有研磨剂,假设研具材料的硬度低于工件,当研具和工件在压力作用下做相对运动时,研磨剂中具有尖锐棱角和高硬度的微粒,有些会被压嵌入研具外表上产生切削作用〔塑性变形〕,有些则在研具和工件外表间滚动或滑动产生滑擦〔弹性变形〕。
研磨与抛光的步骤及注意事项研磨与抛光是一种常见的表面处理技术,用于改善材料表面的质量和外观。
无论是金属、木材还是塑料等材料,都可以通过研磨与抛光来获得光滑、平整和亮丽的表面。
本文将介绍研磨与抛光的步骤及注意事项,以帮助读者更好地了解和掌握这一技术。
一、研磨的步骤及注意事项1.准备工作:首先,需要准备好研磨所需的工具和材料,包括砂纸、研磨机、研磨液等。
同时,要确保工作区域干净整洁,以防止杂质进入研磨过程。
2.粗研磨:在进行粗研磨前,要先确定研磨的目标和要求。
根据需要,选择合适的砂纸颗粒大小,然后用研磨机将砂纸固定好。
在研磨过程中,要保持适当的压力和速度,避免过度研磨或过快研磨导致材料损坏。
3.中研磨:中研磨是在粗研磨后进行的,主要目的是去除粗研磨过程中留下的痕迹和磨损。
同样,选择合适的砂纸和研磨液,并控制好研磨的压力和速度,以免影响研磨效果。
4.细研磨:细研磨是在中研磨后进行的最后一道研磨工序。
此时,要使用更细的砂纸,并配合适当的研磨液进行研磨。
细研磨的目的是去除中研磨过程中留下的微小痕迹,使表面更加光滑。
5.清洁与检查:研磨完成后,需要对材料进行清洁,以去除研磨过程中产生的污垢和残留物。
同时,仔细检查研磨后的表面,确保其符合要求。
二、抛光的步骤及注意事项1.准备工作:与研磨类似,抛光也需要准备好相应的工具和材料,如抛光机、抛光毛刷、抛光膏等。
同样,要保持工作区域的干净整洁,以确保抛光效果。
2.粗抛光:粗抛光是最先进行的一道工序,主要用于去除研磨过程中残留的痕迹和瑕疵。
根据需要选择合适的抛光毛刷和抛光膏,并控制好抛光机的转速和压力,以获得理想的抛光效果。
3.中抛光:中抛光是在粗抛光后进行的,目的是进一步改善表面质量和光洁度。
同样,选择合适的抛光毛刷和抛光膏,并控制好抛光机的参数,以获得满意的中抛光效果。
4.细抛光:细抛光是最后一道抛光工序,主要用于提高表面的光亮度和光滑度。
在细抛光时,要选择最细的抛光毛刷和抛光膏,并进行适当的抛光处理,以获得最终的抛光效果。
研磨加工与抛光加工的机理一、研磨加工的机理1.研磨时磨料的工作状态1)磨粒在工件与研具之间发生滚动,产生滚轧效果;2)磨粒压入到研具表面,用露出的磨粒尖端对工件表面进行刻划,实现微切削加工;3)磨粒对工件表面的滚轧与微量刻划同时作用。
2.硬脆材料的研磨一部分磨粒由于研磨压力的作用,嵌入研磨盘表面,用露出的尖端刻划工件表面进行微切削加工;另一部分磨粒则在工件与研磨盘之间发生滚动,产生滚轧效果。
在给磨粒加压时,就在硬脆材料加工表面的拉伸应力最大部位产生微裂纹。
当纵横交错的裂纹扩展并产生脆性崩碎形成磨屑,达到表面去除的目的。
3.金属材料的研磨当金属表面用硬度计压头压入时,只在表面产生塑性变形的压坑,不会发生脆性材料那样的破碎和裂纹。
研磨时,磨粒的研磨作用相当于极微量切削和磨削时的状态,且表面不会产生裂纹。
二、抛光加工的机理抛光的机理:1)以磨粒的微小塑性切削生成切屑,但是它仅利用极少磨粒强制压入产生作用。
2)借助磨粒和抛光器与工件流动摩擦使工件表面的凸凹变平。
三、研磨、抛光的加工变质层不管采取什么加工方法,或多或少要在被加工表面上产生加工变质层,加工变质层使工件材质的结构、组织和组成遭到破坏或接近于破坏状态,使工件表面的力学性能、物理化学性能与母体材料不同,进而影响制成元件的性能,因此在超精密研磨抛光中要求变质层越薄越好。
硬脆材料研磨后的表面,从表层向里依次为:非晶体层或多晶体层、镶嵌结构层、畸变层和完全结晶结构,从弹塑性力学的角度评价变质层,依次为:极薄的塑性流动层、有异物混入的裂纹层、裂纹层、弹性变形层和母体材料。
金属材料研磨后的加工表面变质层与硬脆材料类似。
对于抛光加工后的加工变质层,由表层向里依次为:抛光应力层、经腐蚀出现的二次裂纹应力层、二次裂纹影响层和完全结晶层,整个加工变质层深度约为3μm。
并且加工表面越粗,加工变质层深度越大。
参考资料:/。
研磨与抛光的步骤研磨与抛光是一种常见的表面处理方法,用于改善材料的光洁度和光亮度。
本文将介绍研磨与抛光的步骤及其作用。
一、研磨的步骤1.选择合适的研磨材料和设备。
研磨材料可以是砂纸、砂轮、研磨片等,设备可以是手工研磨工具或机械研磨设备。
2.清洁工作。
在进行研磨之前,需要先清洁待处理的材料表面,以去除灰尘、油污等杂质,确保研磨效果。
3.粗研磨。
使用较粗的研磨材料,对材料表面进行初步研磨。
这一步的目的是去除材料表面的粗糙度和不平整部分。
4.中研磨。
使用中等粒度的研磨材料,对材料表面进行进一步的研磨。
这一步的目的是进一步减小表面的粗糙度,并使表面更加平整。
5.细研磨。
使用较细的研磨材料,对材料表面进行细致的研磨。
这一步的目的是进一步减小表面的粗糙度,使表面更加光滑。
6.清洗工作。
在完成研磨后,需要对材料表面进行清洗,以去除研磨时产生的残留物和污垢。
二、抛光的步骤1.选择合适的抛光材料和设备。
抛光材料可以是研磨膏、抛光液等,设备可以是手工抛光工具或机械抛光设备。
2.涂抹抛光材料。
将适量的抛光材料涂抹在待处理材料表面,均匀分布。
3.进行抛光。
使用抛光工具,对材料表面进行抛光。
抛光时,可以根据需要选择合适的抛光速度和压力。
4.反复抛光。
根据需要,可以进行多次抛光,以达到期望的抛光效果。
5.清洗工作。
在完成抛光后,需要对材料表面进行清洗,以去除抛光时产生的残留物和污垢。
三、研磨与抛光的作用1.改善表面光洁度。
研磨与抛光可以去除材料表面的粗糙度和不平整部分,使表面更加光滑。
2.提高表面光亮度。
通过研磨与抛光,可以使材料表面反射光线更加均匀,提高光亮度。
3.消除表面缺陷。
研磨与抛光可以消除材料表面的划痕、氧化层等缺陷,使表面更加平整。
4.增强表面耐腐蚀性。
研磨与抛光可以去除材料表面的氧化层和污垢,减少与外界环境的接触,从而提高材料的耐腐蚀性。
总结:研磨与抛光是一种常见的表面处理方法,能够改善材料的光洁度和光亮度。
研磨与抛光的步骤第一步:准备工作在进行研磨与抛光之前,首先要进行一些准备工作。
清洁物体表面,去除杂物和灰尘,以确保研磨过程中不会产生污染物。
同时,检查表面有无明显的破损或凹凸不平的地方,这些地方需要提前修复。
选择合适的研磨和抛光材料,如砂纸、研磨布、研磨膏等。
第二步:研磨研磨是将研磨材料与物体表面进行摩擦,通过磨削和磨蚀的方式去除表面的瑕疵和不平整,使得表面变得光滑细腻。
研磨过程中,可以选择不同粒度的研磨材料,从粗研磨到细研磨,逐渐使表面变得光滑。
首先,使用粗砂纸或研磨布对表面进行初步的研磨。
将砂纸或研磨布固定在研磨工具上,以适当的压力和速度进行研磨,注意保持均匀的力度和方向。
在研磨的过程中,可以根据需要调整研磨材料的粗细度,以达到理想的研磨效果。
接下来,逐渐降低研磨材料的粗细度,使用细砂纸或研磨布进行再次研磨。
与初步研磨相比,这一步骤更加注重细节和平整度,需要进行更加耐心和仔细的操作。
根据表面的不同要求,可以反复进行多次细研磨,直到达到期望的效果为止。
第三步:抛光抛光是在研磨的基础上进一步提高光亮度和细致度的操作。
通过抛光,可以使得表面达到更高的抛光性能和精度,使得物体表面呈现出非常光滑和亮度较高的效果。
抛光主要是通过使用抛光材料和工具,通过创造细微的研磨颗粒来进行操作。
首先,选择合适的抛光材料和抛光工具。
抛光材料可以选择抛光膏、抛光液等,抛光工具可以是抛光盘、抛光刷等。
在选择抛光材料和工具时,要根据表面的材质和形状以及抛光的要求进行合理的选择。
然后,将抛光材料涂抹在抛光工具上,以适当的速度和压力进行抛光。
在进行抛光的过程中,可以采用不同的抛光方法,如旋转抛光、振动抛光、手工抛光等,根据不同的实际情况选择最适合的抛光方法。
最后,完成抛光后要对物体表面进行清洁,去除抛光材料的残留物,使得表面保持干净和光滑。
如果需要进一步提高抛光效果,可以进行后续的涂层处理,如镀膜、喷涂等。
总结起来,研磨与抛光步骤主要包括准备工作、研磨和抛光三个方面。
研磨与抛光的步骤及注意事项研磨与抛光是一种常见的加工方法,用于改善材料表面的平整度、粗糙度和光洁度。
在许多行业中都会用到这种方法,例如机械加工、汽车修复和珠宝制造等。
下面是关于研磨与抛光的10个步骤以及注意事项的详细描述。
步骤1:准备工作在开始研磨与抛光之前,需要做一些准备工作。
清洁工作区,确保表面干净,没有杂质。
然后,准备好所需的研磨工具和材料,如砂纸、磨粉和抛光布等。
戴上适当的个人防护装备,如眼镜和手套。
步骤2:检查表面在开始研磨与抛光之前,需要检查待加工表面的状态。
如果表面有明显的瑕疵,如划痕或凹陷,可能需要先进行修复。
使用适当的修复工具,如砂纸或刮刀,将瑕疵处修平。
步骤3:粗磨粗磨是研磨与抛光的第一步,用于去除表面的较大粗糙度。
根据材料的硬度和要求,选择适当的研磨工具,如砂纸或砂轮。
将研磨工具以适当的压力和速度移动在表面上,直到达到所需的平整度。
步骤4:中磨中磨是粗磨之后的一步,用于去除粗磨过程中引入的细微瑕疵,并进一步提高表面的平整度。
使用较细的研磨工具,如砂纸或研磨石,以较小的压力和速度移动在表面上。
根据需要,可尝试不同的研磨工具和材料,以达到所需的表面质量。
步骤5:细磨细磨是研磨与抛光的最后一步,用于进一步提高表面的平整度和质量。
使用更细的研磨工具,如砂纸或研磨石,再次移动在表面上。
与前面的步骤类似,根据需要,可尝试不同的研磨工具和材料,以达到所需的表面质量。
步骤6:清洗表面在完成研磨步骤后,需要清洗表面,去除研磨工具和材料残留在表面上的污垢。
使用适当的清洁剂和工具,如洗碗液和海绵,轻轻擦洗表面。
确保彻底冲洗和干燥表面,以防止留下污点或水痕。
步骤7:选取抛光材料在开始抛光之前,需要选择适当的抛光材料。
根据材料的硬度和要求,选择合适的抛光工具和材料。
常见的抛光材料包括抛光膏、抛光粉和抛光布等。
步骤8:抛光使用选定的抛光工具和材料,开始进行抛光。
将抛光工具放置在表面上,并使用适量的压力和速度,以旋转或振动的方式移动在表面上。
教学案例十一研磨和抛光知识目标⒈学会研磨工艺;⒉学会抛光工艺;技能目标⒈掌握研磨方法;⒉掌握抛光方法;⒊能研磨工件;⒋能抛光工件。
任务描述手柄,如图11-1所示,材料:45#钢,分析零件加工工艺,编写工艺卡,加工该零件。
图11-1手柄任务分析如图11-1所示,手柄材料为45钢,加工时,注意保证零件的表面研磨和抛光均匀。
知识准备⒈研磨研磨可以改善工件的形状误差,获得很高的精度,同时还可以得到极小的表面粗糙度值。
在车床上常用手工研磨和机动研磨组合的方法对工件的内、外圆表面进行研磨。
⑴研磨工具的材料研具材料应比工件材质软,且组织要均匀,最好有微小的针孔,以使研磨剂嵌入研具作表面,提高研磨质量。
研具材料本身又要求较好的耐磨性,以使研具尺寸、形状稳定,从而保证研磨后工件的尺寸和几何形状精度。
常用的研具有以下几种:①灰铸铁。
灰铸铁是较理想、最常用的研具材料,适用于研磨各种淬火钢工件。
②铸造铝合金。
一般用于研磨铜料等工件。
③硬木材。
用于研磨软金属。
④轴承合金(巴氏合金)。
常用于软金属的精研磨。
⑵研磨剂研磨剂由磨料、研磨液及辅料混合而成。
①磨料。
一般磨料有以下几种,见表11-1。
表11-1常见磨料特点及适用场合目前工厂常用的是氧化铝和碳化硅两种微粉磨料。
这种磨料的粒度号用W+阿拉伯数字表示。
其中W表示微粉,阿拉伯数字代表磨粒的最大尺寸。
例如W14表示磨粒尺寸为10~14μm的微粉原料。
②研磨液。
光有磨料不能进行研磨,还必须加配研磨液和辅助材料:常用的研磨液为10号机油、煤油和锭子油。
加配研磨液是为了使微粉能均匀地分布在研具表面,同时还可起冷却和润滑作用。
③辅助材料。
加配辅助材料的目的是使工件表面形成氧化膜,以加速研磨过程。
所以辅助材料必须采用黏度大和氧化作用强的物质,混合脂则能满足此要求。
常用的辅助材料有硬脂酸、油酸、脂肪酸和工业甘油等。
为了方便,一般工厂都是在微粉中加入油酸、混合脂(或黄油、凡士林)以及少量煤油配置而成研磨膏。
研磨和抛光的原理和作用
研磨和抛光是一种通过摩擦和磨削来改善物体表面质量和光洁度的工艺。
它们常用于金属、陶瓷、玻璃、塑料等材料的加工和表面处理中。
研磨的原理是利用磨料颗粒与被加工物体表面的相互作用,通过磨削去除表面的不平整、氧化层、污染物等,从而得到更加平整、光滑的表面。
研磨可以采用手工或机械方式进行,常用的工具有砂纸、砂轮、研磨机等。
在研磨过程中,磨料颗粒与物体表面之间的摩擦力会产生热量,因此需要适当的冷却润滑剂来降低摩擦热的影响。
抛光是在研磨的基础上进一步提高表面光洁度和亮度的工艺。
它通常使用细小的磨料颗粒和抛光剂来进行,通过不断地磨削和摩擦,消除微小的划痕和凹陷,使表面更加光滑。
抛光的过程可以手工进行,也可以使用抛光机等设备。
抛光常用于制造高精度光学元件、珠宝、汽车零部件等领域,以提高产品的外观质量和光学性能。
总而言之,研磨和抛光通过磨削、摩擦和磨料颗粒的作用,改善物体表面的平整度和光洁度,从而达到提高质量和美观的目的。
很多人对平面研磨还不是很清楚,也很多朋友苦于找不到好的方法来处理物体表面的光色处理。
研磨和抛光是同一种,原理一样。
只是对于表面质量而言,抛光的比研磨
要更高一些其实可以说是研磨的后道工序,可以在同一台上同时实现研磨和抛光。
研磨分为,精磨,抛光则分为粗磨,精抛也叫光色镜面处理。
很多时候我们都是三道工序来进行产品表
面质量的加工:粗磨,精磨,镜面抛。
有了这三道工序,工件表面的,,粗糙度就相当高了。
有些客户精度要求没那么高的,特别是粗糙度要求没有那么高就只采用前两道工序,或者是
精磨这一道工序。
平面研磨就是在平整的表面上进行一个研磨,抛光工作,具体的要看工
件表面本身的质量,以及客户要求达到的质量。
就比如下图的表面就是经过平面研磨的产
品效果图:
研磨和抛光可以在同一台平面抛光机上实现,但是所用的配置却不一样。
研磨需要用研磨盘和,抛光则是用抛光液和抛光盘,,抛光布,等。
所用在一台平面抛光机上实现研磨和抛光时需要研磨后更换盘,液体等配置。
5.2.5型腔的研磨和抛光模具型腔 (型芯)经切削加工后,表面上残留有切削痕迹。
为了去除切削加工痕迹和提高模具表面质量,需要对其进行研磨抛光。
抛光和研磨在型腔加工中所占工时比重很大,是提高模具质量的重要工序,它不仅对成形制件的尺寸精度,表面质量影响很大,也影响模具的使用寿命。
研磨抛光的方法主要有:机械研磨和抛光、超声波抛光和电解抛光,这里主要讲机械研磨和抛光原理和工艺方法,超声波抛光和电解抛光在学习单元六中讲。
一、研磨的原理和目的1.研磨的原理研磨是在工件和工具(研具)之间加入研磨剂,在一定压力下由工具和工件间的相对运动,驱动大量磨粒在加工表面上滚动、滑擦,去除微细的金属层而使加工表面的粗糙度减小。
研磨加工时,在研具和工件表面间存在有分散的磨料或研磨剂,在两者之间施加一定的压力,并使其产生复杂的相对运动,这样经过磨粒的切削作用及研磨剂的化学和物理作用,在工件表面上即可去掉极薄的一层余量,获得较高的尺寸精度和较低的表面粗糙度。
根据实验表明,磨粒的切削作用如图5-68a所示,分为滑动切削作用和滚动切削作用两类。
前者磨粒基本固定在研具上,靠磨粒在工件表面移动进行切削;后者磨粒基本上是自由状态的,在研具和工件间滚动,靠滚动来切削。
在研磨脆性材料时,除上述作用外,还有如图5-68b 所示的情况,磨粒在压力作用下,使加工面产生裂纹,随着磨粒的运动,裂纹不断地扩大、交错,以致形成碎片,成为切屑脱离工件。
图5-68 研磨时磨粒的切削作用研磨时的金属去除过程,除磨粒的切削作用外,还常常由于化学或物理作用所致。
在湿研磨时,所用的研磨剂中除了有磨粒外,还常加有油酸、硬脂酸等酸性物质,这些物质会使工件表面产生一层很软的氧化物薄膜,钢铁成膜时间只要0.05s,氧化膜厚度约2~7μm。
凸点处的薄膜很容易被磨粒去除,露出的新鲜表面很快地继续氧化,继续被去掉,如此循环,加速了去除的过程。
除此之外,研磨时在接触点处的局部高温高压,也有可能产生局部挤压作用,使高点处的金属流入低点,降低了工件表面粗糙度。